JP2016154241A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2016154241A5
JP2016154241A5 JP2016050295A JP2016050295A JP2016154241A5 JP 2016154241 A5 JP2016154241 A5 JP 2016154241A5 JP 2016050295 A JP2016050295 A JP 2016050295A JP 2016050295 A JP2016050295 A JP 2016050295A JP 2016154241 A5 JP2016154241 A5 JP 2016154241A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
shot regions
information
shot
regions
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016050295A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2016154241A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2016154241A publication Critical patent/JP2016154241A/ja
Publication of JP2016154241A5 publication Critical patent/JP2016154241A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2016050295A 2013-07-02 2016-03-14 パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法 Pending JP2016154241A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013139260 2013-07-02
JP2013139260 2013-07-02

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014111668A Division JP5960198B2 (ja) 2013-07-02 2014-05-29 パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019109004A Division JP6792669B2 (ja) 2013-07-02 2019-06-11 パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016154241A JP2016154241A (ja) 2016-08-25
JP2016154241A5 true JP2016154241A5 (https=) 2017-07-06

Family

ID=56761324

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016050295A Pending JP2016154241A (ja) 2013-07-02 2016-03-14 パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法
JP2019109004A Active JP6792669B2 (ja) 2013-07-02 2019-06-11 パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019109004A Active JP6792669B2 (ja) 2013-07-02 2019-06-11 パターン形成方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステムおよび物品製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (2) JP2016154241A (https=)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7222623B2 (ja) 2018-07-23 2023-02-15 キヤノン株式会社 パターン形成方法および物品製造方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0864516A (ja) * 1994-08-23 1996-03-08 Sony Corp 重ね合わせ露光方法
JP3513973B2 (ja) * 1995-04-28 2004-03-31 株式会社ニコン 走査露光方法および該方法を用いた回路素子製造方法
JP3576722B2 (ja) * 1996-10-21 2004-10-13 キヤノン株式会社 走査型露光装置及びそれを用いたデバイス製造方法
JPH10270317A (ja) * 1997-03-25 1998-10-09 Nikon Corp 走査露光方法
JPH11145040A (ja) * 1997-11-10 1999-05-28 Nec Corp 走査型露光装置及びアライメント方法
JP3360662B2 (ja) * 1999-10-05 2002-12-24 日本電気株式会社 電子線ビーム描画方法および電子線ビーム描画用マスク
JP2002099097A (ja) * 2000-09-25 2002-04-05 Nikon Corp 走査露光方法および走査型露光装置
JP2002134396A (ja) * 2000-10-25 2002-05-10 Sony Corp 半導体装置の製造方法および半導体パターン自動調節装置
JP2002246291A (ja) * 2001-02-19 2002-08-30 Canon Inc 露光方法及び露光装置
JP2005303043A (ja) * 2004-04-13 2005-10-27 Nikon Corp 位置検出方法とその装置、位置合わせ方法とその装置、露光方法とその装置、及び、位置検出プログラム
JP4625673B2 (ja) * 2004-10-15 2011-02-02 株式会社東芝 露光方法及び露光装置
JP2006245072A (ja) * 2005-02-28 2006-09-14 Canon Inc パターン転写用モールドおよび転写装置
US8330936B2 (en) * 2006-09-20 2012-12-11 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2009231564A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Toshiba Corp スキャン露光装置の補正方法
JP5554906B2 (ja) * 2008-07-31 2014-07-23 ラピスセミコンダクタ株式会社 露光装置のアライメント方法
JP5809409B2 (ja) * 2009-12-17 2015-11-10 キヤノン株式会社 インプリント装置及びパターン転写方法
JP5709558B2 (ja) * 2011-02-01 2015-04-30 キヤノン株式会社 検査方法、インプリント装置及び物品の製造方法
US20120244461A1 (en) * 2011-03-25 2012-09-27 Toshiba America Electronic Components, Inc. Overlay control method and a semiconductor manufacturing method and apparatus employing the same
JP5646396B2 (ja) * 2011-06-08 2014-12-24 株式会社東芝 テンプレートの製造方法
JP2013008815A (ja) * 2011-06-24 2013-01-10 Toshiba Corp パターン形成装置、パターン形成方法及びパターン形成用プログラム
JP6053266B2 (ja) * 2011-09-01 2016-12-27 キヤノン株式会社 インプリント装置、物品の製造方法及びインプリント方法
JP5686779B2 (ja) * 2011-10-14 2015-03-18 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP2013098291A (ja) * 2011-10-31 2013-05-20 Canon Inc インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法
JP2013110162A (ja) * 2011-11-17 2013-06-06 Canon Inc インプリント装置及び物品の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9261802B2 (en) Lithography apparatus, alignment method, and method of manufacturing article
KR102083234B1 (ko) 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법
KR20190058683A (ko) 리소그래피 프로세스의 최적화 방법
JP2016201423A5 (https=)
CN104765254B (zh) 一种套刻对准标记
JP2020154063A (ja) アライメントマーク、インプリント方法、半導体装置の製造方法、及び位置合わせ装置
JP6730851B2 (ja) 決定方法、形成方法、プログラム、および物品の製造方法
EP1863071A4 (en) WIRE MEASUREMENT METHOD, MASK
JP2018194616A5 (https=)
JP2016129212A5 (https=)
JP2016008924A5 (https=)
US20200393751A1 (en) Microlithographic mask, method for determining edge positions of the images of the structures of such a mask and system for carrying out such a method
TWI553815B (zh) 重疊標記及其應用
JP2016154241A5 (https=)
JP2020091429A5 (https=)
JP2017116867A5 (https=)
KR101755088B1 (ko) 패턴 형성 방법, 리소그래피 장치 및 시스템, 및 물품 제조 방법
US20220203624A1 (en) Build platforms with calibration elements
JP2019045726A5 (https=)
KR102638175B1 (ko) 포토마스크를 측정하는 방법
JP2019159029A5 (https=)
JP2015070057A5 (https=)
US20130208252A1 (en) Flare measuring method, reflective mask, and exposure apparatus
JP2013149928A5 (https=)
JP2019184681A5 (https=)