JP2016134629A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016134629A5 JP2016134629A5 JP2016006572A JP2016006572A JP2016134629A5 JP 2016134629 A5 JP2016134629 A5 JP 2016134629A5 JP 2016006572 A JP2016006572 A JP 2016006572A JP 2016006572 A JP2016006572 A JP 2016006572A JP 2016134629 A5 JP2016134629 A5 JP 2016134629A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- meth
- acrylate monomer
- optical member
- monomer
- urethane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims 20
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 11
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201562106142P | 2015-01-21 | 2015-01-21 | |
| US62/106,142 | 2015-01-21 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016134629A JP2016134629A (ja) | 2016-07-25 |
| JP2016134629A5 true JP2016134629A5 (enExample) | 2019-02-21 |
| JP6797529B2 JP6797529B2 (ja) | 2020-12-09 |
Family
ID=56407339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016006572A Active JP6797529B2 (ja) | 2015-01-21 | 2016-01-15 | 光学部材の製造方法及びそれに用いられる組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10723909B2 (enExample) |
| JP (1) | JP6797529B2 (enExample) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6504653B2 (ja) | 2014-03-31 | 2019-04-24 | 東洋合成工業株式会社 | 組成物及び部品の製造方法 |
| WO2017033970A1 (ja) | 2015-08-24 | 2017-03-02 | 東洋合成工業株式会社 | デバイスの製造方法及び組成物 |
| JP6774826B2 (ja) | 2015-09-11 | 2020-10-28 | 東洋合成工業株式会社 | 部品の製造方法 |
| EP3405932B1 (en) * | 2016-01-29 | 2025-02-19 | KiwiSecurity Software GmbH | Methods and apparatus for using video analytics to detect regions for privacy protection within images from moving cameras |
| WO2019031360A1 (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-14 | 日産化学株式会社 | インプリント用レプリカモールド材料 |
| WO2019031359A1 (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-14 | 日産化学株式会社 | インプリント用レプリカモールド材料 |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004216641A (ja) * | 2003-01-10 | 2004-08-05 | Three M Innovative Properties Co | 可とう性成形型及びその製造方法ならびに微細構造体の製造方法 |
| JP2005288933A (ja) * | 2004-04-01 | 2005-10-20 | Three M Innovative Properties Co | 可とう性成形型及びその製造方法 |
| US20080110557A1 (en) * | 2006-11-15 | 2008-05-15 | Molecular Imprints, Inc. | Methods and Compositions for Providing Preferential Adhesion and Release of Adjacent Surfaces |
| JP4560523B2 (ja) * | 2007-02-01 | 2010-10-13 | リンテック株式会社 | 光記録媒体製造用シート、ならびに光記録媒体およびその製造方法 |
| JP5515516B2 (ja) * | 2009-08-27 | 2014-06-11 | 大日本印刷株式会社 | ナノインプリント方法、パターン形成体、及びナノインプリント装置 |
| JP2012031240A (ja) * | 2010-07-29 | 2012-02-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 微細構造転写用の光重合性樹脂組成物 |
| JP4988032B2 (ja) * | 2010-12-08 | 2012-08-01 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| TWI446109B (zh) * | 2011-01-12 | 2014-07-21 | Mitsubishi Rayon Co | 活性能量線硬化性樹脂組成物、微細凹凸結構體及微細凹凸結構體的製造方法 |
| WO2013085132A1 (ko) * | 2011-12-07 | 2013-06-13 | 제일모직 주식회사 | 광경화형 점착제 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치 |
| JP2013228729A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-11-07 | Sanyo Chem Ind Ltd | 光学部品用活性エネルギー線硬化性組成物 |
| JP5776843B2 (ja) | 2012-04-06 | 2015-09-09 | 三菱電機株式会社 | 複合半導体スイッチ装置 |
| JP2014074165A (ja) * | 2012-09-12 | 2014-04-24 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
| JP2014108974A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
| US10189983B2 (en) | 2012-12-28 | 2019-01-29 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Curable resin composition, resin mold for imprinting, method for photo imprinting, method for manufacturing semiconductor integrated circuit, and method for manufacturing fine optical element |
| WO2014136731A1 (ja) | 2013-03-04 | 2014-09-12 | 東洋合成工業株式会社 | 組成物、樹脂モールド、光インプリント方法、光学素子の製造方法、及び電子素子の製造方法 |
| JP2014223795A (ja) | 2013-04-11 | 2014-12-04 | 東洋合成工業株式会社 | 部品の製造方法 |
| JP2014225653A (ja) | 2013-04-11 | 2014-12-04 | 東洋合成工業株式会社 | 樹脂モールド |
| US20140335304A1 (en) | 2013-05-09 | 2014-11-13 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Resin, method for fabricating resin, and composition |
| US9240565B2 (en) | 2013-06-06 | 2016-01-19 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Composition |
| WO2015141552A1 (ja) * | 2014-03-18 | 2015-09-24 | Ｄｉｃグラフィックス株式会社 | 活性エネルギー線硬化型オフセットインキ組成物 |
| JP2015187205A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-29 | 三菱化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物、並びにこれを用いて得られる硬化物及び積層体 |
| JP6504653B2 (ja) | 2014-03-31 | 2019-04-24 | 東洋合成工業株式会社 | 組成物及び部品の製造方法 |
| JP2018135512A (ja) * | 2017-02-23 | 2018-08-30 | 三洋化成工業株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 |
-
2016
- 2016-01-15 JP JP2016006572A patent/JP6797529B2/ja active Active
- 2016-01-21 US US15/003,620 patent/US10723909B2/en active Active