JP2016136253A - マニピュレータを含む投影露光装置及び投影露光装置を制御する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、投影レンズと光学マニピュレータとを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置を制御する方法に関し、かつ波面誤差を決定する段階と、光学マニピュレータの各ゾーンに対する移動を有する波面誤差を補正するのに適する移動ベクトルを発生させる段階と、少なくとも1つのゾーンに対する移動に関する制約パラメータを確立する段階と、実現可能性に関して移動ベクトルの移動を検査する段階とを含む。実現可能性において制約が存在する場合に、補正値を備えた補正値ベクトルを取得する段階と、補正値の発生移動ベクトルの対応する移動への加算により補正移動ベクトルを確立する段階と、波面誤差を補償するための補正された移動ベクトルを用いて光学マニピュレータの全てのゾーンの光学効果を調節する段階とがある。
【選択図】図1
Description
PNP(z):マニピュレータの中立状態に対するゾーンz1及びz2の予め決められた加熱電力
PUC(z):波面誤差を補償するためのゾーンz1及びz2に対する予め決められた加熱電力
12 マスク
14 基板
16 放射線源
18 照明系
20 照明系の光学要素
22 投影レンズ
24 物体平面
26 像平面
28 投影レンズのレンズ要素
30 マスクに対する位置決めシステム
32 基板に対する位置決めシステム
34 光軸
48 ビーム経路
52 マニピュレータコントローラ
54 決定モジュール
56 移動発生器
58 波面センサ
60 移動発生器のメモリ
62 ゾーン検査ユニット
64 試験デバイス
66 補正デバイス
68 メモリ
70 投影レンズのミラー
136 光学マニピュレータ
136a 光学マニピュレータ
136b 光学マニピュレータ
136c 光学マニピュレータ
138 操作デバイス
140 アクチュエータ
142 ミラー後面
144 反射コーティング
145 ミラーホルダ
146 ゾーン
148 ハウジング
150 圧力センサ
152 駆動要素
154 バネ
156 接触要素
158 ミラーの光軸
160 支持板
162 凹部
164 ミラーポスト
166 位置センサ
168 L字形レバー
170 接続要素
172 バネ
174 締結要素
176 ミラーの突出部
180 圧電層
182 基板
184 電線
185 第1の接触区域
186 第2の接触区域
188 貫通孔
190 絶縁層
192 制御電極
194 対電極
196 保護層
236 光学マニピュレータ
238 照射ユニット
240 赤外線光源
244 IR放射線
245 光電センサ
246 ゾーン
248 偏向ミラー
250 光導波路
252 第1のコンデンサーレンズ要素
254 ビームスプリッタ
256 光電センサ
258 第2のコンデンサーレンズ要素
260 ホルダ
264 露光ビーム経路
336 光学マニピュレータ
338 第1の光学板
340 第2の光学板
342 間隙
344 空気流
346 加熱可能ゾーン
346a 短絡ゾーン
346b 短絡ゾーン
346c 不良ゾーン
350 作動デバイス
Claims (22)
- 投影レンズ(22)と、該投影レンズ(22)のビーム経路に配置され、該ビーム経路(48)の断面にわたって分散されて該ビーム経路(48)内で個々に調節可能な光学効果を備えた複数のゾーン(146、246、346)を有する少なくとも1つの光学マニピュレータ(136、236、336)とを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置(10)を制御する方法であって、
前記投影露光装置(10)の像視野内の波面誤差を決定する段階と、
前記決定波面誤差に基づく移動発生最適化アルゴリズムを用いて前記光学マニピュレータ(136、236、336)の各ゾーン(146、246、346)に対する移動を備えた該波面誤差を補正するのに適する移動ベクトルを発生させる段階と、
前記光学マニピュレータの少なくとも1つのゾーンに対する前記移動に関する制約パラメータを確立する段階と、
前記確立制約パラメータを考慮した実現可能性に関して前記発生された移動ベクトルの前記移動を検査し、該実現可能性に制約が存在する場合に、
前記制約パラメータと前記発生された移動ベクトルとに基づいて、前記光学マニピュレータの複数の前記ゾーンに対する補正値を備えた補正値ベクトルを取得する段階、
前記発生された移動ベクトルの前記移動を前記補正値ベクトルの対応する前記補正値に基づいて補正することによって補正移動ベクトルを確立する段階、及び
前記波面誤差を補償するための前記補正移動ベクトルを用いて前記光学マニピュレータの全てのゾーン(146、246、346)の前記光学効果を調節する段階、
を実施する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記制約パラメータは、前記光学マニピュレータ(136、236、336)の少なくとも1つのゾーン(146、246、346)に対する最大許容移動を指定することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 移動範囲に関するターゲット仕様を遵守することに関して前記光学マニピュレータ(136、236、336)の前記ゾーン(146、246、346)のアクチュエータ特性を検査する段階と、該ターゲット仕様から外れるアクチュエータ特性を有する不良ゾーン(346c)に対する最大許容移動に前記制約パラメータを固定する段階とを更に含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の方法。
- 前記光学マニピュレータ(136)は、変形可能ミラー(136a、136b、136c)を含み、前記ゾーンは、該ミラーの反射コーティングのそれぞれ変形可能な領域であり、該変形可能ミラーの各ゾーンに関する前記光学効果は、前記補正された移動ベクトルの前記移動に即した変形によって調節されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記光学マニピュレータ(236)は、照射デバイス(238)と、前記投影レンズ(22)のビーム経路(48)に配置された光学要素(28)とを含み、該光学要素(28)上の前記ゾーン(246)は、前記波面誤差を補償するための前記光学効果が該ゾーンの加熱に起因して得られるように、前記投影露光装置(10)の露光波長から外れる波長の放射線を用いて各場合に別々に該照射デバイスによって照射されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ゾーン(146、246、346)のそれぞれの前記光学効果は、それぞれの制御信号を用いて調節可能であり、
更に、2つのゾーンの前記制御信号の不正な同期に関して検査する段階があり、前記制約パラメータは、不正な同期が存在する場合に影響を受ける該2つのゾーンに対して均一な移動を指定する、
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の方法。 - 前記光学マニピュレータは、前記ゾーン(146)の前記光学効果が、圧電層(180)に接触する制御電極(192)を用いて個々に調節可能であり、かつ2つのゾーンの前記制御信号の前記不正な同期が、2つの隣接制御電極の短絡によって行われる変形可能ミラー(136c)として構成されることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記光学マニピュレータ(336)は、前記ゾーン(346)の前記光学効果を調節するための前記制御信号が該ゾーンの個々の電気加熱によって発生される電流作動式熱マニピュレータとして構成され、
更に、2つのゾーンの前記制御信号の不正な同期に関して検査する前記段階は、2つの隣接ゾーン(346a、346b)の前記加熱において両方のゾーン(346a、346b)を同じ程度まで加熱させる電気短絡に関して検査する段階を含み、前記制約パラメータは、短絡が存在する場合に該2つの隣接ゾーン(346a、346b)に対する均一な移動を指定する、
ことを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 前記補正値ベクトルを取得する前記段階は、メモリ(68)に前記投影露光装置(10)に対して与えられた複数の補正値ベクトルから補正値ベクトルを選択する段階を含むことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記補正値ベクトルを取得する前記段階は、前記制約パラメータに基づいてベース移動を備えたベース補正ベクトルを確立する段階と、前記発生された移動ベクトルと該確立されたベース補正ベクトルとに基づいてスケーリング係数を確立する段階と、該確立されたスケーリング係数を用いて該ベース補正ベクトルをスケーリングすることにより該補正値ベクトルを計算する段階とを含むことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ベース補正ベクトルを確立する前記段階は、メモリ(68)に前記投影露光装置(10)に対して与えられた複数のベース補正ベクトルからベース補正ベクトルを選択する段階を含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。
- ターゲット仕様から外れる移動範囲を有する前記光学マニピュレータ(336)の不良ゾーン(346c)が存在する場合に前記ベース補正ベクトルを確立する前記段階は、
前記ターゲット仕様と実際の移動範囲とに基づいて前記不良ゾーン(346c)に対する最大補正移動を決定する段階と、
前記マニピュレータの全ての他のゾーン(346)に対する最大移動範囲を決定する段階と、
前記不良ゾーン(346c)の前記最大補正移動、全ての他のゾーン(346)の前記最大移動範囲、及び最小又は予め決められた収差を前記ベース補正ベクトルの前記ベース移動を決定するための制約として有する最適化問題を解く段階と、
を含む、
ことを特徴とする請求項10又は請求項11に記載の方法。 - 不良ゾーンの存在を確立するために前記光学マニピュレータ(336)の前記ゾーン(346)のアクチュエータ特性を検査する段階と、不良ゾーン(346c)が存在する場合にベース補正ベクトルを計算する前記段階とは、該光学マニピュレータの生産中に行われ、該光学マニピュレータは、該計算されたベース補正ベクトルと共に前記投影露光装置(10)に与えられることを特徴とする請求項12に記載の方法。
- ターゲット仕様から外れる移動範囲を有する前記光学マニピュレータ(136、236、336)の不良ゾーン(346c)が存在する場合に前記スケーリング係数を確立する前記段階は、前記発生された移動による該移動範囲の超過値と、該不良ゾーンに対して確立された前記ベース補正ベクトルの公称設計とに基づいていることを特徴とする請求項12又は請求項13に記載の方法。
- 前記ゾーン(146、246、346)のそれぞれの前記光学効果は、それぞれの制御信号を用いて調節可能であり、
更に、前記ベース補正ベクトルを確立する前記段階は、その前記制御信号が同期される前記マニピュレータ(336)の2つのゾーン(346a、346b)に対するベース補正ベクトルを同期制御信号を有する該2つのゾーン(346a、346b)に対して異なる移動の間の予め決められた差、該光学マニピュレータの全ての他のゾーン(346)に対する最大移動範囲、及び最小収差を該ベース補正ベクトルの前記ベース移動を決定するための制約として有する最適化問題を解くことによって計算する段階を含む、
ことを特徴とする請求項10から請求項13のいずれか1項に記載の方法。 - 前記光学マニピュレータは、前記ゾーンの前記光学効果が圧電層(180)に接触する制御電極(192)を用いて個々に調節可能である変形可能ミラー(136c)として、又は該ゾーン(346)の該光学効果が電気加熱によって個々に調節可能である電流作動式熱マニピュレータ(336)として構成され、前記ベース補正ベクトルを計算する前記段階は、該光学マニピュレータ(136c、336)の2つの隣接する電気短絡ゾーンに対して行われることを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 前記スケーリング係数を確立する前記段階は、同期制御信号を有する前記2つのゾーン(346a、346b)に対する前記発生された移動の前記差と、同期制御信号を有する該ゾーン(346a、346b)に対して確立された前記ベース補正ベクトルの公称設計とに基づいていることを特徴とする請求項15又は請求項16に記載の方法。
- 前記光学マニピュレータ(336)は、前記投影露光装置(10)の前記露光放射線に対して透過性を有する板(338)を含み、該板の前記光学効果は、温度依存性であり、前記ゾーン(346)は、それぞれ、該板(338)の別々の電気加熱可能領域であり、該透過性板(338)の各ゾーン(346)に対する該光学効果を調節する段階が、前記補正された移動ベクトルの前記移動に即した加熱によって行われることを特徴とする請求項1から請求項17のいずれか1項に記載の方法。
- 前記光学マニピュレータ(336)は、前記投影露光装置(10)の前記露光放射線に対して透過性を有する第2の板(340)を含み、該第2の板の前記光学効果は、温度依存性であり、該マニピュレータ(336)の更に別のゾーン(346)が、それぞれ、該第2の板(340)の別々の電気加熱可能領域であり、両方の板(338、340)の各ゾーン(346)に対する該光学効果を調節する段階が、前記補正された移動ベクトルの前記移動に即した加熱によって行われることを特徴とする請求項18に記載の方法。
- 投影レンズの物体平面(24)から投影レンズの像平面(26)にマスク(12)を結像するための投影レンズ(22)と、
前記投影レンズ(22)のビーム経路にあり、該ビーム経路(48)の断面にわたって分散されて該ビーム経路(48)内で個々に調節可能な光学効果を備えた複数のゾーン(146、246、346)を有する少なくとも1つの光学マニピュレータ(136、236、336)と、
前記投影露光装置(10)の像視野内の波面誤差を決定するための決定モジュール(54)と、
前記決定波面誤差に基づく移動発生最適化アルゴリズムを用いて前記光学マニピュレータ(136、236、336)の各ゾーン(146、246、346)に対する移動を備えた該波面誤差を補正するのに適する移動ベクトルを発生させるための移動発生器(56)と、
前記光学マニピュレータ(136、236、336)の少なくとも1つのゾーン(146、246、346)に対する前記移動に関して制約パラメータを確立し、かつ該確立制約パラメータを考慮した実現可能性に関して前記発生された移動ベクトルの前記移動を検査するための試験デバイス(62、64)と、
少なくとも1つの移動の前記実現可能性における制限の場合に前記発生された移動ベクトルを補正するためのものであり、前記制約パラメータと該発生された移動ベクトルとに基づいて前記光学マニピュレータの複数の前記ゾーン(146、246、346)に対する補正値を有する補正値ベクトルを取得し、かつ該補正値ベクトルの対応する該補正値に基づいて該発生された移動ベクトルの該移動を補正することによって補正された移動ベクトルを確立するように具現化された補正デバイス(66)と、
前記波面誤差を補償するための前記補正された移動ベクトルを用いて前記光学マニピュレータ(136、236、336)の全てのゾーン(146、246、346)を調節するための作動デバイス(50)と、
を含むことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。 - 前記補正デバイス(66)は、前記制約パラメータに基づいてベース移動を有するベース補正ベクトルを確立し、前記発生された移動ベクトルに基づいてスケーリング係数を確立し、かつ該確立されたスケーリング係数を用いて該ベース補正ベクトルをスケーリングすることにより前記補正値ベクトルを計算するように具現化されることを特徴とする請求項20に記載の投影露光装置。
- 請求項1から請求項19のいずれか1項に記載の方法を実施するように具現化されることを特徴とする請求項20又は請求項21に記載の投影露光装置。
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