DE102022212380A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Heizen eines EUV-Spiegels, mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Heizen eines EUV-Spiegels, mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage Download PDF

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Abstract

Vorrichtung zum Heizen eines EUV-Spiegels (20) einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage, umfassend eine Heizeinrichtung (24), die dazu ausgelegt ist, ein erstes Infrarot-Strahlenbündel (31) auszusenden, um einen ersten Oberflächenbereich (32) des EUV-Spiegels (20) zu erwärmen. Mit einer ersten Messeinrichtung (35, 37, 38, 39, 40, 41, 42, 43, 44, 45, 46, 47, 48) wird eine Messinformation über die mit dem ersten Infrarot-Strahlenbündel (31) übertragene Wärmeleistung gewonnen. Die Erfindung betrifft auch eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage mit einer solchen Vorrichtung sowie ein Verfahren zum Heizen eines EUV-Spiegels (20).

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Heizen eines EUV-Spiegels. Die Erfindung betrifft weiter eine mit einer solchen Vorrichtung ausgestattete mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage.
  • Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlagen werden für die Herstellung integrierter Schaltkreisen mit besonders kleinen Strukturen genutzt. Eine mit sehr kurzwelliger, tief ultravioletter oder extrem ultravioletter Strahlung (DUV- oder EUV-Strahlung) beleuchtete Maske (= Retikel) wird auf ein Lithografieobjekt abgebildet, um die Maskenstruktur auf das Lithografieobjekt zu übertragen.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage umfasst mehrere Spiegel, an denen die Strahlung reflektiert wird. Die Spiegel haben eine präzise definierte Form und sind präzise positioniert, damit die Abbildung der Maske auf das Lithografieobjekt eine hinreichende Qualität hat.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage ist im Betrieb Einflüssen ausgesetzt, die einen Einfluss auf die Qualität der Abbildung haben. Führt beispielsweise eine thermische Ausdehnung zu einer Änderung in der geometrischen Form eines Spiegels, so verändert sich die Wellenfront der an dem Spiegel reflektierten Strahlung. Um die Oberflächenform eines EUV-Spiegels in einer gewünschten Weise zu beeinflussen, kann die Projektionsbelichtungsanlage mit einer Heizeinrichtung ausgestattet sein, so dass mit Infrarotstrahlung die Oberfläche des EUV-Spiegels erwärmt werden kann.
  • Es stellt sich das Problem, dass die mit der Heizeinrichtung zugeführte Wärmeenergie nicht ohne weiteres direkt gesteuert werden kann, da die Wärmeleistung von einer Reihe von Faktoren abhängt. Dazu gehören beispielsweise Alterungsprozesse der Heizeinrichtung oder Verluste innerhalb von Komponenten der Heizeinrichtung.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Heizen eines Spiegels sowie eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage vorzustellen, mit denen diese Nachteile vermieden werden. Die Aufgabe wird gelöst mit den Merkmalen der unabhängigen Ansprüche. Vorteilhafte Ausführungsformen sind in den Unteransprüchen angegeben.
  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Heizen eines EUV-Spiegels einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage, umfassend eine Heizeinrichtung, die dazu ausgelegt ist, ein erstes Infrarot-Strahlenbündel auszusenden, um einen ersten Oberflächenbereich des EUV-Spiegels zu erwärmen. Die Vorrichtung umfasst weiter eine erste Messeinrichtung, um eine Messinformation über die mit dem ersten Infrarot-Strahlenbündel übertragene Wärmeleistung zu gewinnen.
  • Mit der Erfindung wird vorgeschlagen, die mit einer Heizeinrichtung auf einen EUV-Spiegel gerichtete Wärmeleistung direkt zu messen. Dadurch wird es möglich, Ungenauigkeiten im Betrieb einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage zu vermeiden.
  • Die Heizeinrichtung kann dazu ausgelegt sein, das erste Infrarot-Strahlenbündel auf die gesamte optische Fläche des Spiegels oder auf einen Teil der optischen Fläche des Spiegels zu richten. In einer Ausführungsform ist die Heizeinrichtung als Sektorheizer ausgebildet, der dazu ausgelegt ist, über einen ersten Kanal ein erstes Infrarot-Strahlenbündel auszusenden, um einen ersten Oberflächenbereich des EUV-Spiegels zu erwärmen, und über einen zweiten Kanal ein zweites Infrarot-Strahlenbündel auszusenden, um einen zweiten Oberflächenbereich des EUV-Spiegels zu erwärmen
  • Die Vorrichtung kann eine zweite Messeinrichtung umfassen, um eine Messinformation über die mit dem zweiten Infrarot-Strahlenbündel übertragene Wärmeleistung zu gewinnen. Die Vorrichtung kann eine Mehrzahl von Kanälen umfassen, insbesondere mindestens fünf Kanäle, vorzugsweise mindestens zehn Kanäle umfassen, wobei jeder der Kanäle dazu ausgelegt ist, unabhängig von den anderen Kanälen ein Infrarot-Strahlenbündel auf den EUV-Spiegel zu leiten. Jeder der Kanäle kann mit einer erfindungsgemäßen Messeinrichtung ausgestattet sein, sodass für jeden der Kanäle die auf den EUV-Spiegel übertragene Wärmeleistung direkt gemessen werden kann.
  • Eine Steuereinheit kann dazu ausgelegt sein, eine Infrarot-Strahlungsquelle des ersten Kanals anzusteuern, sodass die Infrarot-Strahlungsquelle eine vorgegebene Menge an Infrarotstrahlung abgibt. Die Messinformation von der ersten Messeinrichtung kann zu der Steuereinheit gesendet werden, sodass die Infrarot-Strahlungsquelle innerhalb eines geschlossenen Regelkreises angesteuert wird. Vorzugsweise wird in jedem der Kanäle des Sektorheizers die Infrarot-Strahlungsquelle des Kanals in einem geschlossenen Regelkreises angesteuert.
  • Die Vorrichtung kann ein Optikmodul umfassen, an das eine Mehrzahl von Lichtleitern angeschlossen ist. In dem Optikmodul kann jedem der Lichtleiter ein optisches Element zugeordnet sein, um aus dem Lichtleiter austretende Infrarotstrahlung zu einem Infrarot-Strahlenbündel zu formen.
  • Die erste Messeinrichtung kann einen in dem ersten Kanal angeordneten Strahlenteiler umfassen, durch den die Infrarotstrahlung zwischen einer Infrarot-Strahlungsquelle des ersten Kanals und dem EUV-Spiegel hindurchtritt. Der Strahlenteiler kann einen Anteil der Infrarotstrahlung auf einen Infrarot-Sensor leiten. Der Infrarot-Sensor kann aus dem auftreffenden Anteil an Infrarotstrahlung eine Messinformation ableiten, die die über den ersten Kanal auf den EUV-Spiegel gerichtete Wärmeleistung repräsentiert und die Messinformation an die Steuereinheit der Vorrichtung übermitteln.
  • Der Strahlenteiler kann zwischen einem Austrittsende eines Lichtleiters des ersten Kanals und dem EUV-Spiegel angeordnet sein. Möglich ist auch, dass der Strahlenteiler zwischen der Infrarot-Strahlungsquelle des ersten Kanals und dem Lichtleiter des ersten Kanals angeordnet ist. Auf diese Weise kann die gewünschte Messinformation anhand von Infrarotstrahlung gewonnen werden, die innerhalb des Lichtleiters reflektiert wurde und in Richtung der Infrarot-Strahlungsquelle zurückgeworfen wurde.
  • In einer alternativen Ausführungsform umfasst die erste Messeinrichtung einen in dem ersten Infrarot-Strahlenbündel angeordneten Messspiegel. Der Messspiegel kann einen Anteil der Infrarotstrahlung auf einen Infrarot-Sensor leiten. Der Infrarot-Sensor kann aus dem auftreffenden Anteil an Infrarotstrahlung eine Messinformation ableiten, die die über den ersten Kanal auf den EUV-Spiegel gerichtete Wärmeleistung repräsentiert. Die Messinformation kann an die Steuereinheit der Vorrichtung übermittelt werden.
  • In weiteren Varianten der Erfindung umfasst die erste Messeinrichtung einen in dem ersten Kanal angeordneten Körper, durch den die Infrarotstrahlung zwischen der Infrarot-Strahlungsquelle des ersten Kanal und dem EUV-Spiegel hindurchtritt. In dem Körper kann eine Gitterstruktur eingeschrieben sein. Mit einem ersten optischen Sensor kann ein an der Gitterstruktur transmittiertes oder reflektiertes Lichtsignal ausgewertet wird. Der erste optische Sensor kann aus dem auftreffenden Lichtsignal eine Messinformation ableiten, die die über den ersten Kanal auf den EUV-Spiegel gerichtete Wärmeleistung repräsentiert. Die Messinformation kann an die Steuereinheit der Vorrichtung übermittelt werden.
  • Möglich ist auch, dass in dem Körper ein Hohlraum ausgebildet ist, in dem eine Substanz angeordnet ist, deren refraktive Eigenschaften in bekannter Weise von der Temperatur abhängen. Die Substanz kann insbesondere eine Flüssigkeit oder ein Gas sein. Mit einem zweiten optischen Sensor kann ein an der Substanz gebeugtes Lichtsignal ausgewertet werden. Der zweite optische Sensor kann aus dem auftreffenden Lichtsignal eine Messinformation ableiten, die die über den ersten Kanal auf den EUV-Spiegel gerichtete Wärmeleistung repräsentiert. Die Messinformation kann an die Steuereinheit der Vorrichtung übermittelt werden.
  • Alternativ kann in dem Körper ein Kanal ausgebildet sein, durch den eine Flüssigkeit geleitet wird. Mit der Flüssigkeit können Temperatursensoren durch den Kanal geführt werden. Mit den Temperatursensoren gewonnene Messwerte können über eine Funkverbindung zu einem Signalmodul geleitet werden. Das Signalmodul kann daraus eine Messinformation ableiten, die die über den ersten Kanal auf den EUV-Spiegel gerichtete Wärmeleistung repräsentiert. Die Messinformation kann an die Steuereinheit der Vorrichtung übermittelt werden.
  • Die Erfindung betrifft auch eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Mehrzahl von EUV-Spiegeln und mit einer solchen Vorrichtung zum Heizen eines EUV-Spiegels. Der Sektorheizer der Vorrichtung ist dazu ausgelegt, selektiv Infrarot-Strahlenbündel auf verschiedene Oberflächenbereiche eines ersten EUV-Spiegels zu richten, um den jeweiligen Oberflächenbereich zu erwärmen.
  • Die Erfindung betrifft weiter ein Verfahren zum Heizen eines EUV-Spiegels einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage. Mit einem Sektorheizer wird über einen ersten Kanal ein erstes Infrarot-Strahlenbündel ausgesendet, um einen ersten Oberflächenbereich des EUV-Spiegels zu erwärmen. über einen zweiten Kanal wird ein zweites Infrarot-Strahlenbündel ausgesendet, um einen zweiten Oberflächenbereich des EUV-Spiegels zu erwärmen. Mit einer ersten Messeinrichtung wird eine Messinformation über die mit dem ersten Infrarot-Strahlenbündel übertragene Wärmeleistung gewonnen.
  • Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen anhand vorteilhafter Ausführungsformen beispielhaft beschrieben. Es zeigen:
    • 1: eine Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage;
    • 2: eine schematische Darstellung des Sektorheizers aus 1;
    • 3: eine schematische Darstellung der Funktionsweise einer ersten Ausführungsform der Erfindung;
    • 4-8: schematische Darstellungen der Funktionsweise bei weiteren Ausführungsformen der Erfindung.
  • In 1 ist eine mikrotlithografische EUV-Projektionsbelichtungsanlage schematisch dargestellt. Die Projektionsbelichtungsanlage umfasst ein Beleuchtungssystem 10 und ein Projektionsobjektiv 22. Mithilfe des Beleuchtungssystems 10 wird ein Objektfeld 13 in einer Objektebene 12 beleuchtet.
  • Das Beleuchtungssystem 10 umfasst eine Belichtungsstrahlungsquelle 14, die elektromagnetische Strahlung im EUV-Bereich, also insbesondere mit einer Wellenlänge zwischen 5 nm und 30 nm, abgibt. Die von der Belichtungsstrahlungsquelle 14 ausgehende Beleuchtungsstrahlung wird zunächst mit einem Kollektor 15 in eine Zwischenfokusebene 16 gebündelt.
  • Das Beleuchtungssystem 10 umfasst einen Umlenkspiegel 17, mit dem die von der Belichtungsstrahlungsquelle 14 abgegebene Beleuchtungsstrahlung auf einen ersten Facettenspiegel 18 umgelenkt wird. Dem ersten Facettenspiegel 18 ist ein zweiter Facettenspiegel 19 nachgeordnet. Mit dem zweiten Facettenspiegels 19 werden die einzelnen Facetten des ersten Facettenspiegels 18 in das Objektfeld 13 abgebildet.
  • Mithilfe des Projektionsobjektivs 22 wird das Objektfeld 13 über eine Mehrzahl von Spiegeln 20 in eine Bildebene 21 abgebildet. In dem Objektfeld 13 ist eine Maske (auch Retikel genannt) angeordnet, die auf eine lichtempfindliche Schicht eines in der Bildebene 21 angeordneten Wafers abgebildet wird.
  • Die diversen Spiegel der Projektionsbelichtungsanlage, an denen die Beleuchtungsstrahlung reflektiert wird, sind als EUV-Spiegel ausgebildet. Die EUV-Spiegel sind mit hoch reflektierenden Beschichtungen versehen. Es kann sich um Multilayer-Beschichtungen handeln, insbesondere um Multilayer-Beschichtungen mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium. Die EUV-Spiegel reflektieren etwa 70 % der auftreffenden EUV-Strahlung. Die restlichen etwa 30 % werden absorbiert und führen zu einer Erwärmung der EUV-Spiegel.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage umfasst einen Sektorheizer 24, der dazu ausgelegt ist, Infrarotstrahlung auf die Reflexionsfläche eines EUV-Spiegels 20 des Projektionsobjektivs 22 zu richten, um den EUV-Spiegel 20 lokal zu erwärmen. Die lokale Erwärmung bewirkt eine lokale thermische Ausdehnung. Die lokale thermische Ausdehnung kann gezielt so gestaltet werden, dass ein Beitrag geleistet wird, um eine an dem EUV-Spiegel 20 reflektierte Wellenfront in einer gewünschten Weise zu beeinflussen.
  • Der Sektorheizer 24 umfasst gemäß 2 ein Optikmodul 26, an das eine Mehrzahl von Lichtleitern 27 angeschlossen ist. Jedem der Lichtleiter 27 ist eine Infrarot-Strahlungsquelle 28 zugeordnet, mit der Infrarotstrahlung in den Lichtleiter 27 eingespeist wird. Das Optikmodul 26 umfasst für jeden der Lichtleiter 27 ein optisches Element, das in 3 vereinfacht als eine Linse 33 dargestellt ist und mit dem die aus dem Lichtleiter 27 austretende Infrarotstrahlung zu einem Infrarot-Strahlenbündel 31 geformt wird, mit dem ein bestimmter Oberflächenbereich 32 auf der Reflexionsfläche des EUV-Spiegels 20 beleuchtet wird. In der vereinfachten Darstellung in 2 ist der Sektorheizer 24 mit drei Lichtleitern 27, drei Infrarot-Strahlenbündeln 31 und drei Oberflächenbereichen 32 dargestellt. In der Praxis kann die Anzahl der Sektoren des Sektorheizers 24 größer sein.
  • Der Sektorheizer 24 umfasst eine Steuereinheit 29, die in Abhängigkeit von verschiedenen Eingangsgrößen die Infrarot-Strahlungsquellen 28 ansteuert. In 2 ist beispielhaft ein Messfühler 30 dargestellt, der einen Messwert über eine Zustandsgröße des EUV-Spiegels 20 erfasst und der Steuereinheit 29 zuführt. Durch geeignete Ansteuerung der der Infrarot-Strahlungsquellen 28 kann die Oberflächenform der Reflexionsfläche des EUV-Spiegels 20 in einer gewünschten Weise beeinflusst werden.
  • Es stellt sich das Problem, dass der Zusammenhang zwischen einem an eine Infrarot-Strahlungsquelle 28 gesendeten Steuerbefehl und der tatsächlich mit dem Infrarot-Strahlenbündel 31 auf den Sektor 32 übertragenen Wärmeleistung von einer Reihe von Faktoren abhängt, wie beispielsweise Alterungsprozessen der Infrarot-Strahlungsquelle 28 oder Verlusten innerhalb von Komponenten des Sektorheizers 24. Es kann deswegen vorkommen, dass die tatsächlich auf der Reflexionsfläche des EUV-Spiegels 20 ankommende Wärmeleistung nicht mit dem übereinstimmt, was mit dem Steuersignal an die Infrarot-Strahlungsquelle 28 beabsichtigt war. Mit der Erfindung wird deswegen vorgeschlagen, für die einzelnen Sektoren 32 die tatsächlich auf den EUV-Spiegel 20 gerichtete Infrarotstrahlung durch eine Messung zu erfassen. In 2 ist beispielhaft ein Sensor 34 dargestellt, der für eines der Infrarot-Strahlenbündel 31 einen Messwert aufzeichnet und an die Steuereinheit 29 übermittelt. Ist eine bestimmte Wärmeleistung vorgegeben, die mit dem Infrarot-Strahlenbündel 31 auf den Sektor 32 des EUV-Spiegels 20 gerichtet werden soll, so kann diese Wärmeleistung anhand der Messwerte des Sensors 34 in einem geschlossenen Regelkreis eingestellt werden.
  • Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 3 ist innerhalb des Optikmoduls 26 für jedes Infrarot-Strahlenbündel 31 ein Strahlenteiler 35 vorgesehen, durch den das Infrarot-Strahlenbündel 31 hindurchtritt. Der Strahlenteiler 35 ist so eingerichtet, dass er einen kleinen, aber konstanten Anteil 36 des Infrarot-Strahlenbündels 31 zur Seite ablenkt, während der weit überwiegende Teil des Infrarot-Strahlenbündels 31 durch den Strahlenteiler 35 hindurchtritt und sich in Richtung des EUV-Spiegels 20 ausbreitet. Der zur Seite reflektierte Anteil des Infrarot-Strahlenbündels 31 kann beispielsweise 1 % der mit dem Infrarot-Strahlenbündel 31 übermittelten Wärmeleistung ausmachen.
  • Der zur Seite abgelenkte Anteil 36 des Infrarot-Strahlenbündels 31 trifft auf den Sensor 34, der hier als Infrarot-Sensor 37 ausgebildet ist. Der Infrarot-Sensor 37 misst die auftreffende Infrarotstrahlung und übermittelt einen entsprechenden Messwert an die Steuereinheit 29. Da die auf den Infrarot-Sensor 37 auftreffende Infrarotstrahlung in einem festen Verhältnis zur Gesamtstrahlung des Infrarot-Strahlenbündels 31 steht, erhält die Steuereinheit 29 mit dem Messwert eine Information über die tatsächlich auf den EUV-Spiegel 20 geleitete Wärmeleistung.
  • Bei der alternativen Ausführungsform gemäß 4 ist innerhalb des Optikmoduls 26 für jedes der Infrarot-Strahlenbündel 31 ein Messspiegel 38 vorgesehen, dessen Fläche klein ist im Verhältnis zum Querschnitt des Infrarot-Strahlenbündels 31. Ein auf den Messspiegel 38 auftreffender Anteil 36 des Infrarot-Strahlenbündels 31 wird zur Seite abgelenkt und trifft auf einen Infrarot-Sensor 37.
  • Der Infrarot-Sensor 37 misst die auftreffende Infrarotstrahlung und übermittelt einen entsprechenden Messwert an die Steuereinheit 29. Da die auf den Infrarot-Sensor 37 auftreffende Infrarotstrahlung in einem festen Verhältnis zur Gesamtstrahlung des Infrarot-Strahlenbündels 31 steht, erhält die Steuereinheit 29 mit dem Messwert eine Information über die tatsächlich auf den EUV-Spiegel 20 geleitete Wärmeleistung.
  • Bei der in 5 dargestellten Variante ist zwischen der Infrarot-Strahlungsquelle 28 und dem Lichtleiter 27 ein Strahlenteiler 39 angeordnet. Von der Infrarot-Strahlungsquelle 28 abgegebene Infrarotstrahlung tritt auf ihrem Weg zu dem Lichtleiter 27 durch den Strahlenteiler 39 hindurch. Ein kleiner Anteil der Infrarotstrahlung wird in dem Strahlenteiler 39 zur Seite reflektiert und ist verloren.
  • Am Eintrittsende und am Austrittsende des Lichtleiters 27 wird ein Teil der Infrarotstrahlung reflektiert. Dieser Anteil der Infrarotstrahlung breitet sich in entgegengesetzter Richtung, also von dem Lichtleiter 27 zu der Infrarot-Strahlungsquelle 28 aus und trifft dabei erneut auf den Strahlenteiler 39. Der größere Teil der Infrarotstrahlung tritt geradeaus durch den Strahlenteiler 39 hindurch und ist verloren. Ein kleinerer Anteil 36 wird zur Seite reflektiert und trifft auf einen Infrarot-Sensor 37.
  • Der Infrarot-Sensor 37 misst die auftreffende Infrarotstrahlung und übermittelt einen entsprechenden Messwert an die Steuereinheit 29. Da die auf den Infrarot-Sensor 37 auftreffende Infrarotstrahlung in einem festen Verhältnis zur in den Strahlenteiler 39 eingetretenen Infrarotstrahlung steht, die ihrerseits in einem festen Verhältnis zu der Gesamtstrahlung im Lichtleiter 27 steht, erhält die Steuereinheit 29 mit dem Messwert eine Information über die tatsächlich auf den EUV-Spiegel 20 geleitete Wärmeleistung.
  • Bei der alternativen Ausführungsform gemäß 6 ist innerhalb des Optikmoduls 26 für jeden Lichtleiter 27 ein Körper 40 aus einem transparenten Material angeordnet, durch den das Infrarot-Strahlenbündel 31 hindurchtritt. Durch Wechselwirkung mit der hindurchtretenden Infrarotstrahlung erwärmt sich der Körper 40, wobei die Erwärmung in einer festen Beziehung zu der mit der Infrarot-Strahlung 25 übertragenen Wärmeleistung steht. Aus der Temperatur des Körpers 40 kann folglich auf die Wärmeleistung geschlossen werden, die mit dem Infrarot-Strahlenbündel 31 auf den EUV-Spiegel 20 gerichtet wird.
  • Um eine Information über die Temperatur des Körpers 40 zu gewinnen, ist innerhalb des Körpers 40 eine Gitterstruktur 42 eingeschrieben. Die Gitterstruktur 42 wird gebildet, indem das Material des Körpers 40 so mit einem Laser bearbeitet wird, dass das Material einen lokal erhöhten Brechungsindex erhält. Mit einer optischen Messeinheit 41 wird Licht in den Körper 40 eingebracht, sodass das Licht auf die Gitterstruktur 42 trifft und dort teilweise reflektiert wird. Eine Erwärmung des Körpers 40 bewirkt eine Dehnung der Gitterstruktur 42, wodurch sich das an der Gitterstruktur 42 reflektierte Lichtsignal ändert. Anhand des reflektierten Lichtsignals kann die Messeinheit 41 ein Messsignal erzeugen, das die Temperatur des Körpers 40 im Bereich der Gitterstruktur 42 repräsentiert. Das Messsignal wird an die Steuereinheit 29 gesendet.
  • Bei der in 7 dargestellten Variante ist der Körper 40 mit einem Hohlraum 44 versehen, der mit einer Substanz gefüllt ist, deren refraktive Eigenschaften in bekannter Weise von der Temperatur abhängen. Mit einer Lichtquelle 43 wird ein Lichtsignal erzeugt, das sich durch den Körper 40 sowie die Substanz in dem Hohlraum 44 bis zu einem Lichtsensor 45 ausbreitet. Mit der Temperatur des Körpers 40 ändert sich die Temperatur der Substanz, was mit einer Änderung der Refraktivität einhergeht. Dies hat zur Folge, dass das bei dem Lichtsensor 45 eingehende Lichtsignal sich in Abhängigkeit von der Temperatur des Körpers 40 ändert. Der Lichtsensor 45 leitet aus dem Lichtsignal ein die Temperatur des Körpers 40 repräsentierendes Messsignal ab und sendet dieses an die Steuereinheit 29.
  • In 8 ist eine weitere Variante dargestellt, bei der sich durch den Körper 40 hindurch ein Kanal 46 erstreckt, durch den eine Flüssigkeit fließt. In der Flüssigkeit schweben Temperatursensoren 47, die sich zusammen mit der Flüssigkeit durch den Körper 40 hindurch bewegen. Dabei liefern die Temperatursensoren 47 laufend Messwerte, die von der Temperatur des Körpers 40 abhängen. Mit einem Signalmodul 48 werden die Messwerte über eine Funkverbindung 49 laufend abgefragt. Das Signalmodul 48 leitet daraus ein die Temperatur des Körpers 40 repräsentierendes Messsignal ab und sendet dieses an die Steuereinheit 29.

Claims (15)

  1. Vorrichtung zum Heizen eines EUV-Spiegels (20) einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage, umfassend eine Heizeinrichtung (24), die dazu ausgelegt ist, ein erstes Infrarot-Strahlenbündel (31) auszusenden, um einen ersten Oberflächenbereich (32) des EUV-Spiegels (20) zu erwärmen, und weiter umfassend eine erste Messeinrichtung (35, 37, 38, 39, 40, 41, 42, 43, 44, 45, 46, 47, 48), um eine Messinformation über die mit dem ersten Infrarot-Strahlenbündel (31) übertragene Wärmeleistung zu gewinnen.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Heizeinrichtung als Sektorheizer (24) ausgebildet ist, der dazu ausgelegt ist, über einen ersten Kanal (27, 28) ein erstes Infrarot-Strahlenbündel (31) auszusenden, um einen ersten Oberflächenbereich (32) des EUV-Spiegels (20) zu erwärmen, und über einen zweiten Kanal (50) ein zweites Infrarot-Strahlenbündel (51) auszusenden, um einen zweiten Oberflächenbereich (52) des EUV-Spiegels (20) zu erwärmen.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 2, umfassend eine zweite Messeinrichtung, um eine Messinformation über die mit dem zweiten Infrarot-Strahlenbündel (51) übertragene Wärmeleistung zu gewinnen.
  4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, umfassend eine Steuereinheit (29) zum Ansteuern einer Infrarot-Strahlungsquelle (28) des ersten Kanals (27, 28), wobei die Messinformation von der ersten Messeinrichtung zu der Steuereinheit (29) gesendet wird.
  5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, umfassend ein Optikmodul (26), an das eine Mehrzahl von Lichtleitern (27) angeschlossen ist, wobei in dem Optikmodul (26) jedem der Lichtleiter (27) ein optisches Element (33) zugeordnet ist, um aus dem Lichtleiter (27) austretende Infrarotstrahlung (25) zu einem Infrarot-Strahlenbündel (31) zu formen.
  6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 5, wobei die erste Messeinrichtung einen in dem ersten Kanal (27, 28) angeordneten Strahlenteiler (35, 39) umfasst, durch den die Infrarotstrahlung (25) zwischen einer Infrarot-Strahlungsquelle (28) des ersten Kanal (27, 28) und dem EUV-Spiegel (20) hindurchtritt, wobei der Strahlenteiler (35, 39) einen Anteil (36) der Infrarotstrahlung (25) auf einen Infrarot-Sensor (37) leitet.
  7. Vorrichtung nach Anspruch 6, wobei der Strahlenteiler (35) zwischen einem Austrittsende eines Lichtleiters (27) des ersten Kanals (27, 28) und dem EUV-Spiegel (20) angeordnet ist.
  8. Vorrichtung nach Anspruch 6, wobei der Strahlenteiler (39) zwischen der Infrarot-Strahlungsquelle (28) des ersten Kanals (27, 28) und dem Lichtleiter (27) des ersten Kanals (27, 28) angeordnet ist.
  9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die erste Messeinrichtung einen in dem ersten Infrarot-Strahlenbündel (31) angeordneten Messspiegel (38) umfasst, wobei der Messspiegel (38) einen Anteil (36) der Infrarotstrahlung (25) auf einen Infrarot-Sensor (37) leitet.
  10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die erste Messeinrichtung einen in dem ersten Kanal (27, 28) angeordneten Körper (40) umfasst, durch den die Infrarotstrahlung (25) zwischen einer Infrarot-Strahlungsquelle (28) des ersten Kanal (27, 28) und dem EUV-Spiegel (20) hindurchtritt.
  11. Vorrichtung nach Anspruch 10, wobei in den Körper (40) eine Gitterstruktur (42) eingeschrieben ist und wobei mit einem ersten optischen Sensor (41) ein an der Gitterstruktur (42) transmittiertes oder reflektiertes Lichtsignal ausgewertet wird.
  12. Vorrichtung nach Anspruch 10, wobei in dem Körper (40) ein Hohlraum (44) ausgebildet ist, in dem eine Substanz angeordnet ist, und wobei mit einem zweiten optischen Sensor (45) ein an der Substanz gebeugtes Lichtsignal ausgewertet wird.
  13. Vorrichtung nach Anspruch 10, wobei der Körper (40) einen Kanal (46) umfasst, durch den eine Flüssigkeit geleitet wird, wobei mit der Flüssigkeit Temperatursensoren (47) durch den Kanal (46) geführt werden.
  14. EUV-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Mehrzahl von EUV-Spiegeln (20) und mit einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 13, wobei der Sektorheizer (24) dazu ausgelegt ist, selektiv Infrarot-Strahlenbündel (31) auf verschiedene Oberflächenbereiche eines ersten EUV-Spiegels (20) zu richten, um den jeweiligen Oberflächenbereich zu erwärmen.
  15. Verfahren zum Heizen eines EUV-Spiegels (20) einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage, wobei mit einem Sektorheizer (24) über einen ersten Kanal (27, 28) ein erstes Infrarot-Strahlenbündel (31) ausgesendet wird, um einen ersten Oberflächenbereich (32) des EUV-Spiegels (20) zu erwärmen, und über einen zweiten Kanal (50) ein zweites Infrarot-Strahlenbündel (51) ausgesendet wird, um einen zweiten Oberflächenbereich (52) des EUV-Spiegels (20) zu erwärmen, wobei mit einer ersten Messeinrichtung (35, 37, 38, 39, 40, 41, 42, 43, 44, 45, 46, 47, 48) eine Messinformation über die mit dem ersten Infrarot-Strahlenbündel (31) übertragene Wärmeleistung gewonnen wird.
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