JP2016127090A5 - - Google Patents

Description

本発明の載置台は、基板に対してプラズマ処理を行うための真空容器内に前記基板を載置するために設けられる載置台において、
基板が載置される載置面を備え、当該載置面の外周にフランジを設けない構造の金属製の載置台本体と、
前記載置面の外周において、その上面が前記プラズマ処理空間に臨み、前記載置台本体を囲むように設けられた絶縁材からなるリング部材と、
前記リング部材の下方側にて前記載置台本体を囲むように設けられ、前記載置台本体の側周面に圧接して設けられた側部絶縁部材と、を備えたことを特徴とする。
また本発明の載置台は、基板に対してプラズマ処理を行うための真空容器内に前記基板を載置するために設けられる載置台において、
基板が載置され、上面から下面に至るまでの側周面が平坦な柱状の金属製の載置台本体と、
その上面が前記プラズマ処理空間に臨み、前記載置台本体を囲むように設けられた絶縁材からなるリング部材と、
前記リング部材の下方側にて前記載置台本体を囲むように設けられ、前記載置台本体の側周面に圧接して設けられた側部絶縁部材と、を備えたことを特徴とする。

Claims (12)

1. 基板に対してプラズマ処理を行うための真空容器内に前記基板を載置するために設けられる載置台において、
   基板が載置される載置面を備え、当該載置面の外周にフランジを設けない構造の金属製の載置台本体と、
   前記載置面の外周において、その上面が前記プラズマ処理空間に臨み、前記載置台本体を囲むように設けられた絶縁材からなるリング部材と、
   前記リング部材の下方側にて前記載置台本体を囲むように設けられ、前記載置台本体の側周面に圧接して設けられた側部絶縁部材と、を備えたことを特徴とする載置台。
2. 前記側部絶縁部材は、ネジ部材により外周面側から前記載置台本体の側周面に向かって締め付けられていることを特徴とする請求項１記載の載置台。
3. 前記ネジ部材は金属製であり、
   前記ネジ部材の頭部は前記側部絶縁部材のネジ孔に配置され、
   前記ネジ孔は絶縁材の蓋部により覆われていることを特徴とする請求項２記載の載置台。
4. 前記ネジ部材は絶縁材であることを特徴とする請求項２記載の載置台。
5. 前記側部絶縁部材の外周面に面接触し、その外周面から見て前記ネジ部材の配置領域が見通せないように補助絶縁部材が設けられていることを特徴とする請求項３または４に記載の載置台。
6. 前記側部絶縁部材と前記補助絶縁部材との間の隙間がプラズマ処理空間から見てラビリンスを形成するように構成されていることを特徴とする請求項５記載の載置台。
7. 前記側部絶縁部材の外周面は、上部側から順に、前記載置台本体の側周面に平行な第１の面、当該側周面に垂直な第２の面、当該側周面に平行な第３の面が連続していると共に第１の面が第２の面よりも外側に位置して部位を備え、
   前記補助絶縁部材は、ネジ部材により、前記第２の面に面接触する面から、当該補助絶縁部材を下方側から支持する支持部材に向かって締め付けられていることを特徴とする請求項６記載の載置台。
8. 基板に対してプラズマ処理を行うための真空容器内に前記基板を載置するために設けられる載置台において、
   基板が載置され、上面から下面に至るまでの側周面が平坦な柱状の金属製の載置台本体と、
   その上面が前記プラズマ処理空間に臨み、前記載置台本体を囲むように設けられた絶縁材からなるリング部材と、
   前記リング部材の下方側にて前記載置台本体を囲むように設けられ、前記載置台本体の側周面に圧接して設けられた側部絶縁部材と、を備えたことを特徴とする載置台。
9. 前記側部絶縁部材は、ネジ部材により外周面側から前記載置台本体の側周面に向かって締め付けられ、
   前記側部絶縁部材の外周面に面接触し、その外周面から見て前記ネジ部材の配置領域が見通せないように補助絶縁部材が設けられ、
   前記側部絶縁部材と前記補助絶縁部材との間の隙間がプラズマ処理空間から見てラビリンスを形成するように構成されていることを特徴とする請求項８記載の載置台。
10. 前記載置台本体の上部側は、上面及び側周面が絶縁性の溶射膜により被覆された静電チャックにより構成され、
    前記側部絶縁部材における載置台本体の側周面に圧接されている面は、前記溶射膜により被覆されている部位から、当該部位の下方側に位置する、溶射膜が被覆されていない部位に亘って伸びていることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか一項に記載の載置台。
11. 真空容器内に設けられ、請求項１ないし１０のいずれか一項に記載の載置台と、
    前記真空容器内にプラズマ化するための処理ガスを供給するガス供給部と、
    真空容器内に電界を発生させて前記処理ガスをプラズマ化するためのプラズマ発生部と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
12. 前記載置台本体は、前記処理容器の下面側から前記処理容器の底面を貫通するネジ部材により固定されていることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマ処理装置。