JP2016115693A - 塗布処理方法、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
30 現像処理装置
31 下部反射防止膜形成装置
32 レジスト塗布装置
33 上部反射防止膜形成装置
40 熱処理装置
41 アドヒージョン装置
42 周辺露光装置
140 スピンチャック
154 レジスト液供給ノズル
158 溶剤供給ノズル
161 乾燥ガスノズル
200 制御部
Q 溶剤
R レジスト膜
W ウェハ
前記塗布液拡散工程開始前に、平面視における溶剤供給ノズルと基板中心との間の位置に乾燥ガスを吹き付けて、前記溶剤の液膜と前記塗布液との間に隙間を確保することを特徴としている。
また前記溶剤液膜形成工程の前に、前記基板を0rpm超で第1の回転速度以下の回転速度で回転させた状態で、前記溶剤を供給する溶剤供給ノズルを基板の外周部に位置させつつ当該溶剤供給ノズルから前記溶剤を供給し、その後前記基板の回転速度を第1の回転速度よりも加速させて前記溶剤を前記基板の外周部に拡散させるプリウェット工程を行ってもよい。かかる場合、前記プリウェット工程において、前記溶剤を前記基板の外周部に拡散させる間は前記溶剤供給ノズルからの溶剤の供給を停止してもよい。
Claims (14)
- 基板上に塗布液を塗布する方法であって、
基板上に前記塗布液の溶剤を供給して、当該基板の外周部に前記溶剤の液膜を環状に形成する溶剤液膜形成工程と、
基板を第1の回転速度で回転させながら、前記塗布液を基板の中心部に供給する塗布液供給工程と、
前記基板を前記第1の回転速度よりも速い第2の回転速度で回転させて前記塗布液を基板上に拡散させる塗布液拡散工程と、を有し、
前記溶剤の供給は、前記溶剤液膜形成工程または前記塗布液拡散工程で前記塗布液が前記溶剤の液膜に接触する前まで継続して行われることを特徴とする、塗布処理方法。 - 前記溶剤液膜形成工程では、前記基板を0rpm超で第1の回転速度以下の回転速度で回転させた状態で、前記溶剤を供給する溶剤供給ノズルを基板の外周部に位置させつつ当該溶剤供給ノズルから前記溶剤を供給して、前記溶剤の液膜を環状に形成することを特徴とする、請求項1に記載の塗布処理方法。
- 前記溶剤液膜形成工程では、前記基板を静止又は0rpm超で第1の回転速度以下の回転速度で回転させた状態で、前記溶剤を供給する溶剤供給ノズルを基板の外周部に沿って移動させつつ当該溶剤供給ノズルから前記溶剤を供給して、前記溶剤の液膜を環状に形成することを特徴とする、請求項1に記載の塗布処理方法。
- 前記溶剤供給ノズルは複数設けられていることを特徴とする、請求項3に記載の塗布処理方法。
- 前記塗布液拡散工程開始前に、平面視における溶剤供給ノズルと基板中心との間の位置に乾燥ガスを吹き付けて、前記溶剤の液膜と前記塗布液との間に隙間を確保することを特徴とする、請求項2〜4のいずれか一項に記載の塗布処理方法。
- 前記溶剤液膜形成工程では、基板の中心から半径方向に30mm〜100mm離れた位置で、前記溶剤供給ノズルから前記溶剤を供給することを特徴とする、請求項2〜5のいずれか一項に記載の塗布処理方法。
- 前記溶剤の供給は、前記塗布液の外周端部と、前記環状の溶剤の液膜の内周端部との距離が、5mm〜60mmとなるまで継続して行われることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の塗布処理方法。
- 前記溶剤液膜形成工程では、
基板の中心部に前記溶剤を供給して当該溶剤の液溜りを形成し、
次いで、基板を回転させて前記溶剤を基板上に拡散させ、基板の全面に前記溶剤の液膜を形成し、
次いで、基板の中心部に乾燥ガスを吹き付けて、基板の中心部から前記溶剤の液膜を除去することで、前記溶剤の液膜を環状に形成することを特徴とする、請求項1に記載の塗布処理方法。 - 前記溶剤液膜形成工程の前に、
前記基板を0rpm超で第1の回転速度以下の回転速度で回転させた状態で、前記溶剤を供給する溶剤供給ノズルを基板の外周部に位置させつつ当該溶剤供給ノズルから前記溶剤を供給し、その後前記基板の回転速度を第1の回転速度よりも加速させて前記溶剤を前記基板の外周部に拡散させるプリウェット工程を行うことを特徴とする、請求項1または2のいずれか一項に記載の塗布処理方法。 - 前記プリウェット工程において、前記溶剤を前記基板の外周部に拡散させる間は前記溶剤供給ノズルからの溶剤の供給を停止することを特徴とする、請求項9に記載の塗布処理方法。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の塗布処理方法を塗布処理装置によって実行させるように、当該塗布処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを格納した、読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
- 基板上に塗布液を塗布する塗布処理装置であって、
基板を保持して回転させる基板保持部と、
基板上に前記塗布液を供給する塗布液供給ノズルと、
基板上に前記塗布液の溶剤を供給する溶剤供給ノズルと、
前記塗布液供給ノズルを移動させる第1の移動機構と、
前記溶剤供給ノズルを移動させる第2の移動機構と、
基板上に前記塗布液の溶剤を供給して、当該基板の外周部に前記溶剤の液膜を環状に形成し、
基板を第1の回転速度で回転させながら、前記塗布液を基板の中心部に供給し、
前記基板を前記第1の回転速度よりも速い第2の回転速度で回転させて前記塗布液を基板上に拡散させるべく、前記基板保持部、前記塗布液供給ノズル、前記溶剤供給ノズル、前記第1の移動機構及び前記第2の移動機構を制御するように構成された制御部と、を有することを特徴とする、塗布処理装置。 - 基板上に乾燥ガスを吹き付ける乾燥ガスノズルと、
前記乾燥ガスノズルを移動させる第3の移動機構と、を有することを特徴とする、請求項12に記載の塗布処理装置。 - 前記溶剤供給ノズルが取り付けられ、前記基板上で前記基板の中心を通る鉛直軸を回転軸として回転自在に構成された支持部と、
前記支持部を回転させる回転駆動機構と、をさらに有し、
前記回転駆動機構により前記支持部を回転させつつ前記溶剤供給ノズルから前記溶剤を供給することで、前記基板の外周部に前記溶剤の液膜を環状に形成することを特徴とする、請求項12に記載の塗布処理装置。
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