JP2016127090A - 載置台及びプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガラス基板Gが載置される載置台本体2を、側周面が平坦な柱状の構造とし、フォーカスリング6の下方側にて載置台本体2を囲むようにかつ載置台本体2の側周面に接されるように側部絶縁部材31を設けている。従って、フォーカスリング6の真下には載置台本体2が存在しないので、フォーカスリング6に垂直方向の電界が発生しなくなり、フォーカスリング6の削れを抑制することができる。また下部電極20の側周面に側部絶縁部材31を圧接させ、補助絶縁部材32を絶縁スペーサー部材28に圧接させると共に、側部絶縁部材31と、補助絶縁部材32との隙間をラビリンス構造にすることで、る異常放電を抑制することができる。
【選択図】図2
Description
基板が載置され、上面から下面に至るまでの側周面が平坦な柱状の金属製の載置台本体と、
その上面が前記プラズマ処理空間に臨み、前記載置台本体を囲むように設けられた絶縁材からなるリング部材と、
前記リング部材の下方側にて前記載置台本体を囲むように設けられ、前記載置台本体の側周面に圧接して設けられた側部絶縁部材と、を備えたことを特徴とする。
前記真空容器内にプラズマ化するための処理ガスを供給するガス供給部と、
真空容器内に電界を発生させて前記処理ガスをプラズマ化するためのプラズマ発生部と、を備えたことを特徴とする。
下部電極20は、角型の例えばアルミニウムからなる金属ブロック体で構成されている。図2に示すように下部電極20の上面には、直流電源202に接続されるチャック用の箱状の電極201が絶縁性の溶射膜21の中に埋設されて構成された静電吸着力でガラス基板Gを保持する静電チャック200が設けられている。従って下部電極20は、静電チャックユニットということもできる。なお図3以降の図面においては、電極201及び直流電源202の記載は省略する。
伝熱ガス拡散板25は、下部電極20のガス供給路24の下端に連通する流路18を備え、この流路18には、伝熱ガスの配管が接続されている。伝熱ガス拡散板25の上面の周縁部と下部電極20との間、及び伝熱ガス拡散板25の下面の周縁部と後述の絶縁スペーサー部材28との間には、夫々シール部材であるOリング90、91が介在して設けられている。なお図3以降の図面においては、Oリング90、91の記載は省略する。
伝熱ガス拡散板25の下面側には下部電極20及び伝熱ガス拡散板25を支持する複数の円柱状の絶縁体で構成された支持柱26が設けられている。支持柱26の中心には、貫通孔が設けられており、下部電極20は、処理容器10の下面側から底面を貫通し、貫通孔に挿入されたネジ27により固定されている。
また処理容器10の底面には、その縁部に全周に亘って、等間隔に複数の排気口15が開口しており、各排気口15には、排気管16を介して真空排気部17が設けられている。
またフォーカスリング6の下面側と絶縁体3あるいは外周絶縁部材60の上面側とに互いに係合する凹部と凸部を設けて、フォーカスリング6を絶縁体3あるいは外周絶縁部材60に係合させて固定するように構成してもよい。
更にガラス基板Gをプラズマ処理するプラズマ処理装置に限らず、円板状の例えば直径300mmウエハをプラズマ処理するプラズマ処理装置であってもよい。
3 絶縁体
6 フォーカスリング
10 処理容器
20、100 下部電極
21 溶射膜
25 伝熱ガス拡散板
28 絶縁スペーサー部材
31 側部絶縁部材
32 補助絶縁部材
35、36 ネジ
G ガラス基板
Claims (9)
- 基板に対してプラズマ処理を行うための真空容器内に前記基板を載置するために設けられる載置台において、
基板が載置され、上面から下面に至るまでの側周面が平坦な柱状の金属製の載置台本体と、
その上面が前記プラズマ処理空間に臨み、前記載置台本体を囲むように設けられた絶縁材からなるリング部材と、
前記リング部材の下方側にて前記載置台本体を囲むように設けられ、前記載置台本体の側周面に圧接して設けられた側部絶縁部材と、を備えたことを特徴とする載置台。 - 前記側部絶縁部材は、ネジ部材により外周面側から前記載置台本体の側周面に向かって締め付けられていることを特徴とする請求項1記載の載置台。
- 前記ネジ部材は金属製であり、
前記ネジ部材の頭部は前記側部絶縁部材のネジ孔に配置され、
前記ネジ孔は絶縁材の蓋部により覆われていることを特徴とする請求項2記載の載置台。 - 前記ネジ部材は絶縁材であることを特徴とする請求項2記載の載置台。
- 前記側部絶縁部材の外周面に面接触し、その外周面から見て前記ネジ部材の配置領域が見通せないように補助絶縁部材が設けられていることを特徴とする請求項3または4に記載の載置台。
- 前記側部絶縁部材と前記補助絶縁部材との間の隙間がプラズマ処理空間から見てラビリンスを形成するように構成されていることを特徴とする請求項5記載の載置台。
- 前記側部絶縁部材の外周面は、上部側から順に、前記載置台本体の側周面に平行な第1の面、当該側周面に垂直な第2の面、当該側周面に平行な第3の面が連続していると共に第1の面が第2の面よりも外側に位置して部位を備え、
前記補助絶縁部材は、ネジ部材により、前記第2の面に面接触する面から、当該補助絶縁部材を下方側から支持する支持部材に向かって締め付けられていることを特徴とする請求項6記載の載置台。 - 前記載置台本体の上部側は、上面及び側周面が絶縁性の溶射膜により被覆された静電チャックにより構成され、
前記側部絶縁部材における載置台本体の側周面に圧接されている面は、前記溶射膜により被覆されている部位から、当該部位の下方側に位置する、溶射膜が被覆されていない部位に亘って伸びていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一項に記載の載置台。 - 真空容器内に設けられ、請求項1ないし8のいずれか一項に記載の載置台と、
前記真空容器内にプラズマ化するための処理ガスを供給するガス供給部と、
真空容器内に電界を発生させて前記処理ガスをプラズマ化するためのプラズマ発生部と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
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