JP2016118639A - 液晶表示パネル - Google Patents

Abstract

【課題】高精細化を図ることのできる液晶表示パネルを提供する。又は、表示品位の劣化を抑制することが可能な液晶表示パネルを提供する。【解決手段】液晶表示パネルは、第１基板と、第２基板と、液晶層と、第１カラーフィルタＣＦ１と、第２カラーフィルタＣＦ２と、を備える。第１基板は、有機絶縁膜と、第１画素電極ＰＥＧ１及び第２画素電極ＰＥＲ１と、を備える。上記有機絶縁膜は、第１カラーフィルタＣＦ１と第２カラーフィルタＣＦ２との境界と対向し、上記境界に沿って延在し、第２基板側に突出した第１突出部１４ａを有する。【選択図】図７

Description

本発明の実施形態は、液晶表示パネルに関する。

近年、スマートフォンやタブレット向けの表示装置では、さらなる高解像度化及び高開口率化の要求が高まっている。高解像度化に伴って画素サイズが小さくなると、画素面積に対する信号線や遮光層の比率が高まるため、開口率が低くなる。特許文献１によれば、高解像度を実現しながら、開口率を確保する技術の一例として、第１色の光を放出する第１副画素及び第２色の光を放出する第２副画素を同一の列に配置し、第３色の光を放出する第３副画素を第１副画素及び第２副画素が配置された列と隣接した列に配置した有機電界発光表示装置が開示されている。

特開２０１１−２４９３３４号公報

本実施形態は、高精細化を図ることのできる液晶表示パネルを提供する。又は、本実施形態は、表示品位の劣化を抑制することが可能な液晶表示パネルを提供する。

一実施形態に係る液晶表示パネルは、
有機絶縁膜と、前記有機絶縁膜の上方に形成され互いに隣り合う第１画素電極及び第２画素電極と、を備える第１基板と、
前記第１画素電極及び前記第２画素電極と対向し、前記第１基板に隙間を置いて配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、
前記第１画素電極と対向する第１カラーフィルタと、
前記第２画素電極と対向し前記第１カラーフィルタとは異なる色の第２カラーフィルタと、を備え、
前記有機絶縁膜は、前記第１カラーフィルタと前記第２カラーフィルタとの境界と対向し前記境界に沿って延在し前記第２基板側に突出した第１突出部を有する。

図１は、一実施形態に係る液晶表示装置の構成を概略的に示す斜視図である。 図２は、図１に示した液晶表示パネルを示す概略断面図である。 図３は、図１及び図２に示した液晶表示パネルにおける画素配列の一例を示す図である。 図４は、図１及び図２に示したアレイ基板の概略構成を示す平面図である。 図５は、上記液晶表示パネルの単位画素を示す概略構成図であり、走査線、信号線、スイッチング素子、画素電極、第１遮光層及び第２遮光層を示す図である 図６は、上記単位画素を示す概略構成図であり、第１遮光層、第２遮光層及びカラーフィルタを示す図である。 図７は、図５の線ＶＩＩ−ＶＩＩに沿った液晶表示パネルを示す概略断面図である。 図８は、上記実施形態の変形例１に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの単位画素を示す概略構成図であり、第１突出部、第２突出部、第３突出部、第１遮光層、第２遮光層及びカラーフィルタを示す図である。 図９は、上記実施形態の変形例２に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの単位画素を示す概略構成図であり、第１突出部、第２突出部、第３突出部、第１遮光層、第２遮光層及びカラーフィルタを示す図である。 図１０は、上記実施形態の変形例４に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの４個の単位画素を示す概略構成図である。 図１１は、図１０に示した単位画素の概略構成図であり、第１遮光層、第２遮光層及びカラーフィルタを示す図である。

以下に、本発明の実施の形態及び変形例について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

まず、一実施形態に係る液晶表示装置について詳細に説明する。
この液晶表示装置は、例えば、スマートフォン、タブレット端末、携帯電話端末、パーソナルコンピュータ、テレビ受像装置、車載装置、ゲーム機器等の種々の装置に用いることができる。

図１は、液晶表示装置ＤＳＰの構成を概略的に示す斜視図である。本実施形態では、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、互いに直交しているが、９０°以外の角度で交差していてもよい。第３方向Ｚは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙのそれぞれと互いに直交している。
液晶表示装置ＤＳＰは、アクティブマトリックス型の液晶表示パネルＰＮＬ、液晶表示パネルＰＮＬを駆動する駆動ＩＣチップＩＣ、液晶表示パネルＰＮＬを照明するバックライトユニットＢＬ、制御モジュールＣＭ、フレキシブル配線基板ＦＰＣ１、ＦＰＣ２などを備えている。

液晶表示パネルＰＮＬは、アレイ基板ＡＲと、アレイ基板ＡＲに対向配置された対向基板ＣＴとを備えている。本実施形態において、アレイ基板ＡＲは第１基板として機能し、対向基板ＣＴは第２基板として機能している。液晶表示パネルＰＮＬは、画像を表示する表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡを囲む額縁状の非表示領域ＮＤＡと、を備えている。液晶表示パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡにおいて第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に配列された複数の主画素ＭＰＸを備えている。主画素ＭＰＸは、後述する３個の副画素のグループに相当する。

バックライトユニットＢＬは、アレイ基板ＡＲの背面に配置されている。このようなバックライトユニットＢＬとしては、種々の形態が適用可能であるが、詳細な構造については説明を省略する。駆動ＩＣチップＩＣは、アレイ基板ＡＲに実装されている。フレキシブル配線基板ＦＰＣ１は、液晶表示パネルＰＮＬと制御モジュールＣＭとを接続している。フレキシブル配線基板ＦＰＣ２は、バックライトユニットＢＬと制御モジュールＣＭとを接続している。

このような構成の液晶表示装置ＤＳＰは、バックライトユニットＢＬから液晶表示パネルＰＮＬに入射する光を各副画素で選択的に透過することによって画像を表示する、いわゆる透過型の液晶表示装置に相当する。但し、液晶表示装置ＤＳＰは、外部から液晶表示パネルＰＮＬに向かって入射する外光を各副画素で選択的に反射することによって画像を表示する反射型の液晶表示装置であっても良いし、透過型及び反射型の双方の機能を備えた半透過型の液晶表示装置であっても良い。

図２は、液晶表示パネルＰＮＬを示す概略断面図である。
図２に示すように、液晶表示パネルＰＮＬは、アレイ基板ＡＲ、対向基板ＣＴ、液晶層ＬＱ、シール材ＳＥ、第１光学素子ＯＤ１、第２光学素子ＯＤ２などを備えている。アレイ基板ＡＲ及び対向基板ＣＴの詳細については後述する。

シール材ＳＥは、非表示領域ＮＤＡに配置され、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとを貼り合わせている。液晶層ＬＱは、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に保持されている。第１光学素子ＯＤ１は、アレイ基板ＡＲの液晶層ＬＱに接する面の反対側に配置されている。第２光学素子ＯＤ２は、対向基板ＣＴの液晶層ＬＱに接する面の反対側に配置されている。第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２は、それぞれ偏光板を備えている。なお、第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２は、位相差板などの他の光学素子を含んでいてもよい。

図３は、液晶表示パネルＰＮＬの表示領域ＤＡにおける画素配列の一例を示す図である。図３には、２種類の単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２を示している。
図３に示すように、液晶表示パネルＰＮＬは、２種類の単位画素を有している。単位画素としては、単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２を挙げることができる。単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２は、それぞれカラー画像を表示するための最小単位に相当する。これらの単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２は、いずれも、副画素ＰＸＧ１、副画素ＰＸＲ１、副画素ＰＸＢ、副画素ＰＸＧ２、副画素ＰＸＲ２、及び、副画素ＰＸＷを含んでいる。

副画素ＰＸＧ１及び副画素ＰＸＧ２は、第１色を表示する画素であり、第１色のカラーフィルタＣＦ１を備えている。副画素ＰＸＲ１及び副画素ＰＸＲ２は、第１色とは異なる第２色を表示する画素であり、第２色のカラーフィルタＣＦ２を備えている。副画素ＰＸＢは、第１色及び第２色とは異なる第３色を表示する画素であり、第３色のカラーフィルタＣＦ３を備えている。副画素ＰＸＷは、第１色乃至第３色のそれぞれとは異なる第４色を表示する画素であり、第４色のカラーフィルタＣＦ４を備えている。一例では、第１色が緑色であり、第２色が赤色であり、第３色が青色であり、第４色が白色あるいは実質的に透明である。カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ３は、それぞれ着色された樹脂材料によって形成されている。カラーフィルタＣＦ４は、透明な樹脂材料、あるいは薄く色付いた樹脂材料によって形成されている。このため、カラーフィルタＣＦ４を無着色フィルタと称した方が適当な場合があり得る。

但し、単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２は、緑色、赤色、青色、白色以外の色を表示する副画素を含んでいてもよいし、白色の副画素を省略して緑色、赤色、青色の３色の副画素によって構成されていてもよい。また、単位画素の構成次第では、表示領域ＤＡには、１種類の単位画素ＵＰＸのみ（つまり、単位画素ＵＰＸ１のみ、又は、単位画素ＵＰＸ２のみ）が配列されてもよいし、３種類以上の単位画素ＵＰＸ（つまり、単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２に加えて、単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２とは異なる構成の単位画素）が配列されていてもよい。

本明細書では、一例として、３８０ｎｍ乃至７８０ｎｍの波長範囲の光を「可視光」として定義する。「青色」は、３８０ｎｍ以上４９０ｎｍ未満の第１波長範囲内に透過率ピークを有する色と定義する。「緑色」は、４９０ｎｍ以上５９０ｎｍ未満の第２波長範囲内に透過率ピークを有する色と定義する。「赤色」は、５９０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の第３波長範囲内に透過率ピークを有する色と定義する。「実質的に透明」とは、無着色である場合に加えて、可視光におけるいずれかの色に薄く着色された場合も包含する。

単位画素ＵＰＸ１は、第２方向Ｙに沿って繰り返し配置されている。同様に、単位画素ＵＰＸ２は、第２方向Ｙに沿って繰り返し配置されている。第２方向Ｙに並ぶ単位画素ＵＰＸ１の列と、第２方向Ｙに並ぶ単位画素ＵＰＸ２の列は、第１方向Ｘに沿って交互に繰り返し配置されている。

単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２において、副画素ＰＸＧ１及び副画素ＰＸＲ１は第２方向Ｙに隣り合い、副画素ＰＸＧ２及び副画素ＰＸＲ２は第２方向Ｙに隣り合い、副画素ＰＸＲ１及び副画素ＰＸＧ２も第２方向Ｙに隣り合う。単位画素ＵＰＸ１において、副画素ＰＸＧ１及び副画素ＰＸＲ１は副画素ＰＸＢと第１方向Ｘに隣り合い、副画素ＰＸＧ２及び副画素ＰＸＲ２は副画素ＰＸＷと第１方向Ｘに隣り合う。単位画素ＵＰＸ２において、副画素ＰＸＧ１及び副画素ＰＸＲ１は副画素ＰＸＷと第１方向Ｘに隣り合い、副画素ＰＸＧ２及び副画素ＰＸＲ２は副画素ＰＸＢと第１方向Ｘに隣り合う。また、単位画素ＵＰＸ１における副画素ＰＸＢは、単位画素ＵＰＸ２における副画素ＰＸＧ１及び副画素ＰＸＲ１と第１方向Ｘに隣り合う。また、単位画素ＵＰＸ１における副画素ＰＸＷは、単位画素ＵＰＸ２における副画素ＰＸＧ２及び副画素ＰＸＲ２と第１方向Ｘに隣り合う。

図３に示す例では、単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２の何れにおいても、副画素ＰＸＧ１、副画素ＰＸＧ２、副画素ＰＸＲ１、副画素ＰＸＲ２は、ほぼ同一の第１面積を有し、副画素ＰＸＢ及び副画素ＰＸＷは第１面積よりも大きい第２面積を有している。例えば、第２面積は第１面積の約２倍である。例えば、副画素ＰＸＧ１、副画素ＰＸＧ２、副画素ＰＸＲ１、副画素ＰＸＲ２、副画素ＰＸＢ、及び、副画素ＰＸＷの第１方向Ｘにおける幅は略同一であり、副画素ＰＸＢ及び副画素ＰＸＷの第２方向Ｙにおける幅は副画素ＰＸＧ１、副画素ＰＸＧ２、副画素ＰＸＲ１、及び、副画素ＰＸＲ２の第２方向Ｙにおける幅の約２倍である。すなわち、青色の副画素ＰＸＢ及び白色の副画素ＰＸＷは、そのサイズが赤色の副画素ＰＸＲ１及び副画素ＰＸＲ２、及び、緑色の副画素ＰＸＧ１及び副画素ＰＸＧ２のそれぞれのサイズよりも大きく、且つその数を少なくしたことで、実効的な解像度を落とすことなく単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２の開口率を向上することが可能となる。

なお、副画素ＰＸＢは、副画素ＰＸＷとは異なる面積を有していてもよい。また、副画素ＰＸＧ１、副画素ＰＸＧ２、副画素ＰＸＲ１、及び、副画素ＰＸＲ２は、互いに異なる面積を有していてもよい。

カラーフィルタＣＦ１乃至ＣＦ４については、それぞれ上記の副画素のレイアウトに従って配置され、また、それぞれの副画素のサイズに応じた面積を有している。すなわち、カラーフィルタＣＦ１及びカラーフィルタＣＦ２は、それぞれ島状に形成され、第２方向Ｙに交互に並んでいる。カラーフィルタＣＦ１及びカラーフィルタＣＦ２は、ほぼ同一の第１面積を有している。カラーフィルタＣＦ３及びカラーフィルタＣＦ４は、それぞれ島状に形成され、第２方向Ｙに交互に並んでいる。カラーフィルタＣＦ３及びカラーフィルタＣＦ４は、第１面積よりも大きく、ほぼ同一の第２面積を有している。例えば、第２面積は第１面積の約２倍である。

また、上記の副画素の形状は、図示したような略平行四辺形の例に限らず、正方形や例えば第２方向Ｙに延在した長方形などであってもよい。
例えば、副画素の形状が図示したような略平行四辺形の場合、単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２の２個の単位画素を組み合わせることにより、副画素ＰＸＢ及び副画素ＰＸＷのそれぞれに関しても多くのドメインを形成することが可能となり、視野角特性に関して補償することができる。このため、視野角特性に注目すると、単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２の組み合わせ（２個の単位画素）が、カラー画像を表示するための最小単位に相当する。

なお、単位画素ＵＰＸ１及び単位画素ＵＰＸ２は、それぞれ２個の主画素ＭＰＸで形成されている。単位画素ＵＰＸ１のうち、一方の主画素ＭＰＸは副画素ＰＸＧ１、副画素ＰＸＲ１及び副画素ＰＸＢの隣り合う３個の副画素で形成され、他方の主画素ＭＰＸは副画素ＰＸＧ２、副画素ＰＸＲ２及び副画素ＰＸＷの隣り合う３個の副画素で形成されている。単位画素ＵＰＸ２のうち、一方の主画素ＭＰＸは副画素ＰＸＧ１、副画素ＰＸＲ１及び副画素ＰＸＷの隣り合う３個の副画素で形成され、他方の主画素ＭＰＸは副画素ＰＸＧ２、副画素ＰＸＲ２及び副画素ＰＸＢの隣り合う３個の副画素で形成されている。

図４は、アレイ基板ＡＲの概略構成を示す平面図である。
図４に示すように、アレイ基板ＡＲは、走査線Ｇ、信号線Ｓ、画素電極ＰＥ、スイッチング素子ＳＷ、第１駆動回路ＤＲ１、第２駆動回路ＤＲ２などを備えている。

複数の走査線Ｇは、表示領域ＤＡにおいて、第１方向Ｘに延出し、第２方向Ｙに間隔を置いて並んでいる。この実施形態において、走査線Ｇは、第１方向Ｘに直線的に延在している。複数の信号線Ｓは、表示領域ＤＡにおいて、第２方向Ｙに延在し、複数の走査線Ｇと交差し、第１方向Ｘに間隔を置いて並んでいる。なお、信号線Ｓは、必ずしも直線的に延出していなくてもよく、一部が屈曲していたり、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに交差する方向に延出していたりしてもよい。画素電極ＰＥ及びスイッチング素子ＳＷは、各副画素ＰＸに配置されている。スイッチング素子ＳＷは、走査線Ｇ及び信号線Ｓと電気的に接続されている。本実施形態において、スイッチング素子ＳＷは、ダブルゲート型の薄膜トランジスタで形成されている。但し、スイッチング素子ＳＷは、ダブルゲート型の薄膜トランジスタに限定されるものではなく、種々変形可能であり、例えばシングルゲート型の薄膜トランジスタで形成されていてもよい。画素電極ＰＥは、スイッチング素子ＳＷと電気的に接続されている。

図示した例において、単位画素ＵＰＸ２は、副画素ＰＸＧ１、副画素ＰＸＲ１、副画素ＰＸＷ、副画素ＰＸＧ２、副画素ＰＸＲ２及び副画素ＰＸＢを含んでいる。このような６個の副画素を含む単位画素ＵＰＸ２には、３本の信号線Ｓと、３本の走査線Ｇとが割り当てられている。

第１駆動回路ＤＲ１及び第２駆動回路ＤＲ２は、非表示領域ＮＤＡに配置されている。第１駆動回路ＤＲ１は、非表示領域ＮＤＡに引き出された走査線Ｇと電気的に接続されている。第２駆動回路ＤＲ２は、非表示領域ＮＤＡに引き出された信号線Ｓと電気的に接続されている。第１駆動回路ＤＲ１は、各走査線Ｇに制御信号を出力する。第２駆動回路ＤＲ２は、各信号線Ｓに画像信号（例えば、映像信号）を出力する。

図５は、液晶表示パネルＰＮＬの単位画素ＵＰＸ１を示す概略構成図である。図５では、走査線Ｇ、信号線Ｓ、スイッチング素子ＳＷ、画素電極ＰＥ、第１遮光層ＳＨ１及び第２遮光層ＳＨ２を示している。
なお、図示した例では、単位画素ＵＰＸ１は、表示モードとしてＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードに対応した構成を有しているが、共通電極の図示は省略している。走査線Ｇ１乃至Ｇ３、信号線Ｓ１乃至Ｓ４、画素電極ＰＥ及び第１遮光層ＳＨ１は、上記のアレイ基板に形成される一方で、第２遮光層ＳＨ２は、上記の対向基板に形成される。なお、第１遮光層ＳＨ１は図中に実線で示され、第２遮光層ＳＨ２は図中に二点鎖線で示されている。

図５に示すように、副画素ＰＸ、走査線Ｇ及び信号線Ｓに注目すると、副画素ＰＸＧ１、副画素ＰＸＲ１、副画素ＰＸＧ２、及び副画素ＰＸＲ２は、信号線（第１信号線）Ｓ１と信号線（第２信号線）Ｓ２との間に形成されている。副画素ＰＸＧ１及び副画素ＰＸＲ１は、何れの走査線も介在することなく第２方向Ｙに隣り合う。副画素ＰＸＲ１及び副画素ＰＸＧ２は、走査線Ｇ２を挟んで第２方向Ｙに隣り合う。副画素ＰＸＧ２及び副画素ＰＸＲ２は、何れの走査線も介在することなく第２方向Ｙに隣り合う。副画素ＰＸＢ及び副画素ＰＸＷは、信号線（第３信号線）Ｓ３と信号線（第４信号線）Ｓ４との間に形成されている。副画素ＰＸＢ及び副画素ＰＸＷは、走査線Ｇ２を挟んで第２方向Ｙに隣り合う。走査線（第１走査線）Ｇ１、走査線（第２走査線）Ｇ２及び走査線（第３走査線）Ｇ３は、何れの副画素も横切ることなく形成されている。副画素ＰＸＢは、信号線Ｓ２及び信号線Ｓ３を挟んで、副画素ＰＸＧ１及び副画素ＰＸＲ１と第１方向Ｘに隣り合う。副画素ＰＸＷは、信号線Ｓ２及び信号線Ｓ３を挟んで、副画素ＰＸＧ２及び副画素ＰＸＲ２と第１方向Ｘに隣り合う。

副画素ＰＸＧ１は、信号線Ｓ２及び走査線Ｇ１と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＧ１と、スイッチング素子ＳＷＧ１と電気的に接続された画素電極ＰＥＧ１と、を備えている。
副画素ＰＸＲ１は、信号線Ｓ１及び走査線Ｇ２と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＲ１と、スイッチング素子ＳＷＲ１と電気的に接続された画素電極ＰＥＲ１と、を備えている。
副画素ＰＸＧ２は、信号線Ｓ２及び走査線Ｇ２と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＧ２と、スイッチング素子ＳＷＧ２と電気的に接続された画素電極ＰＥＧ２と、を備えている。
副画素ＰＸＲ２は、信号線Ｓ１及び走査線Ｇ３と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＲ２と、スイッチング素子ＳＷＲ２と電気的に接続された画素電極ＰＥＲ２と、を備えている。
副画素ＰＸＢは、信号線Ｓ３及び走査線Ｇ２と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＢと、スイッチング素子ＳＷＢと電気的に接続された画素電極ＰＥＢと、を備えている。
副画素ＰＸＷは、信号線Ｓ３及び走査線Ｇ３と電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＷと、スイッチング素子ＳＷＷと電気的に接続された画素電極ＰＥＷと、を備えている。
後述するが、本実施形態において、画素電極ＰＥは、共通電極と液晶層との間に位置している。画素電極ＰＥと共通電極との間に形成される電界を液晶層に与えることができるように、画素電極ＰＥは所定の形状を有している。ここでは、画素電極ＰＥは、スリットを有している。

一方、画素電極ＰＥ、走査線Ｇ及び信号線Ｓに注目すると、画素電極ＰＥＧ１、画素電極ＰＥＲ１、画素電極ＰＥＧ２、及び、画素電極ＰＥＲ２は、信号線Ｓ１と信号線Ｓ２との間に位置している。画素電極ＰＥＧ１及び画素電極ＰＥＲ１は、何れの走査線も介在することなく第２方向Ｙに隣り合う。画素電極ＰＥＲ１及び画素電極ＰＥＧ２は、走査線Ｇ２を挟んで第２方向Ｙに隣り合う。画素電極ＰＥＧ２及び画素電極ＰＥＲ２は、何れの走査線も介在することなく第２方向Ｙに隣り合う。画素電極ＰＥＢ及び画素電極ＰＥＷは、信号線Ｓ３と信号線Ｓ４との間に位置している。画素電極ＰＥＢ及び画素電極ＰＥＷは、走査線Ｇ２を挟んで第２方向Ｙに隣り合う。画素電極ＰＥＢは、信号線Ｓ２及び信号線Ｓ３を挟んで、画素電極ＰＥＧ１及び画素電極ＰＥＲ１と第１方向Ｘに隣り合う。画素電極ＰＥＷは、信号線Ｓ２及び信号線Ｓ３を挟んで、画素電極ＰＥＧ２及び画素電極ＰＥ２と第１方向Ｘに隣り合う。

第１遮光層ＳＨ１は、複数の第１遮光部ＳＨ１ａを有している。第１遮光部ＳＨ１ａは、画素電極ＰＥＧ１と画素電極ＰＥＲ１との間、及び画素電極ＰＥＧ２と画素電極ＰＥＲ２との間に位置している。また、第１遮光部ＳＨ１ａは、走査線Ｇ１と走査線Ｇ２との間、及び走査線Ｇ２と走査線Ｇ３との間に位置している。第１遮光部ＳＨ１ａは、隣り合う画素電極ＰＥの間の領域のうち、配線（走査線Ｇ、信号線Ｓ）が形成されていない領域に位置している。この実施形態において、第１遮光部ＳＨ１ａは、帯状に形成され、第１方向Ｘに延在している。

第２遮光層ＳＨ２は、副画素ＰＸの境界に沿った形状を有し、複数の帯状の延出部で形成されている。第２遮光層ＳＨ２は、走査線Ｇ１乃至Ｇ３と、信号線Ｓ１乃至Ｓ４と対向している。また、簡略化して図示した各スイッチング素子についても、第２遮光層ＳＨ２と対向している。このような第２遮光層ＳＨ２によって囲まれた領域は、表示に寄与する領域となる。
第２遮光層ＳＨ２は、複数の第１延出部ＳＨ２ａ、複数の第２延出部ＳＨ２ｂ、複数の第３延出部ＳＨ２ｃ及び複数の第４延出部ＳＨ２ｄを有している。本実施形態において、第１延出部ＳＨ２ａ、第２延出部ＳＨ２ｂ、第３延出部ＳＨ２ｃ及び第４延出部ＳＨ２ｄは、一体に形成されている。第１延出部ＳＨ２ａは、それぞれ第１方向Ｘに延出し、第１遮光部ＳＨ１ａと対向している。第２延出部ＳＨ２ｂは、それぞれ第１方向Ｘに延出し、第２方向Ｙに第１延出部ＳＨ２ａを挟み、互いに間隔を置いて位置している。第２延出部ＳＨ２ｂは、走査線Ｇ及びスイッチング素子ＳＷの少なくとも一部と対向している。第３延出部ＳＨ２ｃ及び第４延出部ＳＨ２ｄは、それぞれ第２方向Ｙに延出している。第３延出部ＳＨ２ｃは、信号線Ｓ１又は信号線Ｓ４と対向し、信号線Ｓ１又は信号線Ｓ４に沿って延出している。第４延出部ＳＨ２ｄは、信号線Ｓ２及び信号線Ｓ３と対向し、信号線Ｓ２及び信号線Ｓ３の両方に沿って延出している。

本実施形態において、一主画素を形成する画素電極ＰＥＧ１、画素電極ＰＥＲ１及び画素電極ＰＥＢに関して、画素電極ＰＥＢは、第１方向Ｘに画素電極ＰＥＧ１及び画素電極ＰＥＲ１の両方と隣り合っている。また、他の主画素を形成する画素電極ＰＥＧ２、画素電極ＰＥＲ２及び画素電極ＰＥＷに関して、画素電極ＰＥＷは、第１方向Ｘに画素電極ＰＥＧ２及び画素電極ＰＥＲ２の両方と隣り合っている。このため、画素電極ＰＥＧ１及び画素電極ＰＥＧ２は第１画素電極として機能し、画素電極ＰＥＲ１及び画素電極ＰＥＲ２は第２画素電極として機能し、画素電極ＰＥＢ及び画素電極ＰＥＷは第３画素電極として機能している。

画素電極ＰＥＧ１には、信号線Ｓ２及びスイッチング素子ＳＷＧ１を介して第１画像信号が与えられる。画素電極ＰＥＲ１には、信号線Ｓ１及びスイッチング素子ＳＷＲ１を介して第２画像信号が与えられる。画素電極ＰＥＢには、信号線Ｓ３及びスイッチング素子ＳＷＢを介して第３画像信号が与えられる。画素電極ＰＥＧ２には、信号線Ｓ２及びスイッチング素子ＳＷＧ２を介して第４画像信号が与えられる。画素電極ＰＥＲ２には、信号線Ｓ１及びスイッチング素子ＳＷＲ２を介して第５画像信号が与えられる。画素電極ＰＥＷには、信号線Ｓ３及びスイッチング素子ＳＷＷを介して第６画像信号が与えられる。

任意の表示駆動期間（例えば、１フレーム期間）における第１乃至第６画像信号の極性は、特に限定されるものではなく、種々変形可能である。
但し、任意の表示駆動期間に、第１画像信号の極性と第２画像信号の極性とを同一に設定したり、第４画像信号の極性と第５画像信号の極性とを同一に設定したりした方が望ましい。画素電極ＰＥＧ１と画素電極ＰＥＲ１との間における不所望な電界の形成や、画素電極ＰＥＧ２と画素電極ＰＥＲ２との間における不所望な電界の形成を抑制することができ、液晶層に及ぼす悪影響を抑制することができるためである。上記のような効果は、導電性を有する第１遮光部ＳＨ１ａが液晶表示パネルＰＮＬに形成されている場合においても得ることができるが、導電性を有する第１遮光部ＳＨ１ａ無しに液晶表示パネルＰＮＬが形成されている場合や、導電性を有していない第１遮光部ＳＨ１ａが液晶表示パネルＰＮＬに形成されている場合に、より高くなる。

図６は、図５に示した単位画素ＵＰＸ１を示す概略構成図であり、第１遮光層ＳＨ１、第２遮光層ＳＨ２及びカラーフィルタＣＦを示す図である。
図６に示すように、副画素ＰＸＧ１のカラーフィルタＣＦ１は図５に示した画素電極ＰＥＧ１と対向し、副画素ＰＸＲ１のカラーフィルタＣＦ２は図５に示した画素電極ＰＥＲ１と対向し、副画素ＰＸＢのカラーフィルタＣＦ３は図５に示した画素電極ＰＥＢと対向し、副画素ＰＸＧ２のカラーフィルタＣＦ１は図５に示した画素電極ＰＥＧ２と対向し、副画素ＰＸＲ２のカラーフィルタＣＦ２は図５に示した画素電極ＰＥＲ２と対向し、副画素ＰＸＷのカラーフィルタＣＦ４は図５に示した画素電極ＰＥＷと対向している。

第１延出部ＳＨ２ａは、カラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ２との境界と対向し、この境界に沿って延在している。
第２遮光層ＳＨ２は、カラーフィルタＣＦの境界に沿った形状を有している。第１延出部ＳＨ２ａは、カラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ２との境界と対向し、上記境界に沿って延在している。第２延出部ＳＨ２ｂは、カラーフィルタＣＦ２とカラーフィルタＣＦ１との境界と、カラーフィルタＣＦ４とカラーフィルタＣＦ３との境界との両方と対向し、これら両方の境界に沿って延在している。第３延出部ＳＨ２ｃは、単位画素ＵＰＸ１のカラーフィルタＣＦと、第１方向Ｘに単位画素ＵＰＸ１に隣り合う単位画素ＵＰＸ２のカラーフィルタＣＦとの境界と対向し、上記境界に沿って延在している。第４延出部ＳＨ２ｄは、単位画素ＵＰＸ１において第１方向Ｘに隣り合うカラーフィルタＣＦの境界と対向し、上記境界に沿って延在している。

ここで、第１延出部ＳＨ２ａの第２方向Ｙの幅をＷａとする。第２延出部ＳＨ２ｂの第２方向Ｙの幅をＷｂとする。第３延出部ＳＨ２ｃの第１方向Ｘの幅をＷｃとする。第４延出部ＳＨ２ｄの第１方向Ｘの幅をＷｄとする。
本実施形態において、幅Ｗａは幅Ｗｂより狭い（Ｗａ＜Ｗｂ）。幅Ｗｃは幅Ｗｄより狭い（Ｗｃ＜Ｗｄ）。さらに、幅Ｗａは、幅Ｗｃ及び幅Ｗｄのそれぞれよりも狭い（Ｗａ＜Ｗｃ，Ｗａ＜Ｗｄ）。

図７は、図５の線ＶＩＩ−ＶＩＩに沿った液晶表示パネルＰＮＬを示す概略断面図である。
図７に示すように、アレイ基板ＡＲは、ガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する第１絶縁基板１０を用いて形成されている。アレイ基板ＡＲは、第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３、第４絶縁膜１４、第５絶縁膜１５、共通電極ＣＥ、画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＲ１、第１配向膜ＡＬ１などを備えている。

第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２及び第３絶縁膜１３は、第１絶縁基板１０の上に順に形成されている。第４絶縁膜（有機絶縁膜）１４は、第３絶縁膜１３の上に形成されている。なお、第４絶縁膜１４は、走査線、信号線、スイッチング素子等の上方に形成されている。第４絶縁膜１４は、例えばアクリル樹脂などの有機材料によって形成されている。第４絶縁膜１４は、第１突出部１４ａを有している。第１突出部１４ａは、カラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ２との境界と対向し、上記境界に沿って延在し、対向基板ＣＴ側に突出している。本実施形態において、第１突出部１４ａは、画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＲ１を越えて対向基板ＣＴ側に突出している。

上記の第４絶縁膜１４は、第３絶縁膜１３等の上に感光性有機材料を塗布し、感光性有機膜を成膜し、感光性有機膜にパターニングを露光する等して形成されている。露光する際に、紫外線透過率の異なる複数のパターンを有したフォトマスクを使用することにより、第１突出部１４ａを有する第４絶縁膜１４を形成することができる。
又は、上記の第４絶縁膜１４は、第３絶縁膜１３等の上に感光性有機材料の塗布と、パターニングと、繰り返し行うことにより、第１突出部１４ａを有する第４絶縁膜１４を形成することもできる。有機材料を塗布する際、有機材料の種類を変えてもよい。

共通電極ＣＥは、第４絶縁膜１４の上に形成されている。共通電極ＣＥは、導電層ＣＬと、導電層ＣＬ上に形成された第１遮光部ＳＨ１ａとを有している。導電層ＣＬは、第１突出部１４ａの上にも形成されている。導電層ＣＬは、複数の副画素ＰＸで共用されている。導電層ＣＬは、スイッチング素子と画素電極ＰＥとのコンタクト領域を囲んだ開口を有している。例えば、導電層ＣＬは、インジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）やインジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）などの透明導電材料によって形成されている。

第１遮光部ＳＨ１ａは、第１突出部１４ａの上方に形成されている。本実施形態において、第１遮光部ＳＨ１ａは、第１突出部１４ａと対向し、導電層ＣＬの上に形成され、導電層ＣＬに電気的に接続されている。第１遮光部ＳＨ１ａ（第１遮光層ＳＨ１）は、共通電極ＣＥの一部を形成している。第１遮光部ＳＨ１ａは、遮光性を有する導電材料で形成されている。第１遮光部ＳＨ１ａに利用する材料としては、アルミニウムや、アルミニウムより光反射率の低い金属等、各種の金属材料を挙げることができる。

第５絶縁膜（層間絶縁膜）１５は、第４絶縁膜１４及び共通電極ＣＥの上に形成されている。第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３及び第５絶縁膜１５は、例えばシリコン窒化物（ＳｉＮ）やシリコン酸化物（ＳｉＯ）などの無機材料によって形成されている。

画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＲ１は、第５絶縁膜１５の上に形成され、導電層ＣＬ（共通電極ＣＥ）と対向している。画素電極ＰＥＧ１及び画素電極ＰＥＲ１は、第１突出部１４ａや第１遮光部ＳＨ１ａを挟んで位置している。画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＲ１は、導電材料で形成されている。例えば、画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＲ１は、ＩＺＯやＩＴＯなどの透明導電材料によって形成されている。第１配向膜ＡＬ１は、第５絶縁膜１５及び画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＲ１の上に形成されている。第１配向膜ＡＬ１は、例えば、水平配向性を示す材料によって形成されている。

一方、対向基板ＣＴは、ガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する第２絶縁基板２０を用いて形成されている。対向基板ＣＴは、第１延出部ＳＨ２ａ（第２遮光層ＳＨ２）、カラーフィルタＣＦ１，ＣＦ２、オーバーコート層ＯＣ、第２配向膜ＡＬ２などを備えている。

第１延出部ＳＨ２ａは、第２絶縁基板２０のアレイ基板ＡＲと対向する側に形成されている。第１延出部ＳＨ２ａは、第１延出部ＳＨ２ａ及び第１遮光部ＳＨ１ａと対向する位置に形成されている。カラーフィルタＣＦ１は、画素電極ＰＥＧ１と対向している。カラーフィルタＣＦ２は、画素電極ＰＥＲ１と対向している。カラーフィルタＣＦ１及びカラーフィルタＣＦ２のそれぞれの端部は、第１延出部ＳＨ２ａと重なっている。オーバーコート層ＯＣは、透明な樹脂材料によって形成され、カラーフィルタＣＦ１，ＣＦ２などを覆っている。第２配向膜ＡＬ２は、オーバーコート層ＯＣのアレイ基板ＡＲと対向する側に形成されている。第２配向膜ＡＬ２は、水平配向性を示す材料によって形成されている。
なお、図示した例では、カラーフィルタＣＦ１，ＣＦ２などのカラーフィルタＣＦは、対向基板ＣＴに形成されたが、アレイ基板ＡＲに形成されていてもよい。

ここで、液晶層ＬＱの厚みのうち、第１突出部１４ａと対向した領域の厚みをＴａ、画素電極ＰＥＧ１と対向した領域の厚みをＴｂ、画素電極ＰＥＲ１と対向した領域の厚みをＴｃ、とする。本実施形態において、厚みＴａは、厚みＴｂ及び厚みＴｃのそれぞれよりも小さい（Ｔａ＜Ｔｂ，Ｔａ＜Ｔｃ）。

以上のように構成された一実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰによれば、液晶表示装置ＤＳＰは、第４絶縁膜１４及び画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＲ１を備えるアレイ基板ＡＲと、対向基板ＣＴと、液晶層ＬＱと、カラーフィルタＣＦ１，ＣＦ２と、を備えている。隣り合う異なる色の副画素ＰＸＧ１，ＰＸＲ１間での混色の発生が課題となる。画素電極ＰＥＧ１と画素電極ＰＥＲ１との間の領域は、走査線Ｇや信号線Ｓなど、遮光に寄与し得る配線の存在しない領域となる場合がある。この場合、特に、上記混色の発生が課題となる。

上記混色は、液晶表示パネルＰＮＬの主面の法線に対して傾斜した方向から液晶表示パネルＰＮＬに入射した光が、互いに整合しないカラーフィルタを透過することで生じる。一例では、単位画素において赤色の単色を表示する場合、赤色の副画素に配置された赤色カラーフィルタを透過した光のみが表示に寄与すべきところ、赤色の副画素の第２方向Ｙに隣り合う緑色の副画素に配置された緑色カラーフィルタを透過した光も表示に寄与してしまい、赤色と緑色とが混ざった色として視認される。このような隣の副画素のカラーフィルタを透過して混色を招く不整合光は、隣り合う副画素の境界で発生する。副画素のサイズあるいは副画素の第２方向Ｙの幅が大きい場合には、大部分の光が本来表示すべき色のカラーフィルタを透過して表示に寄与するため、不整合光が表示に寄与する割合が極めて小さくなる。このため、副画素が第２方向Ｙに沿って比較的大きな幅を有する場合には、混色が視認されにくくなり、表示品位の劣化を抑制することが可能となる。

しかしながら、本実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰは、４００ｐｐｉ以上、さらには６００ｐｐｉクラスの高解像度の液晶表示装置であり、副画素の第２方向Ｙの幅を充分に大きく設定することは困難である。ここで、上記ｐｐｉは、pixels per inch であるが、本実施形態においては１インチあたりの主画素ＭＰＸの数を表している。つまり、上記pixelsは、複数の主画素ＭＰＸに相当している。さらに、高い開口率を得るために第１延出部ＳＨ２ａの幅Ｗａを幅Ｗｂより狭くしている。上記のように、高精細化及び高開口率化を図る場合、隣り合う異なる色の副画素ＰＸＧ１，ＰＸＲ１間での混色の発生が課題となる。

そこで、第４絶縁膜１４は、第１突出部１４ａを有している。第１突出部１４ａは、カラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ２との境界と対向し、上記境界に沿って延在し、対向基板ＣＴ側に突出している。液晶層ＬＱの厚みに関して、Ｔａ＜Ｔｂ，Ｔａ＜Ｔｃである。第１突出部１４ａを設けることにより、液晶層ＬＱに偏光の変調率の低い領域を形成することができる。すなわち、液晶層ＬＱのうち、第１突出部１４ａと対向した領域は、画素電極ＰＥＧ１，ＰＥＲ１と対向した領域より偏光の変調が起こり難い。これにより、高い開口率化を図りつつ、副画素ＰＸＧ１と副画素ＰＸＲ１との間での混色の発生を抑制することが可能となる。

さらに、本実施形態において、第１遮光部ＳＨ１ａ（第１遮光層ＳＨ１）が第１突出部１４ａの上方に形成されている。第１遮光部ＳＨ１ａは、遮光性を有し、バックライトを遮蔽することができる。これにより、上記混色の発生を一層抑制することができる。

またさらに、本実施形態において、第１遮光部ＳＨ１ａは導電性を有している。第１遮光部ＳＨ１ａは、コモン電位に固定されている。ここで、コモン電位は、定電位であり、例えば０Ｖに近い電位である。このため、液晶表示パネルＰＮＬは、さらに電界遮蔽効果を得ることができ、上記混色の発生を一層抑制することができる。すなわち、導電性を有する第１遮光部ＳＨ１ａを利用することにより、画素電極ＰＥＧ１と第１遮光部ＳＨ１ａとの間に電界を形成したり、画素電極ＰＥＲ１と第１遮光部ＳＨ１ａとの間に電界を形成したりすることができる。画素電極ＰＥＧ１と画素電極ＰＥＲ１との間における不所望な電界の形成を抑制することができるため、液晶層ＬＱのうち第１遮光部ＳＨ１ａと対向した領域において、偏光の変調率が不所望に高くなる事態を低減することができるものである。

上述したことから、本実施形態において、高精細化を図ることのできる液晶表示パネルＰＮＬ及び液晶表示装置ＤＳＰを得ることができる。又は、表示品位の劣化を抑制することが可能な液晶表示パネルＰＮＬ及び液晶表示装置ＤＳＰを得ることができる。

次に、上記実施形態の変形例１に係る液晶表示装置ＤＳＰについて説明する。
図８は、変形例１に係る液晶表示装置ＤＳＰの液晶表示パネルＰＮＬの単位画素ＵＰＸ１を示す概略構成図であり、第１突出部１４ａ、第２突出部１４ｂ、第３突出部１４ｃ、第１遮光層ＳＨ１、第２遮光層ＳＨ２及びカラーフィルタＣＦを示す図である。

図８に示すように、第４絶縁膜１４は、複数の第１突出部１４ａの他に、複数の第２突出部１４ｂ及び複数の第３突出部１４ｃをさらに有していてもよい。本実施形態において、第１突出部１４ａ、第２突出部１４ｂ及び第３突出部１４ｃは連続的に形成されている。
第２突出部１４ｂは、図５に示した信号線Ｓ１又は信号線Ｓ４と対向し上記信号線に沿って延在し、対向基板ＣＴ側に突出している。また、第２突出部１４ｂは、カラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ４との境界と、カラーフィルタＣＦ２とカラーフィルタＣＦ４との境界との両方と対向し、これら両方の境界に沿って延在している。又は、第２突出部１４ｂは、カラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ３との境界と、カラーフィルタＣＦ２とカラーフィルタＣＦ３との境界との両方と対向し、これら両方の境界に沿って延在している。

第３突出部１４ｃは、図５に示した信号線Ｓ２及び信号線Ｓ３と対向し上記信号線に沿って延在し、対向基板ＣＴ側に突出している。また、第３突出部１４ｃは、カラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ３との境界と、カラーフィルタＣＦ２とカラーフィルタＣＦ３との境界との両方と対向し、これら両方の境界に沿って延在している。又は、第３突出部１４ｃは、カラーフィルタＣＦ１とカラーフィルタＣＦ４との境界と、カラーフィルタＣＦ２とカラーフィルタＣＦ４との境界との両方と対向し、これら両方の境界に沿って延在している。

第２方向Ｙに並んだ第２突出部１４ｂは、第２延出部ＳＨ２ｂと対向した領域において間隔を置いて設けられている。第２突出部１４ｂの両端部は、それぞれ第２延出部ＳＨ２ｂと対向している。
同様に、第２方向Ｙに並んだ第３突出部１４ｃは、第２延出部ＳＨ２ｂと対向した領域において間隔を置いて設けられている。第３突出部１４ｃの両端部は、それぞれ第２延出部ＳＨ２ｂと対向している。

第１遮光層ＳＨ１は、複数の第１遮光部ＳＨ１ａの他に、複数の第２遮光部ＳＨ１ｂ及び複数の第３遮光部ＳＨ１ｃを有している。第１遮光部ＳＨ１ａ、第２遮光部ＳＨ１ｂ及び第３遮光部ＳＨ１ｃは、連続的に形成されている。第２遮光部ＳＨ１ｂは第２突出部１４ｂの上方に形成され、第３遮光部ＳＨ１ｃは第３突出部１４ｃの上方に形成されている。第２遮光部ＳＨ１ｂ及び第３遮光部ＳＨ１ｃは、図７に示した導電層ＣＬの上に形成され、導電層ＣＬに電気的に接続されている。第２遮光部ＳＨ１ｂ及び第３遮光部ＳＨ１ｃに利用する材料は、第１遮光部ＳＨ１ａに利用する材料と同一である。
上述したことから、本変形例１においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。また、第１方向Ｘに隣り合う異なる色の副画素間での混色の発生を一層抑制することができる。

次に、上記実施形態の変形例２に係る液晶表示装置ＤＳＰについて説明する。
図９は、変形例２に係る液晶表示装置ＤＳＰの液晶表示パネルＰＮＬの単位画素ＵＰＸ１を示す概略構成図であり、第１突出部１４ａ、第２突出部１４ｂ、第３突出部１４ｃ、第１遮光層ＳＨ１、第２遮光層ＳＨ２及びカラーフィルタＣＦを示す図である。

図９に示すように、第２方向Ｙに並んだ第２突出部１４ｂが連続的に形成され、第２方向Ｙに並んだ第３突出部１４ｃが連続的に形成され、第２方向Ｙに並んだ第２遮光部ＳＨ１ｂが連続的に形成され、第２方向Ｙに並んだ第３遮光部ＳＨ１ｃが連続的に形成されている以外、変形例２の液晶表示パネルＰＮＬは、上記変形例１の液晶表示パネルと同様に形成されている。
上述したことから、本変形例２においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
また、上述した変形例１及び変形例２の何れにおいても、液晶表示パネルＰＮＬは、第３突出部１４ｃ及び第３遮光部ＳＨ１ｃを必要に応じて有していればよい。

次に、上記実施形態の変形例３に係る液晶表示装置ＤＳＰについて説明する。
変形例３の液晶表示パネルＰＮＬは、信号線Ｓと画素電極ＰＥとの位置関係に関して上述した実施形態と相違している。図５を参照し、変形例３と上述した実施形態とを比較すると、変形例３において、画素電極ＰＥＢ及び画素電極ＰＥＷは、信号線Ｓ３と信号線Ｓ４との間ではなく、信号線Ｓ２と信号線Ｓ３との間に位置している。
第３延出部ＳＨ２ｃは、信号線Ｓ２と対向している。第４延出部ＳＨ２ｄは、信号線Ｓ１を含む２本の信号線Ｓと対向している。又は、第４延出部ＳＨ２ｄは、信号線Ｓ３及び信号線Ｓ４の両方と対向している。

なお、変形例３の液晶表示パネルＰＮＬは、図８及び図９に示した第２突出部１４ｂ、第３突出部１４ｃ、第２遮光部ＳＨ１ｂ及び第３遮光部ＳＨ１ｃをさらに備えていてもよい。この場合、第２突出部１４ｂ及び第２遮光部ＳＨ１ｂは、信号線Ｓ２と対向し信号線Ｓ２に沿って延在している。第３突出部１４ｃ及び第３遮光部ＳＨ１ｃは、信号線Ｓ１を含む２本の信号線Ｓの境界と対向し、上記境界に沿って延在している。又は、第３突出部１４ｃ及び第３遮光部ＳＨ１ｃは、信号線Ｓ３及び信号線Ｓ４の境界と対向し、上記境界に沿って延在している。
上述したことから、本変形例３においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。

次に、上記実施形態の変形例４に係る液晶表示装置ＤＳＰについて説明する。
図１０は、変形例４に係る液晶表示装置ＤＳＰの液晶表示パネルＰＮＬの４個の単位画素ＵＰＸを示す概略構成図である。
図１０に示すように、液晶表示パネルＰＮＬは、マトリクス状に配置された複数の単位画素ＵＰＸを有している。単位画素ＵＰＸは、１個の主画素ＭＰＸで形成されている。液晶表示パネルＰＮＬは、信号線Ｓ１乃至Ｓ４及び走査線Ｇを有している。信号線Ｓ１乃至Ｓ４は、第２方向Ｙに並んだ複数の単位画素ＵＰＸで共用されている。走査線Ｇは、第１方向Ｘに並んだ複数の単位画素ＵＰＸで共用されている。

単位画素ＵＰＸは、上記第２色を表示する副画素ＰＸＲ、上記第４色を表示する副画素ＰＸＷ、上記第１色を表示する副画素ＰＸＧ及び上記第３色を表示する副画素ＰＸＢの隣り合う４個の副画素で形成されている。副画素ＰＸＲは、信号線Ｓ１に電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＲと、スイッチング素子ＳＷＲに電気的に接続された画素電極ＰＥＲと、を有している。副画素ＰＸＷは、信号線Ｓ２に電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＷと、スイッチング素子ＳＷＷに電気的に接続された画素電極ＰＥＷと、を有している。副画素ＰＸＧは、信号線Ｓ３に電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＧと、スイッチング素子ＳＷＧに電気的に接続された画素電極ＰＥＧと、を有している。副画素ＰＸＢは、信号線Ｓ４に電気的に接続されたスイッチング素子ＳＷＢと、スイッチング素子ＳＷＢに電気的に接続された画素電極ＰＥＢと、を有している。

画素電極ＰＥＲ及び画素電極ＰＥＷは、信号線Ｓ１と信号線Ｓ２との間に位置している。画素電極ＰＥＧ及び画素電極ＰＥＢは、信号線Ｓ３と信号線Ｓ４との間に位置している。走査線Ｇは、第１方向Ｘに並んだ複数の単位画素ＵＰＸの画素電極ＰＥＲ及び画素電極ＰＥＧのグループと、同一の複数の単位画素ＵＰＸの画素電極ＰＥＷ及び画素電極ＰＥＢのグループと、の間に位置している。
なお、第２方向Ｙにおいて、隣り合う単位画素ＵＰＸの間には、走査線Ｇなどの配線が存在しない場合があり得る。

図１１は、図１０に示した複数の単位画素ＵＰＸの概略構成図であり、第１遮光層ＳＨ１、第２遮光層ＳＨ２及びカラーフィルタＣＦを示す図である。
図１１に示すように、第１突出部１４ａ及び第１延出部ＳＨ２ａは、第２方向Ｙに隣り合う単位画素ＵＰＸの境界と対向し、この境界に沿って延在している。又は、第１突出部１４ａ及び第１延出部ＳＨ２ａは、第１方向Ｘに並んだ複数の単位画素ＵＰＸのカラーフィルタＣＦのグループと、上記複数の単位画素ＵＰＸに第２方向Ｙに隣り合うとともに第１方向Ｘに並んだ複数の単位画素ＵＰＸのカラーフィルタＣＦのグループと、の境界と対向し、この境界に沿って延在している。

第２延出部ＳＨ２ｂは、図１０に示した走査線Ｇと対向し、走査線Ｇに沿って延在している。また、第２延出部ＳＨ２ｂは、第１方向Ｘに並んだ複数の単位画素ＵＰＸのカラーフィルタＣＦ１，ＣＦ２のグループと、同一の複数の単位画素ＵＰＸのカラーフィルタＣＦ３，ＣＦ４のグループと、の境界と対向し、この境界に沿って延在している。
第４延出部ＳＨ２ｄは、図１０に示した２本の信号線Ｓと対向し、これらの信号線Ｓに沿って延出している。
本変形例４において、幅Ｗａは幅Ｗｂより狭い（Ｗａ＜Ｗｂ）。さらに、幅Ｗａは、幅Ｗｄよりも狭い（Ｗａ＜Ｗｄ）。
上述したことから、本変形例４においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。なお、本変形例４において、液晶表示パネルＰＮＬは、上述した第３突出部１４ｃ及び第３遮光部ＳＨ１ｃをさらに備えていてもよい。これにより、第１方向Ｘに隣り合う異なる色の副画素間での混色の発生を一層抑制することができる。

本発明の実施形態を説明したが、上記実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。上記の新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。上記の実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

例えば、液晶表示パネルＰＮＬは、第１遮光層ＳＨ１無しに形成されていてもよい。液晶表示パネルＰＮＬは、第１突出部１４ａなどの突出部を有していればよく、これにより、混色の発生を抑制することができる。

例えば、上述した実施形態に係る液晶表示パネルＰＮＬは、表示モードとしてＦＦＳモードに対応した構成を有しているが、他の表示モードに対応した構成を有していてもよい。例えば、液晶表示パネルＰＮＬは、ＦＦＳモード等の主として基板主面に略平行な横電界を利用するＩＰＳ（In-Plane Switching）モードに対応した構成を有していてもよい。横電界を利用する表示モードでは、例えばアレイ基板ＡＲに画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの双方が備えられた構成が適用可能である。

又は、液晶表示パネルＰＮＬは、画素電極ＰＥがアレイ基板ＡＲに形成される一方で共通電極ＣＥの少なくとも一部が対向基板ＣＴに形成された構成を有していてもよい。画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に形成される電界を主に利用して液晶層ＬＱの液晶分子をスイッチングすることができる。画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に形成される電界は、基板主面あるいは基板主面に対してわずかに傾いた斜め電界（あるいは、基板主面にほぼ平行な横電界）である。この場合、画素電極ＰＥと第１遮光層ＳＨ１とを同一の金属材料で形成することができ得る。なお、ここでの基板主面とは、第１方向Ｘと第２方向Ｙとで規定されるＸ−Ｙ平面と平行な面である。

又は、液晶表示パネルＰＮＬは、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＯＣＢ（Optically Compensated Bend）モード、ＶＡ（Vertical Aligned）モード等の主として基板主面に略垂直な縦電界を利用するモードに対応した構成を有していてもよい。縦電界を利用する表示モードでは、例えばアレイ基板ＡＲに画素電極ＰＥが備えられ、対向基板ＣＴに共通電極ＣＥが備えられた構成が適用可能である。

本発明の実施形態は、上述した液晶表示パネルＰＮＬ及び液晶表示装置ＤＳＰに限定されるものではなく、各種の液晶表示パネル及び液晶表示装置に適用可能である。なお、上述した実施形態は、中小型の表示装置から大型の表示装置まで、特に限定することなく適用が可能であることは言うまでもない。

ＤＳＰ…液晶表示装置、ＰＮＬ…液晶表示パネル、ＡＲ…アレイ基板、ＣＴ…対向基板、ＬＱ…液晶層、ＵＰＸ，ＵＰＸ１，ＵＰＸ２…単位画素、ＭＰＸ…主画素、ＰＸ，ＰＸＲ，ＰＸＲ１，ＰＸＲ２，ＰＸＧ，ＰＸＧ１，ＰＸＧ２，ＰＸＢ，ＰＸＷ…副画素、Ｇ，Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３…走査線、Ｓ，Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４…信号線、ＳＷ，ＳＷＲ，ＳＷＲ１，ＳＷＲ２，ＳＷＧ，ＳＷＧ１，ＳＷＧ２，ＳＷＷ，ＳＷＢ…スイッチング素子、１４…第４絶縁膜、１４ａ…第１突出部、１４ｂ…第２突出部、１４ｃ…第３突出部、ＣＥ…共通電極、ＳＨ１…第１遮光層、ＳＨ１ａ…第１遮光部、ＳＨ１ｂ…第２遮光部、ＳＨ１ｃ…第３遮光部、ＰＥ，ＰＥＲ，ＰＥＲ１，ＰＥＲ２，ＰＥＧ，ＰＥＧ１，ＰＥＧ２，ＰＥＷ，ＰＥＢ…画素電極、ＳＨ２…第２遮光層、ＳＨ２ａ…第１延出部、ＳＨ２ｂ…第２延出部、ＳＨ２ｃ…第３延出部、ＳＨ２ｄ…第４延出部、ＣＦ，ＣＦ１，ＣＦ２，ＣＦ３，ＣＦ４…カラーフィルタ、Ｗａ，Ｗｂ，Ｗｃ，Ｗｄ…幅、Ｘ…第１方向、Ｙ…第２方向

Claims (11)

1. 有機絶縁膜と、前記有機絶縁膜の上方に形成され互いに隣り合う第１画素電極及び第２画素電極と、を備える第１基板と、
   前記第１画素電極及び前記第２画素電極と対向し、前記第１基板に隙間を置いて配置された第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、
   前記第１画素電極と対向する第１カラーフィルタと、
   前記第２画素電極と対向し前記第１カラーフィルタとは異なる色の第２カラーフィルタと、を備え、
   前記有機絶縁膜は、前記第１カラーフィルタと前記第２カラーフィルタとの境界と対向し前記境界に沿って延在し前記第２基板側に突出した第１突出部を有する、液晶表示パネル。
2. 前記液晶層の厚みのうち、前記第１突出部と対向した領域の厚みは、前記第１画素電極と対向した領域の厚み及び前記第２画素電極と対向した領域の厚みの各々よりも小さい、請求項１に記載の液晶表示パネル。
3. 前記第１基板は、それぞれ前記有機絶縁膜の下方に形成され前記第１画素電極と前記第２画素電極とが隣り合う第２方向に直交する第１方向に延在し前記第２方向に互いに間隔を置いて位置した第１走査線及び第２走査線と、をさらに備え、
   前記第１突出部は、前記第１走査線と前記第２走査線との間に位置している、請求項１に記載の液晶表示パネル。
4. 前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタとは異なる色の第３カラーフィルタをさらに備え、
   前記第１基板は、前記有機絶縁膜の上方に形成され前記第１画素電極と前記第２画素電極とが隣り合う第２方向に直交する第１方向に前記第１画素電極及び前記第２画素電極の両方と隣り合う第３画素電極と、それぞれ前記有機絶縁膜の下方に形成され前記第２方向に延在し前記第１方向に互いに間隔を置いて位置した第１信号線、第２信号線及び第３信号線と、をさらに備え、
   前記第３カラーフィルタは、前記第３画素電極と対向し、
   前記第１画素電極及び前記第２画素電極は、前記第１信号線と前記第２信号線との間に位置し、
   前記第３信号線は、前記第２信号線と前記第３画素電極との間に位置し、
   前記有機絶縁膜は、前記第１信号線と対向し前記第１信号線に沿って延在し前記第２基板側に突出した第２突出部をさらに有する、請求項１に記載の液晶表示パネル。
5. 前記有機絶縁膜は、前記第２信号線及び前記第３信号線の境界と対向し上記境界に沿って延在し前記第２基板側に突出した第３突出部をさらに有する、請求項４に記載の液晶表示パネル。
6. 前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタとは異なる色の第３カラーフィルタをさらに備え、
   前記第１基板は、前記有機絶縁膜の上方に形成され前記第１画素電極と前記第２画素電極とが隣り合う第２方向に直交する第１方向に前記第１画素電極及び前記第２画素電極の両方と隣り合う第３画素電極と、それぞれ前記有機絶縁膜の下方に形成され前記第２方向に延在し前記第１方向に互いに間隔を置いて位置した第１信号線、第２信号線及び第３信号線と、をさらに備え、
   前記第３カラーフィルタは、前記第３画素電極と対向し、
   前記第１画素電極及び前記第２画素電極は、前記第１信号線と前記第２信号線との間に位置し、
   前記第３画素電極は、前記第２信号線と前記第３信号線との間に位置し、
   前記有機絶縁膜は、前記第２信号線と対向し前記第２信号線に沿って延在し前記第２基板側に突出した第２突出部をさらに有する、請求項１に記載の液晶表示パネル。
7. 前記第１基板は、前記第１突出部の上方に形成された第１遮光層をさらに有する、請求項１に記載の液晶表示パネル。
8. 前記第１遮光層は、導電性を有する、請求項７に記載の液晶表示パネル。
9. 前記第１基板は、前記有機絶縁膜の上に形成された共通電極と、前記有機絶縁膜及び前記共通電極の上に形成された層間絶縁膜と、をさらに備え、
   前記第１画素電極及び前記第２画素電極は、前記層間絶縁膜の上に形成され、前記共通電極と対向し、
   前記第１遮光層は、遮光性を有し、金属を利用し、前記共通電極の一部を形成している、請求項７に記載の液晶表示パネル。
10. 前記第２基板は、前記第１画素電極と前記第２画素電極とが隣り合う第２方向に直交する第１方向に延出し前記第１突出部と対向した第１延出部と、それぞれ前記第１方向に延出し前記第２方向に前記第１延出部を挟み互いに間隔を置いて位置した一対の第２延出部と、を有した第２遮光層を備え、
    前記第１延出部の前記第２方向の幅は、前記一対の第２延出部の各々の前記第２方向の幅より狭い、請求項１に記載の液晶表示パネル。
11. 任意の表示駆動期間に、前記第１画素電極に第１画像信号が与えられ、前記第２画素電極に前記第１画像信号の極性と同一の極性の第２画像信号が与えられる、請求項１に記載の液晶表示パネル。

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