JP6099996B2 - オゾン水を用いた洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents
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Description
濃度変化のしやすいオゾン水でウェーハをムラ無く洗浄するためには、ウェーハ表面に均一な濃度のオゾン水を接触させることが必要である。
オゾン水を用いたウェーハの洗浄方法であって、
前記ウェーハを底面に排液口を有する浸漬トレーに横置きし、前記ウェーハの上方に設置された供給管より前記オゾン水を供給し、前記ウェーハを前記浸漬トレーにて前記オゾン水中に浸漬することで洗浄し、前記排液口より前記オゾン水の排液を行うオゾン水を用いた洗浄方法を提供する。
前記ウェーハを横置きするための保持手段、及び底面に前記オゾン水の排液口を有する浸漬トレーと、
前記ウェーハの上方より前記オゾン水を供給する供給管とを備える洗浄装置を提供する。
オゾン水を用いたウェーハの洗浄方法及び洗浄装置であって、
前記ウェーハを底面に排液口を有する浸漬トレーに横置きし、前記ウェーハの上方に設置された供給管より前記オゾン水を供給し、前記ウェーハを前記浸漬トレーにて前記オゾン水中に浸漬することで洗浄し、前記排液口より前記オゾン水の排液を行うオゾン水を用いた洗浄方法及び洗浄装置である。
まず、ウェーハ3を底面に排液口6を有する浸漬トレー4に横置きし、ウェーハ3の上方に設置された供給管1よりオゾン水2を供給し、ウェーハ3を浸漬トレー4にてオゾン水2中に浸漬することで洗浄し、排液口6よりオゾン水2の排液を行う。
1.ロボットアームによりウェーハ3をロードする。
2.オゾン水洗浄BOX7のシャッターを開く。
3.ウェーハ3を浸漬トレー4上に挿入する。
4.ウェーハ3を受け台5に置き、ロボットアームを退避させる。
5.オゾン水洗浄BOX7のシャッターを閉じる。
6.供給管1よりオゾン水の供給を開始する。
7.受け台5が下がり、ウェーハ3を受け台5により保持し、受け台5を下げて浸漬トレー4中のオゾン水に浸漬させる。
8.規程時間、オゾン水を供給しながら浸漬状態を保持する。
9.オゾン水の供給を停止する。
10.純水の供給を開始する。
11.ウェーハ3を純水に浸漬させ、オゾン水を洗い流す。
12.受け台5を上昇させる。
13.純水の供給を停止する。
14.オゾン水洗浄BOX7のシャッターを開く。
15.オゾン水洗浄済のウェーハ3をロボットアームにより回収する。
16.最初の工程に戻り新たなウェーハを洗浄する、又は、オゾン水洗浄BOXシャッターを閉じて終了する。
1.ウェーハの研磨
2.オゾン水洗浄
3.リンス
4.SC1(アンモニア/過酸化水素水)
5.リンス
6.乾燥
7.表面欠陥検査装置SP2(ケーエルエー・テンコール社製)による測定
比較試験において、ウェーハの表面の測定は、ケーエルエー・テンコール社製の表面欠陥検査装置SP2で行い、SP2のHazeマップを比較する方法で行った。
尚、下記実施例及び比較例に示される洗浄方法は上記工程2のオゾン水洗浄に該当する。
図1に示すような洗浄装置を用いて直径300mmのシリコンウェーハの洗浄を行った。即ち、シリコンウェーハ3を底面に排液口6を有する浸漬トレー4中の受け台5に横置きし、シリコンウェーハ3の上方に設置された供給管1より10ppmのオゾン水2を供給し、シリコンウェーハ3を浸漬トレー4にてオゾン水2中に浸漬することで洗浄し、排液口6よりオゾン水2の排液し、洗浄を行った。
図2で示すような、複数枚のウェーハを縦置きで同時にオゾン水で満たされた洗浄槽に浸漬して洗浄する装置を用いて直径300mmのシリコンウェーハの洗浄を行った。即ち、洗浄槽の底部に設置された供給管101からオゾン水102を槽内にシリコンウェーハ103表面に均一に触れるように供給し、洗浄槽上部からオーバーフローにより排液することで、洗浄を行った。尚、濃度を維持するため、20ppmのオゾン水102をオゾン水製造装置から供給管101に向けて常時供給した。また、シリコンウェーハ103としては、洗浄槽の構造や保持方法に合わせて向きや個数、大きさが調整されているものを使用した。
図3で示すような、ウェーハを横置きして1枚ずつ洗浄する装置を用いて直径300mmのシリコンウェーハの洗浄を行った。即ち、オゾンガスの拡散を防ぐために密閉されたオゾン水洗浄BOX(不図示)の中でシリコンウェーハ203を横置きし、上部、及び、下部に取り付けられたシャワーノズル型の供給管201から20ppmのオゾン水202をシリコンウェーハ203に噴き付けて洗浄を行った。このとき、上下各19個のシャワーノズルからウェーハ表面の全体にオゾン水を噴霧できるようにレイアウトをして、洗浄処理を行った。
図4で示すような、ウェーハを横置きして1枚ずつ回転させながら洗浄する装置を用いて直径300mmのシリコンウェーハの洗浄を行った。即ち、オゾンガスの拡散を防ぐために排ガスと排液を行うことのできるチャンバー(不図示)内で、シリコンウェーハ303を回転することができる受け台305に保持し、シリコンウェーハ303を回転させながらチャンバー上部、及び、下部に取り付けられた供給管301から10ppmのオゾン水302をシリコンウェーハ303に供給して洗浄を行った。このとき、ウェーハ回転は100rpmから1500rpmで行った。回転によりウェーハから振り飛ばされた洗浄液は、隔壁306で受け止めることで飛散しないようにした。
6…排液口、7…洗浄BOX、 10…洗浄装置。
Claims (4)
- オゾン水を用いたウェーハの洗浄方法であって、
前記ウェーハを底面に排液口を有する浸漬トレーに横置きし、前記ウェーハの上方かつ前記浸漬トレー外に設置された供給管より、前記浸漬トレー外から前記オゾン水を供給し、前記ウェーハを前記浸漬トレーにて前記オゾン水中に浸漬することで洗浄し、前記排液口より前記オゾン水の排液を行い、
前記オゾン水としては5〜20ppmのものを用い、かつ、前記オゾン水の供給量を、毎分3〜5リットルとし、
前記ウェーハを前記浸漬トレーにて前記オゾン水中に浸漬する前に、前記ウェーハへの前記オゾン水の供給を開始し、その後、前記ウェーハを下降させて、前記浸漬トレー中のオゾン水に前記ウェーハを浸漬させることを特徴とするオゾン水を用いた洗浄方法。 - 前記供給管を前記ウェーハの中心部の上方に配置することを特徴とする請求項1に記載のオゾン水を用いた洗浄方法。
- オゾン水を用いたウェーハの洗浄装置であって、
前記ウェーハを横置きするための保持手段、及び底面に前記オゾン水の排液口を有する浸漬トレーと、
前記ウェーハの上方かつ前記浸漬トレー外に設置され、前記浸漬トレー外より前記オゾン水を供給する供給管とを備え、
前記オゾン水が5〜20ppmのものであり、前記オゾン水の供給量が、毎分3〜5リットルであり、
前記浸漬トレーが前記ウェーハを保持するための受け台を有するものであり、
該受け台は、上下に可動なものであり、
該受け台は、保持した前記ウェーハへの前記オゾン水の供給が開始された後に、前記ウェーハを保持しながら下降することで、前記浸漬トレー中の前記オゾン水に前記ウェーハを浸漬させるものであることを特徴とする洗浄装置。 - 前記供給管が前記ウェーハの中心部の上方に設置されているものであることを特徴とする請求項3に記載の洗浄装置。
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