JP2016146440A - 液処理装置および液処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】パージ作業に必要となる処理液の使用量を低減する。【解決手段】液処理装置１０は実処理槽１２と、処理液供給手段１３Ａとを備えている。処理液供給手段１３Ａは処理液タンク１３と、処理液タンク１３に連結ライン１５を介して連結されたノズル１７とを有する。処理液タンク１３はノズル１７の上方に配置されている。【選択図】図１

Description

本発明はフォトマスク、Ｓｉ等の半導体基板を製造するために用いられる、液処理装置および液処理方法に係り、とりわけ異物の混入および付着を防止することができる液処理装置および液処理方法に関する。

従来より、処理槽内に基板を搬入し、この基板に対して処理液供給手段によって処理液、例えば現像液、リンス液、ＩＰＡ等を順次噴出する液処理方法が知られている。

このような液処理方法で用いられる処理液供給手段は、処理液を収納する処理液タンクと、この処理液タンクに連結ラインを介して連結され、基板に対して処理液を噴射するノズルとを有している。

また処理液をノズルを介して基板に噴射する前に、処理液タンク中の処理液を連結ラインおよびノズルに通して、連結ラインおよびノズルに対するパージ作業を実行している。

ところで、現在処理液タンクは、基板を収納する処理槽から離れて設けられており、処理液タンク内を不活性ガスにより加圧することにより処理液タンク内から処理液を処理槽へ供給している。このため、処理液タンクと処理槽との間に延びる連結ラインは比較的長くなっており、このことにより、上述したパージ作業に多量の処理液を必要としている。

特開２００３−３３２２１３号公報

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、基板に対して処理液を供給する前に行なわれるパージ作業に必要とする処理液の使用量を最小限に抑えることができる液処理装置および液処理方法を提供することを目的とする。

本発明は、基板または検査用基板を収納する実処理槽と、前記実処理槽内の基板または検査用基板に対して処理液を供給する処理液供給手段とを備え、前記処理液供給手段は処理液を収納する処理液タンクと、この処理液タンクに連結ラインを介して連結され、前記基板または前記検査用基板に対して処理液を噴射するノズルとを有し、前記処理液タンクは前記ノズルの上方に位置していることを特徴とする液処理装置である。

本発明は、基板を収納する実処理槽と、検査用基板を収納するパージ槽と、前記実処理槽内の基板または前記パージ槽内の検査用基板に対して処理液を供給する処理液供給手段とを備え、前記処理液供給手段は処理液を収納する処理液タンクと、この処理液タンクに連結ラインを介して連結され、前記基板または前記検査用基板に対して処理液を噴射するノズルとを有し、前記処理液タンクは対応するノズルの上方に位置していることを特徴とする液処理装置である。

本発明は、前記パージ槽に対応して、パージ槽から排出された処理液を回収する回収タンクを設けたことを特徴とする液処理装置である。

本発明は、前記ノズルは、前記実処理槽と前記パージ槽との間で移動可能となっていることを特徴とする液処理装置である。

本発明は、前記処理液タンクおよび対応するノズルが、前記実処理槽と前記パージ槽との間で移動可能となっていることを特徴とする液処理装置である。

本発明は、前記処理液タンクおよび前記ノズルに対して前記実処理槽および前記パージ槽が移動可能となっていることを特徴とする液処理装置である。

本発明は、互いに異なる処理液を収納する複数の処理液タンクが設けられ、各処理液タンクに対応して、パージ槽が設置されていることを特徴とする液処理装置である。

本発明は、密閉容器と、前記密閉容器内に設けられ、基板または検査用基板を収納する実処理槽と、前記実処理槽内の基板または検査用基板に対して処理液を供給する処理液供給手段とを備え、前記処理液供給手段は処理液を収納する処理液タンクと、この処理液タンクに連結ラインを介して連結され、前記基板または前記検査用基板に対して処理液を噴射するノズルとを有し、前記処理液タンクは前記ノズルの上方に位置している液処理装置を用いた液処理方法において、前記実処理槽に前記検査用基板を搬入する工程と、前記検査用基板に対して前記処理液タンクから前記ノズルを介して処理液を噴射して、前記連結ラインおよび前記ノズル中の処理液をパージする工程と、前記検出基板上の処理液を除去する工程と、前記検査用基板上の残留異物を検査する工程と、前記実処理槽から前記検査用基板を搬出し、前記実処理槽へ前記基板を搬入する工程と、前記基板に対して前記処理液タンクから前記ノズルを介して処理液を噴射して、前記基板に対して液処理を施す工程と、を備えたことを特徴とする液処理方法である。

本発明は、密閉容器と、前記密閉容器内に設けられ、基板を収納する実処理槽と、検査用基板を収納するパージ槽と、前記実処理槽内の基板または前記パージ槽用の検査用基板に対して処理液を供給する処理液供給手段とを備え、前記処理液供給手段は処理液を収納する処理液タンクと、この処理液タンクに連結ラインを介して連結され、前記基板または前記検査用基板に対して処理液を噴射するノズルとを有し、前記処理液タンクは前記ノズルの上方に位置している液処理装置を用いた液処理方法において、前記パージ槽に前記検査用基板を搬入する工程と、前記検査用基板に対して前記処理液タンクから前記ノズルを介して処理液を噴出して前記連結ラインおよび前記ノズル中の処理液をパージする工程と、前記検出基板上の処理液を除去する工程と、前記検査用基板上の残留異物を検査する工程と、前記実処理槽に前記基板を搬入する工程と、前記基板に対して前記処理液タンクから前記ノズルを介して処理液を噴射して、前記基板に対して液処理を施す工程と、を備えたことを特徴とする液処理方法である。

本発明によれば、基板に対して処理液と供給する前に行なわれるパージ作業に必要となる処理液の使用量を低く抑えることができる。

図１は本発明の第１の実施の形態を示す液処理装置の概略側面図。 図２は処理液タンクと連結ラインの他の接続関係を示す図。 図３は処理液タンクと連結ラインの他の接続関係を示す図。 図４は処理液タンクと連結ラインの他の接続関係を示す図。 図５は本発明の第１の実施の形態による作用を示すフローチャート。 図６は本発明の第２の実施の形態を示す液処理装置の平面図。 図７は本発明の第２の実施の形態を示す液処理装置の側面図。 図８は本発明の第２の実施の形態において連結ラインとノズルの移動状態を示す図。 図９は本発明の変形例を示す液処理装置の平面図。 図１０は本発明の他の変形例を示す側面図。 図１１は本発明の他の変形例を示す平面図。 図１２は本発明の他の変形例を示す側面図。 図１３は本発明の他の変形例を示す平面図。

＜第１の実施の形態＞
以下、図面を参照して本発明の第１の実施の形態について説明する。

ここで図１乃至図５は、本発明による液処理装置を示す図である。

図１乃至図５に示すように、液処理装置１０は密閉容器１１と、密閉容器１１の下方部に設置され基板Ｗまたは検査用基板Ｗ_０を収納する実処理槽１２と、密閉容器１１の上方部に設置され、例えば現像液、リンス液またはＩＰＡ等の処理液１３ａを収納する処理液タンク１３と、処理液タンク１３に連結された連結ライン１５と、連結ライン１５の先端に設けられ基板Ｗまたは検査用基板Ｗ_０に対して処理液１３ａを噴射するノズル１７とを備えている。

また処理液タンク１３は、密閉容器１１の上部に設けられた密閉型の加圧タンク１４内に収納され、この加圧タンク１４内に加圧ライン１６を介して不活性ガスを供給することにより、加圧タンク１４内の圧力を上昇させて処理液タンク１３内の処理液１３ａを連結ライン１５およびノズル１７を介して基板Ｗまたは検査用基板Ｗ_０に対して供給することができる。

なお、上記の構成部材のうち、処理液タンク１３、連結ライン１５およびノズル１７によって処理液供給手段１３Ａが構成される。また処理液タンク１３はノズル１７の上方に位置している。

また図１に示す液処理装置１０において、加圧タンク１４内に処理液タンク１３が収納され、連結ライン１５は処理液タンク１３の上方および加圧タンク１４の上方を通って実処理槽１２まで延びている。

これに対して、図２に示すように処理液タンク１３の下方部に連結ライン１５を接続するとともに、この連結ライン１５を加圧タンク１４の下方部を貫通させて実処理槽１２まで延ばしてもよい。

あるいはまた図３に示すように、処理液タンク１３を加圧タンク１４内に収納することなく、処理液タンク１３に直接加圧ライン１６を接続してもよい。図３において、連結ライン１５は処理液タンク１３の下方部に接続されている。

さらにまた加圧タンク１４内に不活性ガスを供給することなく、処理液タンク１３内の処理液を、処理液タンク１３の下方部に接続された連結ライン１５によって自重により実処理槽１２まで導入してもよい（図４参照）。

次にこのような構成からなる本実施の形態の作用について図５のフローチャートにより説明する。

まず実処理槽１２内に検査用基板Ｗ_０を搬入し、この検査用基板Ｗ_０に対して処理液タンク１３から連結ライン１５およびノズル１７を介して処理液１３ａを供給し、このようにして連結ライン１５およびノズル１７内をパージする。

次に検査用基板Ｗ_０に対してスピン処理を施し、検査用基板Ｗ_０上の処理液１３ａを振り切り除去する。次に、検査用基板Ｗ_０を水洗して、乾燥させ、検査用基板Ｗ_０に異物が残留しているか否か検査する。

検査用基板Ｗ_０上に異物が残っていない場合、連絡ライン１５およびノズル１７内のパージが終了したものと判断して、検査用基板Ｗ_０を実処理槽１２から排出し、実処理槽１２内に処理すべき基板Ｗを搬入し、処理液タンク１３内の処理液１３ａを連結ライン１５およびノズル１７を介して基板Ｗに供給し、基板Ｗに対する液処理を行なう。

他方、検査用基板Ｗ_０上に異物が残っている場合は、連絡ライン１５およびノズル１７内のパージが不完全であると判断して、再び実処理槽１２内の検査用基板Ｗ_０に対して処理液タンク１３から連結ライン１５およびノズル１７を介して処理液１３ａを供給し、連結ライン１５およびノズル１７内を再度パージする。

以上のように本実施の形態によれば、処理液１３ａを収納した処理液タンク１３をノズル１７の上方に配置することにより、処理液タンク１３と実処理槽１２との間に延びる連結ライン１５の長さを短くすることができ、パージを行う際用いられる処理液１３ａの使用量を低く抑えることができる。

＜第２の実施の形態＞
次に本発明の第２の実施の形態について、図６乃至図８により説明する。図６乃至図８に示す第２の実施の形態において、図１乃至図５に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

図６乃至図８に示すように液処理装置１０は、基板Ｗを収納する実処理槽１２と、検査用基板Ｗ_０を収納する複数、例えば３台のパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃと、各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃに対応して設けられ、互いに異なる３種類の処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃを収納する３台の処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃとを備えている。ここで異なる３種類の処理液としては、例えば現像液、リンス液、ＩＰＡが考えられ、処理液タンク２３ａ内に現像液が収納され、処理液タンク２３ｂ内にリンス液が収納され、処理液タンク２３ｃ内にＩＰＡが収納されている。

また各処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃには、連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃが接続され、各連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃの先端には、基板Ｗまたは検査用基板Ｗ_０に対して処理液を噴射するノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃが各々取り付けられている。

この場合、各処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃは、対応するノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃの上方に位置している。また各処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃと、連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃと、ノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃとによって処理液供給手段２３Ａ、２３Ｂ、２３Ｃが構成される。

ところで検査用基板Ｗ_０を収納する３台のパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃは、基板Ｗを収納する実処理槽１２を囲むよう実処理槽１２の周囲に配置されている。

さらに図７および図８に示すように、各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃの下方には、パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃから排出される異なる３種類の処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃを回収する回収タンク３１ａ、３１ｂ、３１ｃが接続されている。また実処理槽１２にも、実処理槽１２から排出される現像液とリンス液とＩＰＡとを含む混合液３４を回収する回収タンク３２が接続されている。

なお図７および図８において、３台のパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃおよび３台の回収タンク３１ａ、３１ｂ、３１ｃについては、便宜上１台のパージ槽および１台の回収タンクを示している。

また図６乃至図８に示すように、実処理槽１２を囲んで３台のパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃが設置され、各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃに対応して処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃが実処理槽１２およびパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃの上方に設けられている。各処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃに連結された連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃおよびノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃは、実処理槽１２と各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃとの間で移動可能となっている。

すなわち図８に示すように各連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃに接続されたノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃは、所望に応じて実処理槽１２内の基板Ｗ上に配置することもでき、各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃ内の検査用基板Ｗ_０上に配置することもできる。

次にこのような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。

まず各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃ内に検査用基板Ｗ_０が搬入され、この検査用基板Ｗ_０に対して各処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃから連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃおよびノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃを介して、互いに異なる現像液、リンス液、ＩＰＡ等の処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃが供給される。

この場合、予め連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃおよびノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃはパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃ側に移動している。

このようにして、連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃおよびノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃ内がパージされ、パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃから排出された処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃは、各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃに対応して設けられた回収タンク３１ａ、３１ｂ、３１ｃ内に回収される。

次に検査用基板Ｗ_０に対してスピン処理を施し、検査用基板Ｗ_０上の処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃを振り切り除去する。次に、検査用基板Ｗ_０を水洗して、乾燥させ、検査用基板Ｗ_０に異物が残留しているか否か検査する。検査用基板Ｗ_０上に異物が残留していない場合、下記のような液処理が実行される（図５参照）。

すなわち、処理液タンク２３ａに連結された連結ライン２５ａおよびノズル２７ａが実処理槽１２側へ移動し、処理液タンク２３ａ内の処理液３３ａ、例えば現像液が実処理槽１２内に予め搬入されている基板Ｗに対して供給される。

その後処理液タンク２３ｂに連結された連結ライン２５ｂおよびノズル２７ｂが実処理槽１２側へ移動し、処理液タンク２３ｂ内の処理液３３ｂ、例えばリンス液が実処理槽１２内の基板Ｗに対して供給される。

同様に処理液タンク２３ｃに連結された連結ライン２５ｃおよびノズル２７ｃが実処理槽１２側へ移動し、処理液タンク２３ｃ内の処理液、例えばＩＰＡが実処理槽１２内の基板Ｗに対して供給される。

この間、実処理槽１２から排出される現像液とリンス液とＩＰＡとを含む混合液３４は回収タンク３４内に回収される。

ところで、パージ作業中に各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃから排出される処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃは、各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃにおいて検査用基板Ｗ_０に対して供給され、かつ他の処理液と混合することがない処理液である。また検査用基板Ｗ_０は液処理の対象となる基板Ｗと異なり、検査用基板Ｗ_０の表面にはレジスト等が形成されておらず、このため各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃから排出される処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃは清浄な状態を保っている。このため各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃから排出され、回収タンク３１ａ、３１ｂ、３１ｃに回収された処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃは、廃棄することなく再利用される。このように回収タンク３１ａ、３１ｂ、３１ｃに回収された処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃを再利用することができるため、液処理コストの低減を図ることができる。

以上のように本実施の形態によれば、処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃを収納した処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃをノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃの上方に配置することにより、処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃとパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃとの間に延びる連結ライン１５の長さを短くすることができ、パージを行なう際用いられる処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃの使用量を低く抑えることができる。

またパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃから排出され回収タンク３１ａ、３１ｂ、３１ｃに回収された処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃは一般に高価なものが多いが、これらの処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃを廃棄することなく再利用することができるため、液処理コストの低減を図ることができる。

＜本発明の変形例＞
次に本発明の変形例について説明する。図６乃至図８に示す第２の実施の形態において３台のパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃが実処理槽１２を囲むよう配置されている例を示したが、これに限らず実処理槽１２を細長状に形成するとともに、この細長状の実処理槽１２の一側に３台のパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃを一列に並べて配置してもよい（図９参照）。

図９に示す変形例において、各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃに対応して、パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃから排出された処理液３３ａ、３３ｂ、３３ｃを回収する回収タンク３１ａ、３１ｂ、３１ｃが設けられている。さらにまた、各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃに対応して処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃが設けられ、各処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃに接続された連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃおよびノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃは、各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃと実処理槽１２との間で移動可能となっている。さらにまたパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃ内には検査用基板Ｗ_０が各々収納されており、実処理槽１２内に収納された基板Ｗはパージ槽３０ａに近接する位置からパージ槽３０ｂに近接する位置を経て、パージ槽３０ｃに近接する位置まで移動可能となっている。

そして実処理槽１２内で基板Ｗに対して液処理を施す際、最初に基板Ｗはパージ槽３０ａに近接する位置にあり、パージ槽３０ａに対応する処理液タンク２３ａから連結ライン２５ａおよびノズル２７ａを経て処理液３３ａが基板Ｗに対して供給される。次に基板Ｗはパージ槽３０ｂに近接する位置まで移動し、パージ槽３０ｂに対応する処理液タンク２３ｂから連結ライン２５ｂおよびノズル２７ｂを経て処理液３３ｂが基板Ｗに対して供給される。その後基板Ｗがパージ槽３０ｃに近接する位置まで移動し、パージ槽３０ｃに対応する処理液タンク２３ｃから連結ライン２５ｃおよびノズル２７ｃを経て処理液３３ｃが基板Ｗに対して供給される。

次に図１０および図１１により本発明の他の変形例について説明する。

図６乃至図８に示す第２の実施の形態において、各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃに対応して処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃが設けられ、各処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃに接続された連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃおよびノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃがパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃと実処理槽１２との間で移動する例を示したが、これに限らず図１０および図１１に示すように各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃに対応して設けられた処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃと、これら処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃに接続された連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃおよびノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃがパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃと実処理槽１２との間で移動するようにしてもよい。

図１０および図１１に示す変形例において、図６乃至図８に示す第２の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

次に図１２および図１３により本発明の他の変形例について説明する。

図６乃至図８に示す第２の実施の形態において、各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃに対応して処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃが設けられ、各処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃに接続された連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃおよびノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃがパージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃと実処理槽１２との間で移動する例を示したが、これに限らず図１２および図１３に示すように、各パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃに対応して設けられた処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃと、これら処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃに接続された連結ライン２５ａ、２５ｂ、２５ｃおよびノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃが固定され、処理液タンク２３ａ、２３ｂ、２３ｃおよびノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃの下方において、パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃと実処理槽１２とを移動させ、パージ槽３０ａ、３０ｂ、３０ｃをノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃの真下に移動させたり（図１３（ａ）参照）、実処理槽１２をノズル２７ａ、２７ｂ、２７ｃの真下にもってきてもよい（図１３（ｂ）参照）。

図１２および図１３に示す変形例において、図６乃至図８に示す第２の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

＜産業上の利用分野＞
本発明による液処理装置および液処理方法は、フォトマスク、およびＳｉ等の半導体基板などの製造における液処理工程に用いられるものであり、特に検査用基板を用いる形態は、フォトマスクのレジスト現像装置に適している。

フォトマスクにおいて欠陥と判定されるサイズの異物は、従来の液中パーティクルカウンターでは検出することができない。これに対して、本発明による検査用基板を用いる形態においては、処理液中に含まれる異物が、液中パーティクルカウンターでは検出不可能なほど微少なサイズであっても、検出することが可能となる。このため、欠陥サイズ相当の異物が許容量以下になるまで処理液をパージすることによって、実処理に適した処理液を得ることができる。

１０ 液処理装置
１１ 密閉容器
１２ 実処理槽
１３ 処理液タンク
１３ａ 処理液
１３Ａ 処理液供給手段
１４ 加圧タンク
１５ 連結ライン
１７ ノズル
２３ａ、２３ｂ、２３ｃ 処理液タンク
２５ａ、２５ｂ、２５ｃ 連結ライン
２７ａ、２７ｂ、２７ｃ ノズル
３０ａ、３０ｂ、３０ｃ パージ槽
３１ａ、３１ｂ、３１ｃ 回収タンク
３２ 回収タンク
３３ａ、３３ｂ、３３ｃ 処理液
３３Ａ、３３Ｂ、３３Ｃ 処理液供給手段
Ｗ 基板
Ｗ_０ 検査用基板

Claims (9)

1. 基板または検査用基板を収納する実処理槽と、
   前記実処理槽内の基板または検査用基板に対して処理液を供給する処理液供給手段とを備え、
   前記処理液供給手段は処理液を収納する処理液タンクと、この処理液タンクに連結ラインを介して連結され、前記基板または前記検査用基板に対して処理液を噴射するノズルとを有し、前記処理液タンクは前記ノズルの上方に位置していることを特徴とする液処理装置。
2. 基板を収納する実処理槽と、
   検査用基板を収納するパージ槽と、
   前記実処理槽内の基板または前記パージ槽内の検査用基板に対して処理液を供給する処理液供給手段とを備え、
   前記処理液供給手段は処理液を収納する処理液タンクと、この処理液タンクに連結ラインを介して連結され、前記基板または前記検査用基板に対して処理液を噴射するノズルとを有し、前記処理液タンクは対応するノズルの上方に位置していることを特徴とする液処理装置。
3. 前記パージ槽に対応して、パージ槽から排出された処理液を回収する回収タンクを設けたことを特徴とする請求項２記載の液処理装置。
4. 前記ノズルは、前記実処理槽と前記パージ槽との間で移動可能となっていることを特徴とする請求項２または３記載の液処理装置。
5. 前記処理液タンクおよび対応するノズルが、前記実処理槽と前記パージ槽との間で移動可能となっていることを特徴とする請求項２または３記載の液処理装置。
6. 前記処理液タンクおよび前記ノズルに対して前記実処理槽および前記パージ槽が移動可能となっていることを特徴とする請求項２または３記載の液処理装置。
7. 互いに異なる処理液を収納する複数の処理液タンクが設けられ、各処理液タンクに対応して、パージ槽が設置されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか記載の液処理装置。
8. 密閉容器と、前記密閉容器内に設けられ、基板または検査用基板を収納する実処理槽と、前記実処理槽内の基板または検査用基板に対して処理液を供給する処理液供給手段とを備え、前記処理液供給手段は処理液を収納する処理液タンクと、この処理液タンクに連結ラインを介して連結され、前記基板または前記検査用基板に対して処理液を噴射するノズルとを有し、前記処理液タンクは前記ノズルの上方に位置している液処理装置を用いた液処理方法において、
   前記実処理槽に前記検査用基板を搬入する工程と、
   前記検査用基板に対して前記処理液タンクから前記ノズルを介して処理液を噴射して、前記連結ラインおよび前記ノズル中の処理液をパージする工程と、
   前記検出基板上の処理液を除去する工程と、
   前記検査用基板上の残留異物を検査する工程と、
   前記実処理槽から前記検査用基板を搬出し、前記実処理槽へ前記基板を搬入する工程と、
   前記基板に対して前記処理液タンクから前記ノズルを介して処理液を噴射して、前記基板に対して液処理を施す工程と、を備えたことを特徴とする液処理方法。
9. 密閉容器と、前記密閉容器内に設けられ、基板を収納する実処理槽と、検査用基板を収納するパージ槽と、前記実処理槽内の基板または前記パージ槽用の検査用基板に対して処理液を供給する処理液供給手段とを備え、前記処理液供給手段は処理液を収納する処理液タンクと、この処理液タンクに連結ラインを介して連結され、前記基板または前記検査用基板に対して処理液を噴射するノズルとを有し、前記処理液タンクは前記ノズルの上方に位置している液処理装置を用いた液処理方法において、
   前記パージ槽に前記検査用基板を搬入する工程と、
   前記検査用基板に対して前記処理液タンクから前記ノズルを介して処理液を噴出して前記連結ラインおよび前記ノズル中の処理液をパージする工程と、
   前記検出基板上の処理液を除去する工程と、
   前記検査用基板上の残留異物を検査する工程と、
   前記実処理槽に前記基板を搬入する工程と、
   前記基板に対して前記処理液タンクから前記ノズルを介して処理液を噴射して、前記基板に対して液処理を施す工程と、を備えたことを特徴とする液処理方法。

Images