JP6276982B2 - Spinner cleaning device - Google Patents

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本発明は、加工後の板状物をスピン洗浄した後に板状物の表面を乾燥させるスピンナー洗浄装置に関する。   The present invention relates to a spinner cleaning apparatus for drying a surface of a plate-like material after spin-washing the processed plate-like material.

加工後の板状物を洗浄する装置として、板状物を保持した保持テーブルを回転させながら、洗浄ノズルから板状物に向けて洗浄液を噴射するスピンナー洗浄装置が使用されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載のスピンナー洗浄装置では、保持テーブルを回転させながら、洗浄ノズルから洗浄液が噴射されて板状物が洗浄された後に、保持テーブルを回転させた状態でエアーノズルから板状物に乾燥エアーが吹き付けられる。これにより、板状物の表面に残った洗浄液が乾燥エアーで吹き飛ばされて、板状物の表面が乾燥される。   As a device for cleaning a processed plate-like object, a spinner cleaning device is used that sprays a cleaning liquid from a cleaning nozzle toward the plate-like object while rotating a holding table that holds the plate-like object (for example, a patent) Reference 1). In the spinner cleaning apparatus described in Patent Document 1, after the cleaning liquid is sprayed from the cleaning nozzle and the plate-like object is cleaned while rotating the holding table, the holding table is rotated to change the plate from the air nozzle to the plate-like object. Dry air is blown. Thereby, the cleaning liquid remaining on the surface of the plate-like object is blown off with dry air, and the surface of the plate-like object is dried.

特開2004−327613号公報JP 2004-327613 A

特許文献1に記載のスピンナー洗浄装置では、エアーノズルによって板状物の表面にスポット的に乾燥エアーを吹き付けて、エアーノズルを搖動させることで板状物の表面全域を乾燥させている。この場合、エアーノズルの吹き付け領域が狭いため、板状物の表面全域を乾燥させるのに長い時間を要するという問題がある。特に、近年ではチップサイズの大型化や生産性を向上させるために板状物の大口径化が図られており、板状物の大口径化に伴い乾燥時間が増大することが想定される。   In the spinner cleaning device described in Patent Document 1, dry air is sprayed on the surface of the plate-like material spot by the air nozzle, and the entire surface of the plate-like material is dried by swinging the air nozzle. In this case, since the blowing area of the air nozzle is narrow, there is a problem that it takes a long time to dry the entire surface of the plate-like object. Particularly, in recent years, in order to increase the chip size and improve the productivity, the plate-like material has been increased in diameter, and it is assumed that the drying time increases with the increase in the diameter of the plate-like material.

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、洗浄後の板状物の乾燥時間を短縮することができるスピンナー洗浄装置を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a point, and it aims at providing the spinner washing | cleaning apparatus which can shorten the drying time of the plate-shaped object after washing | cleaning.

本発明のスピンナー洗浄装置は、板状物を上面に保持する保持テーブルと、該保持テーブルを回転させる回転手段と、該保持テーブルに保持された板状物に対して噴射孔から洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、該洗浄ノズルを該保持テーブルの中心を通り径方向に移動させる洗浄ノズル移動手段と、該保持テーブルに保持された洗浄後の板状物に対して噴射口から乾燥エアーを噴射して板状物表面を乾燥するエアー噴射手段と、を備えるスピンナー洗浄装置であって、該エアー噴射手段は、該噴射口から板状物表面に噴射されたエアー噴射領域が板状物の外周側から回転中心に至る線状に噴射されるように該噴射口が形成された線状ノズルと、該線状ノズルを保持テーブルに対して移動させる線状ノズル移動部と、を備え、該エアー噴射領域が板状物の外周側から該保持テーブルの回転中心に至るように該噴射口を板状物に対して位置づけ且つ該保持テーブルの回転方向に対して対向する方向に該噴射口を向けて乾燥エアーを噴射しつつ該保持テーブルを回転させて洗浄後の板状物表面を乾燥する。 The spinner cleaning apparatus of the present invention sprays cleaning liquid from the ejection holes to the holding table that holds the plate-like object on the upper surface, the rotating means that rotates the holding table, and the plate-like object held on the holding table. A cleaning nozzle, a cleaning nozzle moving means for moving the cleaning nozzle in the radial direction through the center of the holding table, and spraying dry air from the injection port to the washed plate-like object held by the holding table An air injection means for drying the surface of the plate-like object, wherein the air injection means has an air injection region injected from the injection port onto the surface of the plate-like object on the outer peripheral side of the plate-like object. comprises a linear nozzle said injection port is formed so as to be injected linearly extending in the rotational center, and the linear nozzle moving section for moving the said linear nozzle with respect to the holding table, from, said air ejection Area Position the spray port with respect to the plate-shaped object so as to reach the rotation center of the holding table from the outer peripheral side of the shaped object, and direct dry air with the spray port facing in a direction opposite to the rotation direction of the holding table. The surface of the washed plate is dried by rotating the holding table while spraying.

この構成によれば、保持テーブルを回転させた状態で、洗浄ノズルから洗浄液が噴射されて板状物が洗浄された後に、エアー噴射手段の線状ノズルから乾燥エアーが噴射されて板状物が乾燥される。このとき、線状ノズルの噴射口からは、板状物の外周側から保持テーブルの回転中心に至る板状物の半径以上の長さの線状の乾燥エアーが、保持テーブルの回転方向に対向するように板状物表面に吹き付けられる。そして、線状に噴射された乾燥エアーの壁によって板状物表面から洗浄液が吹き飛ばされて板状物表面が乾燥される。すなわち、板状物表面には乾燥エアーによって板状物の半径以上のワイパーが形成され、この乾燥エアーのワイパーによって板状物表面から洗浄液が掻き取られる。このように、回転中の板状物に対して乾燥エアーを線状に噴射することで、板状物の表面全域から洗浄液を効率的に取り除いて板状物の乾燥時間を短縮することができる。   According to this configuration, with the holding table rotated, the cleaning liquid is sprayed from the cleaning nozzle to clean the plate-shaped object, and then the dry air is sprayed from the linear nozzle of the air spraying means to form the plate-shaped object. Dried. At this time, linear dry air having a length equal to or longer than the radius of the plate-like object extending from the outer peripheral side of the plate-like object to the rotation center of the holding table is opposed to the rotation direction of the holding table. It is sprayed on the surface of the plate-like object. And the washing | cleaning liquid is blown off from the plate-shaped object surface by the wall of the dry air sprayed linearly, and the plate-shaped object surface is dried. That is, a wiper having a radius equal to or larger than the radius of the plate-like material is formed on the surface of the plate-like material, and the cleaning liquid is scraped off from the surface of the plate-like material by the wiper of this dry air. Thus, by spraying dry air linearly onto the rotating plate-like object, the cleaning liquid can be efficiently removed from the entire surface of the plate-like object, and the drying time of the plate-like object can be shortened. .

本発明によれば、エアー噴射領域が板状物の半径以上の長さの線状になり、保持テーブルの回転方向に対向するように板状物表面に乾燥エアーが吹き付けられることにより、洗浄後の板状物の乾燥時間を短縮することができる。   According to the present invention, after the cleaning, the air injection region is linear with a length equal to or longer than the radius of the plate-like material, and the dry air is blown onto the plate-like surface so as to face the rotation direction of the holding table. The drying time of the plate-like material can be shortened.

本実施の形態に係る切削装置の斜視図である。It is a perspective view of the cutting device concerning this embodiment. 本実施の形態に係るスピンナー洗浄装置の斜視図である。It is a perspective view of the spinner washing | cleaning apparatus which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係るスピンナー洗浄装置による洗浄工程の説明図である。It is explanatory drawing of the washing | cleaning process by the spinner washing | cleaning apparatus which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係るスピンナー洗浄装置による乾燥工程の説明図である。It is explanatory drawing of the drying process by the spinner washing | cleaning apparatus which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係るエアー噴射手段による乾燥エアーの噴射状態の説明図である。It is explanatory drawing of the injection state of the dry air by the air injection means which concerns on this Embodiment. 変形例に係る線状ノズルの上面模式図である。It is an upper surface schematic diagram of the linear nozzle which concerns on a modification.

以下、添付図面を参照して、本実施の形態に係るスピンナー洗浄装置を備えた切削装置について説明する。図1は、本実施の形態に係る切削装置の斜視図である。なお、以下の説明においては、切削装置にスピンナー洗浄装置を備える構成を例示して説明するが、この構成に限定されない。スピンナー洗浄装置は、例えば、研削装置等の他の加工装置に備えられてもよいし、加工装置とは別体に形成されてもよい。   Hereinafter, a cutting apparatus provided with a spinner cleaning apparatus according to the present embodiment will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view of a cutting apparatus according to the present embodiment. In addition, in the following description, although the structure provided with a spinner washing | cleaning apparatus in a cutting device is illustrated and demonstrated, it is not limited to this structure. For example, the spinner cleaning device may be provided in another processing device such as a grinding device, or may be formed separately from the processing device.

図1に示すように、切削装置1は、切削手段14によって切削された板状物Wの洗浄及び乾燥を実施するスピンナー洗浄装置15を備えて構成される。板状物Wは、円板状の半導体ウエーハであり、表面75が不図示の分割予定ラインによって複数の領域に区画されている。分割予定ラインで区画された各領域には、IC、LSI等の各種デバイスが形成されている。板状物Wの裏面76(図3参照)には保護テープTが貼着され、板状物Wは保護テープTを介して環状の環状フレームFに支持される。なお、板状物Wは、セラミック、ガラス、サファイア系の光デバイスウエーハでもよい。板状物Wは、カセットC内に収容された状態で切削装置1に搬入される。   As shown in FIG. 1, the cutting device 1 includes a spinner cleaning device 15 that performs cleaning and drying of the plate-like object W cut by the cutting means 14. The plate-like object W is a disk-like semiconductor wafer, and the surface 75 is partitioned into a plurality of regions by unillustrated division lines. Various devices such as an IC and an LSI are formed in each region partitioned by the division lines. A protective tape T is attached to the back surface 76 (see FIG. 3) of the plate-like object W, and the plate-like object W is supported by the annular ring frame F via the protective tape T. The plate-like object W may be a ceramic, glass, or sapphire optical device wafer. The plate-like object W is carried into the cutting apparatus 1 while being accommodated in the cassette C.

切削装置1のハウジング11の上面には、X軸方向に延在する矩形状の開口が形成されており、この開口はチャックテーブル12と共に移動可能な移動板21及び蛇腹状の防水カバー22により被覆されている。防水カバー22の下方には、チャックテーブル12をX軸方向に移動させる不図示のボールねじ式の移動機構が設けられている。チャックテーブル12の表面には、ポーラスセラミック材により板状物Wを吸着する吸着面23が形成されている。吸着面23は、チャックテーブル12内の流路を通じて吸引源に接続されている。   A rectangular opening extending in the X-axis direction is formed on the upper surface of the housing 11 of the cutting apparatus 1, and this opening is covered with a movable plate 21 that can move together with the chuck table 12 and a bellows-shaped waterproof cover 22. Has been. Below the waterproof cover 22, a ball screw type moving mechanism (not shown) that moves the chuck table 12 in the X-axis direction is provided. On the surface of the chuck table 12, an adsorption surface 23 that adsorbs the plate-like object W by a porous ceramic material is formed. The suction surface 23 is connected to a suction source through a flow path in the chuck table 12.

チャックテーブル12は、装置中央の受け渡し位置と切削手段14に臨む加工位置との間で往復移動される。図1は、チャックテーブル12が受け渡し位置に待機した状態を示している。ハウジング11において、この受け渡し位置に隣接した一の角部が一段下がっており、下がった箇所に載置テーブル25が昇降可能に設けられている。載置テーブル25には、板状物Wを収容したカセットCが載置される。カセットCが載置された状態で載置テーブル25が昇降することによって、高さ方向において板状物Wの引出位置及び押込位置が調整される。   The chuck table 12 is reciprocated between a delivery position at the center of the apparatus and a machining position facing the cutting means 14. FIG. 1 shows a state in which the chuck table 12 stands by at the delivery position. In the housing 11, one corner portion adjacent to the delivery position is lowered by one step, and the mounting table 25 is provided at a lowered position so as to be lifted and lowered. On the mounting table 25, a cassette C containing the plate-like object W is placed. As the mounting table 25 moves up and down with the cassette C mounted, the drawing position and the pushing position of the plate-like object W are adjusted in the height direction.

載置テーブル25の後方には、Y軸方向に平行な一対のガイドレール26と、一対のガイドレール26とカセットCとの間で板状物Wを搬送するプッシュプル機構27が設けられている。一対のガイドレール26により、プッシュプル機構27による板状物Wの搬送がガイドされると共に板状物WのX軸方向が位置決めされる。プッシュプル機構27は、カセットCから一対のガイドレール26に加工前の板状物Wを引き出す他、一対のガイドレール26からカセットCに加工後の板状物Wを押し込むように構成されている。プッシュプル機構27により板状物WのY軸方向が位置決めされる。   A rear side of the mounting table 25 is provided with a pair of guide rails 26 parallel to the Y-axis direction, and a push-pull mechanism 27 that conveys the plate-like object W between the pair of guide rails 26 and the cassette C. . The pair of guide rails 26 guide the conveyance of the plate-like object W by the push-pull mechanism 27 and position the plate-like object W in the X-axis direction. The push-pull mechanism 27 is configured to pull the unprocessed plate-like object W from the cassette C to the pair of guide rails 26 and to push the processed plate-like object W from the pair of guide rails 26 to the cassette C. . The push-pull mechanism 27 positions the plate-like object W in the Y-axis direction.

一対のガイドレール26の近傍には、ガイドレール26とチャックテーブル12との間で板状物Wを搬送する第1の搬送アーム13が設けられている。第1の搬送アーム13のアーム部31は上面視L字状であり、このアーム部31が旋回することで板状物Wが搬送される。また、受け渡し位置のチャックテーブル12の後方には、スピンナー洗浄装置15が設けられている。スピンナー洗浄装置15では、回転中の保持テーブル42に向けて洗浄水が噴射されて板状物Wが洗浄された後、洗浄水の代わりに乾燥エアーが吹き付けられて板状物Wが乾燥される。なお、スピンナー洗浄装置15の詳細については後述する。   In the vicinity of the pair of guide rails 26, a first transport arm 13 that transports the plate-like object W between the guide rails 26 and the chuck table 12 is provided. The arm portion 31 of the first transfer arm 13 is L-shaped when viewed from above, and the plate-like object W is transferred by turning the arm portion 31. A spinner cleaning device 15 is provided behind the chuck table 12 at the delivery position. In the spinner cleaning device 15, the cleaning water is sprayed toward the rotating holding table 42 to clean the plate-like object W, and then the dry air is blown instead of the cleaning water to dry the plate-like object W. . The details of the spinner cleaning device 15 will be described later.

ハウジング11上には、切削手段14を支持する支持台32が設けられている。切削手段14は、支持台32に支持されたスピンドルの先端に切削ブレード36を装着して構成される。切削ブレード36は、例えば、ダイアモンド砥粒をレジンボンド(結合剤)で固めて円板状に成形されている。また、切削手段14には、切削ブレード36をY軸方向及びZ軸方向に移動させる不図示の移動機構が連結されている。切削手段14では、複数の噴射ノズルから洗浄液が噴射され、高速回転させた切削ブレード36がチャックテーブル12に対して相対移動されることで板状物Wが切削される。   A support base 32 that supports the cutting means 14 is provided on the housing 11. The cutting means 14 is configured by attaching a cutting blade 36 to the tip of a spindle supported by a support base 32. The cutting blade 36 is formed into a disk shape by, for example, hardening diamond abrasive grains with a resin bond (binder). The cutting means 14 is connected to a moving mechanism (not shown) that moves the cutting blade 36 in the Y-axis direction and the Z-axis direction. In the cutting means 14, the cleaning liquid is sprayed from a plurality of spray nozzles, and the cutting blade 36 rotated at high speed is moved relative to the chuck table 12 to cut the plate-like object W.

支持台32の側面33には、チャックテーブル12とスピンナー洗浄装置15との間で板状物Wを搬送する第2の搬送アーム16が設けられている。第2の搬送アーム16のアーム部37は斜め前方に延びており、このアーム部37が前後(Y軸方向)に移動することで板状物Wが搬送される。また、支持台32には、チャックテーブル12の移動経路の上方を横切るようにして、撮像部17を支持する片持支持部35が設けられている。撮像部17は片持支持部35の下面から突出しており、撮像部17によって板状物Wが撮像される。撮像部17による撮像画像は、切削手段14とチャックテーブル12とのアライメントに利用される。   A second transfer arm 16 that transfers the plate-like object W between the chuck table 12 and the spinner cleaning device 15 is provided on the side surface 33 of the support base 32. The arm portion 37 of the second transfer arm 16 extends obliquely forward, and the plate-like object W is transferred by moving the arm portion 37 back and forth (Y-axis direction). In addition, the support base 32 is provided with a cantilever support portion 35 that supports the imaging unit 17 so as to cross over the moving path of the chuck table 12. The imaging unit 17 protrudes from the lower surface of the cantilever support unit 35, and the plate-like object W is imaged by the imaging unit 17. An image captured by the imaging unit 17 is used for alignment between the cutting unit 14 and the chuck table 12.

このように構成された切削装置1では、カセットCからチャックテーブル12に板状物Wが搬送され、チャックテーブル12と切削手段14の相対移動によって板状物Wが切削される。切削後の板状物Wはスピンナー洗浄装置15に搬送され、スピンナー洗浄装置15において洗浄液でスピン洗浄された後に乾燥エアーで乾燥される。このとき、本実施の形態に係るスピンナー洗浄装置15は、乾燥エアーを直線状に吹き付けて板状物Wの表面75を効率的に乾燥させている。乾燥後の板状物Wは、スピンナー洗浄装置15から取り出されてカセットCに向けて搬送される。   In the cutting apparatus 1 configured as described above, the plate-like object W is conveyed from the cassette C to the chuck table 12, and the plate-like object W is cut by relative movement of the chuck table 12 and the cutting means 14. The plate-like object W after cutting is conveyed to the spinner cleaning device 15, spin-washed with a cleaning liquid in the spinner cleaning device 15, and then dried with dry air. At this time, the spinner cleaning device 15 according to the present embodiment blows dry air linearly to efficiently dry the surface 75 of the plate-like object W. The dried plate-like object W is taken out from the spinner cleaning device 15 and conveyed toward the cassette C.

以下、図2を参照して、本実施の形態に係るスピンナー洗浄装置について説明する。図2は、本実施の形態に係るスピンナー洗浄装置の斜視図である。なお、本実施の形態にスピンナー洗浄装置は、図2に示す構成に限定されない。スピンナー洗浄装置は、板状物をスピン洗浄した後に、線状のエアー噴射領域で板状物の表面を乾燥可能な構成を備えれば、どのように構成されてもよい。   Hereinafter, the spinner cleaning apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a perspective view of the spinner cleaning apparatus according to the present embodiment. Note that the spinner cleaning apparatus in this embodiment is not limited to the configuration shown in FIG. The spinner cleaning device may be configured in any way as long as it has a configuration capable of drying the surface of the plate-like material in the linear air jet region after the plate-like material is spin-cleaned.

スピンナー洗浄装置15は、板状物Wの表面75(図1参照)を洗浄液でスピン洗浄した後、板状物Wの表面75に乾燥エアーを直線状に吹き付けて板状物Wの乾燥時間を短縮させている。スピンナー洗浄装置15のケーシング41は、円筒状の周壁部51を有する有底筒状に形成されている。ケーシング41内には、板状物Wを上面に保持して回転する保持テーブル42が収容されている。保持テーブル42の周囲には、板状物Wの表面75に洗浄液を噴射して洗浄する洗浄液噴射手段43と、板状物Wの表面75に乾燥エアーを噴射して乾燥するエアー噴射手段44とが設けられている。   The spinner cleaning device 15 spin-cleans the surface 75 (see FIG. 1) of the plate-like object W with the cleaning liquid, and then blows dry air linearly on the surface 75 of the plate-like object W to set the drying time of the plate-like object W. It is shortened. The casing 41 of the spinner cleaning device 15 is formed in a bottomed cylindrical shape having a cylindrical peripheral wall portion 51. The casing 41 accommodates a holding table 42 that rotates while holding the plate-like object W on the upper surface. Around the holding table 42, cleaning liquid spraying means 43 for spraying and cleaning the surface 75 of the plate-like object W, and air spraying means 44 for spraying and drying dry air on the surface 75 of the plate-like object W; Is provided.

保持テーブル42は、板状物Wよりも大径の円盤状に形成されており、上面中央にはポーラスセラミックス等の多孔質材料で吸着面52が形成されている。吸着面52は保持テーブル42内の管路を通じて吸引源(不図示)に接続され、吸着面52に生じる負圧によって保護テープT(図1参照)を介して板状物Wが吸引保持される。保持テーブル42の下面中心には、回転軸53を介してモータ等の回転手段54が連結されている(図3参照)。保持テーブル42は、回転手段54の駆動によってケーシング41内で高速回転される。   The holding table 42 is formed in a disk shape having a larger diameter than the plate-like object W, and an adsorption surface 52 is formed of a porous material such as porous ceramics at the center of the upper surface. The suction surface 52 is connected to a suction source (not shown) through a pipe line in the holding table 42, and the plate-like object W is sucked and held via the protective tape T (see FIG. 1) by the negative pressure generated on the suction surface 52. . A rotating means 54 such as a motor is connected to the center of the lower surface of the holding table 42 via a rotating shaft 53 (see FIG. 3). The holding table 42 is rotated at a high speed in the casing 41 by driving of the rotating means 54.

保持テーブル42の周囲には、環状フレームF(図1参照)を保持する4つのフレームクランプ55が設けられている。フレームクランプ55は、保持テーブル42から四方に延びる支持板56に、振り子状のクランプ部57を支持して構成される。フレームクランプ55は、保持テーブル42の回転時にクランプ部57の外側の錘部分が遠心力で跳ね上げられて、クランプ部57の内側の爪部分と支持板56との間に環状フレームFをクランプする。このように、板状物Wは、保護テープTを介して保持テーブル42の吸着面52に吸着され、環状フレームFを介してフレームクランプ55に保持される。   Around the holding table 42, four frame clamps 55 for holding the annular frame F (see FIG. 1) are provided. The frame clamp 55 is configured by supporting a pendulum-shaped clamp portion 57 on a support plate 56 extending in four directions from the holding table 42. The frame clamp 55 clamps the annular frame F between the claw portion on the inner side of the clamp portion 57 and the support plate 56 by causing the weight portion on the outer side of the clamp portion 57 to spring up by centrifugal force when the holding table 42 rotates. . In this manner, the plate-like object W is sucked to the suction surface 52 of the holding table 42 via the protective tape T and is held by the frame clamp 55 via the annular frame F.

洗浄液噴射手段43は、洗浄ノズル62を先端に設けた水平管61を保持テーブル42の上方で旋回させながら、洗浄ノズル62の噴射孔63から保持テーブル42上の板状物Wに洗浄液を噴射している。洗浄ノズル62は、保持テーブル42の上方で略水平に延びる水平管61を介して、ケーシング41内に立設した洗浄ノズル移動手段64に支持されている。水平管61は、洗浄ノズル移動手段64から保持テーブル42の中心に届く長さを有しており、洗浄ノズル62を保持テーブル42の中心から外周まで移動可能にしている。   The cleaning liquid ejecting means 43 ejects the cleaning liquid from the spray hole 63 of the cleaning nozzle 62 onto the plate-like object W on the holding table 42 while turning the horizontal pipe 61 provided with the cleaning nozzle 62 at the tip thereof above the holding table 42. ing. The cleaning nozzle 62 is supported by a cleaning nozzle moving means 64 erected in the casing 41 via a horizontal pipe 61 extending substantially horizontally above the holding table 42. The horizontal pipe 61 has a length that reaches the center of the holding table 42 from the cleaning nozzle moving means 64, and allows the cleaning nozzle 62 to move from the center of the holding table 42 to the outer periphery.

洗浄ノズル移動手段64によって洗浄ノズル62が保持テーブル42の回転中心を通る径方向に動かされることで、回転中の板状物Wの全域に洗浄液が噴射される。なお、洗浄ノズル62には、洗浄ノズル移動手段64内の通路を通じて供給源(不図示)から洗浄液が供給される。洗浄ノズル62による洗浄工程の詳細については後述する。   The cleaning nozzle 62 is moved in the radial direction passing through the rotation center of the holding table 42 by the cleaning nozzle moving means 64, so that the cleaning liquid is sprayed over the entire area of the rotating plate-like object W. The cleaning liquid is supplied to the cleaning nozzle 62 from a supply source (not shown) through a passage in the cleaning nozzle moving unit 64. Details of the cleaning process by the cleaning nozzle 62 will be described later.

エアー噴射手段44は、多数の噴射口67を横一列に形成した線状ノズル66を保持テーブル42の上方に位置付けて、多数の噴射口67から保持テーブル42上の板状物Wに乾燥エアーを噴射している。線状ノズル66は、保持テーブル42の上方で略水平に延びており、ケーシング41内に立設した線状ノズル移動部68に支持されている。線状ノズル66は、線状ノズル移動部68から保持テーブル42の中心に届く長さを有しており、線状ノズル66の多数の噴射口67を保持テーブル42の中心から外周まで位置付けている。   The air injection means 44 positions the linear nozzle 66 formed with a large number of injection ports 67 in a horizontal row above the holding table 42, and supplies dry air from the large number of injection ports 67 to the plate-like object W on the holding table 42. Spraying. The linear nozzle 66 extends substantially horizontally above the holding table 42, and is supported by a linear nozzle moving unit 68 erected in the casing 41. The linear nozzle 66 has a length that reaches the center of the holding table 42 from the linear nozzle moving portion 68, and positions a large number of injection ports 67 of the linear nozzle 66 from the center of the holding table 42 to the outer periphery. .

多数の噴射口67は、隣接する噴射口67から噴射される乾燥エアーが連なる間隔で線状ノズル66の外周面に並んでいる。この多数の噴射口67は、噴射口67から板状物Wの表面75に噴射されたエアー噴射領域71(図5参照)が少なくとも板状物Wの半径以上の長さの線状に噴射されるように形成されている。また、多数の噴射口67は、線状ノズル66の外周面において、保持テーブル42の回転方向に対して対向する方向(上面視における逆方向)に乾燥エアーを噴射するように斜め下方に向けられている(図5参照)。   The large number of injection ports 67 are arranged on the outer peripheral surface of the linear nozzle 66 at intervals where dry air injected from the adjacent injection ports 67 continues. The large number of spray ports 67 are sprayed in a linear shape in which an air spray region 71 (see FIG. 5) sprayed from the spray ports 67 to the surface 75 of the plate-like object W is at least longer than the radius of the plate-like object W. It is formed so that. In addition, a large number of injection ports 67 are directed obliquely downward on the outer peripheral surface of the linear nozzle 66 so as to inject dry air in a direction opposite to the rotation direction of the holding table 42 (opposite direction in top view). (See FIG. 5).

線状ノズル移動部68によって線状ノズル66が保持テーブル42の回転中心を通る径方向に位置付けられることで、回転中の板状物Wの全域に乾燥エアーが噴射される。このとき、板状物Wの表面75に乾燥エアーの壁が形成され、乾燥エアーの壁によって板状物Wの表面75から洗浄液が掻き取られて、板状物Wの表面75が短時間で乾燥される。なお、線状ノズル66には、線状ノズル移動部68内の通路を通じて供給源(不図示)から乾燥エアーが供給される。線状ノズル66による乾燥工程の詳細については後述する。   By positioning the linear nozzle 66 in the radial direction passing through the center of rotation of the holding table 42 by the linear nozzle moving unit 68, dry air is sprayed over the entire area of the rotating plate-like object W. At this time, a wall of dry air is formed on the surface 75 of the plate-like object W, and the cleaning liquid is scraped off from the surface 75 of the plate-like object W by the wall of the dry air, so that the surface 75 of the plate-like object W becomes short in a short time. Dried. The linear nozzle 66 is supplied with dry air from a supply source (not shown) through a passage in the linear nozzle moving unit 68. Details of the drying process by the linear nozzle 66 will be described later.

以下、図3から図5を参照して、スピンナー洗浄装置による洗浄処理について説明する。図3は、本実施の形態に係るスピンナー洗浄装置による洗浄工程の説明図である。図4は、本実施の形態に係るスピンナー洗浄装置による乾燥工程の説明図である。図5は、本実施の形態に係るエアー噴射手段による乾燥エアーの噴射状態の説明図である。なお、図5Aは上面模式図、図5Bは図5AのA−A線に沿う断面模式図である。   Hereinafter, the cleaning process by the spinner cleaning apparatus will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is an explanatory diagram of a cleaning process by the spinner cleaning apparatus according to the present embodiment. FIG. 4 is an explanatory diagram of a drying process by the spinner cleaning apparatus according to the present embodiment. FIG. 5 is an explanatory diagram of a dry air injection state by the air injection means according to the present embodiment. 5A is a schematic top view, and FIG. 5B is a schematic cross-sectional view taken along line AA in FIG. 5A.

図3に示すように、板状物Wの洗浄工程では、保持テーブル42上に板状物Wが載置されると、吸着面52によって保護テープTを介して板状物Wが保持される。次に、洗浄ノズル移動手段64によって洗浄ノズル62が保持テーブル42の外側の退避位置から板状物Wの上方に移動され、回転手段54が駆動されて保持テーブル42が高速回転される。これにより、保持テーブル42の周囲のフレームクランプ55が遠心力を受けて作動し、フレームクランプ55によって環状フレームFが保持される。このとき、線状ノズル66は、保持テーブル42の外側の退避位置に位置付けられている。   As shown in FIG. 3, in the step of cleaning the plate-like object W, when the plate-like object W is placed on the holding table 42, the plate-like object W is held by the suction surface 52 via the protective tape T. . Next, the cleaning nozzle 62 is moved from the retracted position outside the holding table 42 to above the plate-like object W by the cleaning nozzle moving means 64, and the rotating means 54 is driven to rotate the holding table 42 at a high speed. As a result, the frame clamp 55 around the holding table 42 operates by receiving centrifugal force, and the annular frame F is held by the frame clamp 55. At this time, the linear nozzle 66 is positioned at the retracted position outside the holding table 42.

そして、洗浄ノズル移動手段64によって洗浄ノズル62が移動されながら、洗浄ノズル62の噴射孔63から洗浄液が板状物Wの表面75に噴射される。この場合、洗浄ノズル62が板状物Wの回転中心を通る径方向で往復移動され、保持テーブル42が高速回転されているため、保持テーブル42上の板状物Wの表面75の全域に洗浄液が吹き付けられる。このようにして、加工後の板状物Wの表面75が洗浄液によってスピン洗浄される。   Then, while the cleaning nozzle 62 is moved by the cleaning nozzle moving means 64, the cleaning liquid is sprayed from the spray hole 63 of the cleaning nozzle 62 onto the surface 75 of the plate-like object W. In this case, since the cleaning nozzle 62 is reciprocated in the radial direction passing through the center of rotation of the plate-like object W, and the holding table 42 is rotated at a high speed, the cleaning liquid is spread over the entire surface 75 of the plate-like object W on the holding table 42. Is sprayed. In this way, the surface 75 of the processed plate-like object W is spin-cleaned with the cleaning liquid.

図4に示すように、板状物Wの洗浄工程が終了すると、続けて板状物Wの乾燥工程が実施される。板状物Wの乾燥工程では、保持テーブル42の回転が続けられた状態で、洗浄ノズル移動手段64によって洗浄ノズル62が板状物Wの上方から退避位置に移動される。また、線状ノズル移動部68によって、洗浄ノズル62の代わりに線状ノズル66が退避位置から板状物Wの上方に移動される。そして、線状ノズル66が保持テーブル42の回転中心を通る径方向に位置付けられ、線状ノズル66の多数の噴射口67が保持テーブル42上の板状物Wに向けられる。   As shown in FIG. 4, when the cleaning process for the plate-like object W is completed, a drying process for the plate-like object W is subsequently performed. In the drying process of the plate-like object W, the cleaning nozzle 62 is moved from above the plate-like object W to the retracted position by the cleaning nozzle moving means 64 while the holding table 42 continues to rotate. Further, the linear nozzle moving unit 68 moves the linear nozzle 66 instead of the cleaning nozzle 62 from the retracted position to above the plate-like object W. Then, the linear nozzle 66 is positioned in the radial direction passing through the rotation center of the holding table 42, and a large number of ejection ports 67 of the linear nozzle 66 are directed to the plate-like object W on the holding table 42.

そして、図5A及び図5Bに示すように、線状ノズル66の多数の噴射口67から乾燥エアーが板状物Wの表面75に噴射され、板状物Wの外周側から回転中心に至る線状のエアー噴射領域71が板状物Wの表面75に形成される。エアー噴射領域71には、多数の噴射口67から噴射された乾燥エアーによって乾燥エアーの壁が形成される。この場合、乾燥エアーは真下ではなく、上面視において保持テーブル42の回転方向に対して対向する方向になるように、板状物Wの表面75に対して斜めに吹き付けられている。このため、板状物Wの表面75に対して斜めに吹き付けられた乾燥エアーの壁によって板状物Wの表面75から洗浄液が吹き飛ばされる。   Then, as shown in FIGS. 5A and 5B, dry air is sprayed onto the surface 75 of the plate-like object W from a large number of injection ports 67 of the linear nozzle 66, and a line extending from the outer peripheral side of the plate-like object W to the center of rotation. A shaped air injection region 71 is formed on the surface 75 of the plate-like object W. A dry air wall is formed in the air jet region 71 by the dry air jetted from many jet ports 67. In this case, the dry air is blown obliquely with respect to the surface 75 of the plate-like object W so as to face the rotation direction of the holding table 42 in the top view, not directly below. For this reason, the cleaning liquid is blown off from the surface 75 of the plate-like object W by the wall of the dry air blown obliquely with respect to the surface 75 of the plate-like object W.

すなわち、板状物Wの表面75には乾燥エアーの壁によってワイパーが形成され、保持テーブル42が回転することで、乾燥エアーのワイパーによって板状物Wの表面75から洗浄液が掻き取られる。この場合、乾燥エアーのワイパーは、少なくとも板状物Wの外周側から回転中心まで延在しているため、保持テーブル42が回転することで板状物Wの表面75の全域から洗浄液が除去される。このようにして、線状ノズル66の多数の噴射口67からエアー噴射領域が板状物Wの半径以上になるように乾燥エアーが噴射されるため、洗浄後の板状物Wの表面75が効率的に乾燥される。   That is, a wiper is formed on the surface 75 of the plate-like object W by a dry air wall, and the cleaning liquid is scraped off from the surface 75 of the plate-like object W by the wiper of the dry air by rotating the holding table 42. In this case, since the dry air wiper extends at least from the outer peripheral side of the plate-like object W to the center of rotation, the cleaning liquid is removed from the entire surface 75 of the plate-like object W by rotating the holding table 42. The Thus, since dry air is injected from the many injection ports 67 of the linear nozzle 66 so that the air injection area is equal to or larger than the radius of the plate-like object W, the surface 75 of the plate-like object W after cleaning is formed. Dry efficiently.

以上のように、本実施の形態によれば、保持テーブル42を回転させた状態で、洗浄ノズル62から洗浄液が噴射されて板状物Wが洗浄された後に、エアー噴射手段44の線状ノズル66から乾燥エアーが噴射されて板状物Wが乾燥される。このとき、線状ノズル66の多数の噴射口67からは、板状物Wの外周側から保持テーブル42の回転中心に至る板状物Wの半径以上の長さの線状の乾燥エアーが、保持テーブル42の回転方向に対向するように板状物Wの表面に吹き付けられる。そして、線状に噴射された乾燥エアーの壁によって板状物Wの表面75から洗浄液が吹き飛ばされて板状物の表面75が乾燥される。すなわち、板状物Wの表面75には乾燥エアーによって板状物Wの半径以上のワイパーが形成され、この乾燥エアーのワイパーによって板状物Wの表面75から洗浄液が掻き取られる。このように、回転中の板状物Wに対して乾燥エアーを線状に噴射することで、板状物Wの表面75の全域から洗浄液を効率的に取り除いて板状物Wの乾燥時間が短縮される。   As described above, according to the present embodiment, after the cleaning liquid is sprayed from the cleaning nozzle 62 and the plate-like object W is cleaned in a state where the holding table 42 is rotated, the linear nozzle of the air injection means 44 is used. Dry air is sprayed from 66 and the plate-like object W is dried. At this time, linear dry air having a length equal to or longer than the radius of the plate-like object W extending from the outer peripheral side of the plate-like object W to the center of rotation of the holding table 42 from a large number of ejection ports 67 of the linear nozzle 66 is obtained. The surface of the plate-like object W is sprayed so as to face the rotation direction of the holding table 42. And the washing | cleaning liquid is blown off from the surface 75 of the plate-shaped object W by the wall of the dry air sprayed linearly, and the surface 75 of a plate-shaped object is dried. That is, a wiper having a radius equal to or larger than that of the plate-like object W is formed on the surface 75 of the plate-like object W by the dry air, and the cleaning liquid is scraped off from the surface 75 of the plate-like object W by the wiper of this dry air. Thus, by spraying dry air linearly onto the rotating plate W, the cleaning liquid is efficiently removed from the entire surface 75 of the plate W and the drying time of the plate W is reduced. Shortened.

なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。   In addition, this invention is not limited to the said embodiment, It can change and implement variously. In the above-described embodiment, the size, shape, and the like illustrated in the accompanying drawings are not limited to this, and can be appropriately changed within a range in which the effect of the present invention is exhibited. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the object of the present invention.

例えば、上記した本実施の形態では、線状ノズル66が直線状に形成される構成としたが、この構成に限定されない。例えば、図6に示すように、線状ノズル66の先端側が屈曲されてもよい。この場合、線状ノズル66の屈曲部分73は、乾燥エアーの噴射方向に僅かに屈曲されている。線状ノズル66から乾燥エアーが噴射されると、線状ノズル66に沿って板状物Wの中央付近で乾燥エアーの屈曲した壁が形成される。板状物Wの中央付近で乾燥エアーの屈曲した壁によって、板状物Wの中心付近の洗浄液が線状ノズル66の先端を回り込むことが防止される。よって、板状物Wの中心付近の洗浄液を効果的に除去することができる。   For example, in the present embodiment described above, the linear nozzle 66 is configured to be linear, but the present invention is not limited to this configuration. For example, as shown in FIG. 6, the tip side of the linear nozzle 66 may be bent. In this case, the bent portion 73 of the linear nozzle 66 is slightly bent in the dry air injection direction. When dry air is sprayed from the linear nozzle 66, a bent wall of dry air is formed near the center of the plate-like object W along the linear nozzle 66. Due to the bent wall of the dry air near the center of the plate-like object W, the cleaning liquid near the center of the plate-like object W is prevented from going around the tip of the linear nozzle 66. Therefore, the cleaning liquid near the center of the plate-like object W can be effectively removed.

また、上記した本実施の形態では、隣接する噴射口67から噴射される乾燥エアーが連なる間隔で多数の噴射口67が線状ノズル66に形成されたが、この構成に限定されない。多数の噴射口67から噴射される乾燥エアーが完全に連なる必要はなく、部分的に隙間が形成されてもよい。すなわち、エアー噴射領域は完全な線状に形成されてなくてもよく、一部が破断した線状に形成されてもよい。このような構成であっても、板状物Wの表面75を効率的に乾燥させることが可能である。   Moreover, in this Embodiment mentioned above, although many injection ports 67 were formed in the linear nozzle 66 by the space | interval which the dry air injected from the adjacent injection port 67 continues, it is not limited to this structure. It is not necessary for the dry air ejected from the numerous ejection ports 67 to be completely continuous, and gaps may be partially formed. That is, the air injection region may not be formed in a complete linear shape, and may be formed in a linear shape in which a part is broken. Even with such a configuration, the surface 75 of the plate-like object W can be efficiently dried.

また、上記した本実施の形態では、線状ノズル66に多数の噴射口67が形成される構成としたが、この構成に限定されない。噴射口67は、板状物Wの半径以上の長さの線状に噴射されるように噴射されればよく、例えば、線状ノズル66にスリット状に形成されてもよい。   Moreover, in this Embodiment mentioned above, although it was set as the structure by which many injection openings 67 are formed in the linear nozzle 66, it is not limited to this structure. The ejection port 67 may be ejected so as to be ejected in a linear shape having a length equal to or longer than the radius of the plate-like object W. For example, the ejection port 67 may be formed in the linear nozzle 66 in a slit shape.

また、上記した本実施の形態では、線状ノズル66が保持テーブル42の回転中心を通る径方向に位置付けられた状態で、板状物Wの表面75に乾燥エアーが噴射される構成としたが、この構成に限定されない。線状ノズル66は、板状物Wの上方で旋回される構成としてもよい。   In the above-described embodiment, dry air is jetted onto the surface 75 of the plate-like object W in a state where the linear nozzle 66 is positioned in the radial direction passing through the rotation center of the holding table 42. The configuration is not limited to this. The linear nozzle 66 may be configured to be swung above the plate-like object W.

以上説明したように、本発明は、洗浄後の板状物の乾燥時間を短縮することができるという効果を有し、特に、切削装置等の加工装置に備えられたスピンナー洗浄装置に有用である。   As described above, the present invention has an effect of shortening the drying time of a plate-like object after cleaning, and is particularly useful for a spinner cleaning device provided in a processing device such as a cutting device. .

15 スピンナー洗浄装置
42 保持テーブル
44 エアー噴射手段
52 吸着面
54 回転手段
62 洗浄ノズル
63 噴射孔
64 洗浄ノズル移動手段
66 線状ノズル
67 噴射口
68 線状ノズル移動部
71 エアー噴射領域
72 ワイパー
73 屈曲部分
75 板状物の表面
76 板状物の裏面
W 板状物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 Spinner washing | cleaning apparatus 42 Holding table 44 Air injection means 52 Adsorption surface 54 Rotation means 62 Cleaning nozzle 63 Injection hole 64 Cleaning nozzle moving means 66 Linear nozzle 67 Injection port 68 Linear nozzle moving part 71 Air injection area 72 Wiper 73 Bending part 75 Surface of plate-like object 76 Back surface of plate-like object W Plate-like object

Claims (1)

板状物を上面に保持する保持テーブルと、該保持テーブルを回転させる回転手段と、該保持テーブルに保持された板状物に対して噴射孔から洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、該洗浄ノズルを該保持テーブルの中心を通り径方向に移動させる洗浄ノズル移動手段と、該保持テーブルに保持された洗浄後の板状物に対して噴射口から乾燥エアーを噴射して板状物表面を乾燥するエアー噴射手段と、を備えるスピンナー洗浄装置であって、
該エアー噴射手段は、該噴射口から板状物表面に噴射されたエアー噴射領域が板状物の外周側から回転中心に至る線状に噴射されるように該噴射口が形成された線状ノズルと、該線状ノズルを保持テーブルに対して移動させる線状ノズル移動部と、を備え、
該エアー噴射領域が板状物の外周側から該保持テーブルの回転中心に至るように該噴射口を板状物に対して位置づけ且つ該保持テーブルの回転方向に対して対向する方向に該噴射口を向けて乾燥エアーを噴射しつつ該保持テーブルを回転させて洗浄後の板状物表面を乾燥する、スピンナー洗浄装置。
A holding table for holding the plate-like object on the upper surface, a rotating means for rotating the holding table, a cleaning nozzle for injecting a cleaning liquid from the injection holes to the plate-like object held on the holding table, and the cleaning nozzle A cleaning nozzle moving means that moves in the radial direction through the center of the holding table, and a plate-like object that has been washed and held on the holding table is sprayed from the injection port to dry the surface of the plate-like object. A spinner cleaning device comprising air injection means,
The air injection means has a linear shape in which the injection port is formed so that an air injection region injected from the injection port onto the surface of the plate-like object is injected in a linear shape from the outer peripheral side of the plate-like object to the rotation center. A nozzle, and a linear nozzle moving unit that moves the linear nozzle relative to the holding table,
The injection port is positioned with respect to the plate-like object so that the air injection region reaches the rotation center of the holding table from the outer peripheral side of the plate-like object, and the injection port in a direction opposite to the rotation direction of the holding table. A spinner cleaning device that rotates the holding table while spraying dry air toward the surface to dry the surface of the plate-shaped object after cleaning.
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