JP2016136253A5 - - Google Patents

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一例として、ベース補正ベクトルは、完全実施することができないゾーンの移動に対して確立することができ、スケーリング係数を用いたスケーリングによって、発生された移動ベクトルを補正するために、完全実施することができないゾーンの多くの他の移動に対して使用することできる。対応する陳述は、複数のゾーンの場合に制約パラメータによって予め決定される移動制限に適用される。従って、ベース補正ベクトルの使用は、複数の異なる発生された移動ベクトルに対する補正値ベクトルの確立を有意に簡素化する。
補正値ベクトルは、確立されたスケーリング係数を用いてベース補正ベクトルをスケーリングすることによって決定される。次いで、補正値ベクトルの補正値を成分毎に発生された移動ベクトルの移動に加算することによって補正された移動ベクトルが計算される。
短絡ゾーン346a、346bに対して、意図する移動範囲の平均値についての移動のベース差の場合の発生された移動の平均値(s1+s2)/2か、又は意図する移動範囲の平均値と最大値とのベース差の場合の第1のゾーン346aに対する発生された移動のいずれかが、補正された移動ベクトルにおいて移動として設定される。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013204391B3 (de) 2013-03-13 2014-05-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator
JP6147924B2 (ja) * 2013-09-14 2017-06-14 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影装置を作動させる方法
DE102017208364A1 (de) * 2017-05-18 2018-11-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches system sowie verfahren
DE102019219289A1 (de) * 2019-12-11 2021-06-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, sowie Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System
DE102020201723A1 (de) 2020-02-12 2021-08-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit einem thermischen Manipulator
US20210302831A1 (en) * 2020-03-30 2021-09-30 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus, imprint method, and article manufacturing method
DE102020207752A1 (de) 2020-06-23 2021-12-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements
DE102020207748A1 (de) * 2020-06-23 2021-03-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, insbesondere in einermikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102020209784A1 (de) * 2020-08-04 2022-02-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur herstellung oder einstellung einer projektionsbelichtungsanlage
US20230064760A1 (en) * 2021-08-30 2023-03-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method for generating euv radiation
DE102022204015A1 (de) 2022-04-26 2023-10-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Aktuator und Deformationsspiegel
DE102022114974A1 (de) 2022-06-14 2023-12-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Heizen eines optischen Elements sowie optisches System
DE102022212380A1 (de) 2022-11-21 2023-11-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Heizen eines EUV-Spiegels, mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW550377B (en) 2000-02-23 2003-09-01 Zeiss Stiftung Apparatus for wave-front detection
US6398373B1 (en) * 2000-08-09 2002-06-04 Asml Us, Inc. Pneumatic control system and method for shaping deformable mirrors in lithographic projection systems
DE10046379A1 (de) 2000-09-20 2002-03-28 Zeiss Carl System zur gezielten Deformation von optischen Elementen
DE10146499B4 (de) * 2001-09-21 2006-11-09 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen sowie Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens drei optischen Elementen
US6803994B2 (en) 2002-06-21 2004-10-12 Nikon Corporation Wavefront aberration correction system
EP1724816A4 (en) 2004-02-13 2007-10-24 Nikon Corp EXPOSURE METHOD AND SYSTEM, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
DE102004035595B4 (de) 2004-04-09 2008-02-07 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Justage eines Projektionsobjektives
US7423765B2 (en) * 2004-07-31 2008-09-09 Carl Zeiss Smt Ag Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus
US20080204682A1 (en) 2005-06-28 2008-08-28 Nikon Corporation Exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method
DE102006045075A1 (de) * 2006-09-21 2008-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Steuerbares optisches Element
US20100033704A1 (en) * 2008-08-11 2010-02-11 Masayuki Shiraishi Deformable mirror, mirror apparatus, and exposure apparatus
DE102008042356A1 (de) 2008-09-25 2010-04-08 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage mit optimierter Justagemöglichkeit
WO2011074319A1 (ja) 2009-12-14 2011-06-23 株式会社ニコン デフォーマブルミラー、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
TWI501046B (zh) 2010-07-30 2015-09-21 卡爾蔡司Smt有限公司 超紫外線曝光裝置
DE102011077784A1 (de) 2011-06-20 2012-12-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsanordnung
DE102011081603A1 (de) 2011-08-26 2012-10-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Adaptiver Spiegel und Verfahren zu dessen Herstellung
JP2013106014A (ja) 2011-11-16 2013-05-30 Nikon Corp 変形可能な反射光学素子及びその駆動方法、光学系、並びに露光装置
WO2013113336A1 (en) * 2012-02-04 2013-08-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Method of operating a microlithographic projection exposure apparatus and projection objective of such an apparatus
JP2013161992A (ja) 2012-02-06 2013-08-19 Nikon Corp 変形可能な反射光学素子、光学系、及び露光装置
DE102012205096B3 (de) * 2012-03-29 2013-08-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Manipulator
DE102012212757A1 (de) * 2012-07-20 2014-01-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum betreiben einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
DE102013204391B3 (de) * 2013-03-13 2014-05-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator
US9651872B2 (en) 2013-03-13 2017-05-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection lens with wavefront manipulator

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