JP2016110045A5 - - Google Patents

Description

（１）レーザ光を出射する光源と、前記光源から出射されたレーザ光を偏向し、被走査面に照射されたレーザ光のスポットを主走査方向に移動させ走査線を形成する偏向手段と、を備える走査光学装置であって、平面上で測定された前記主走査方向に直交する副走査方向における前記レーザ光の照射位置に関する情報を記憶した記憶手段を備え、前記走査線を形成するために前記光源から出射されるレーザ光の照射位置を、前記記憶手段に記憶されている前記測定された照射位置に関する情報と、前記被走査面の形状に関する情報と、に基づき設定することを特徴とする走査光学装置。
（２）前記被走査面を表面に有する感光体と、前記（１）に記載の走査光学装置と、前記走査光学装置を制御して前記被走査面上に潜像を形成させる制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記記憶手段から読み出した前記平面上で測定された照射位置に関する情報と、前記被走査面の形状に関する情報と、に基づいて、前記レーザ光が前記被走査面に照射されたときの前記被走査面上の前記副走査方向の照射位置を設定することを特徴とする画像形成装置。
（３）レーザ光を出射する光源と、前記光源から出射されたレーザ光を偏向し、被走査面に照射されたレーザ光のスポットを主走査方向に移動させ走査線を形成する偏向手段と、を備える走査光学装置であって、前記走査線を形成するために前記光源から出射されるレーザ光の前記主走査方向に直交する副走査方向における前記被走査面上の照射位置に関する情報を記憶した記憶手段を備え、前記記憶手段に記憶されている前記照射位置に関する情報は、平面上で測定された前記副走査方向における前記レーザ光の照射位置に関する情報と、前記被走査面の形状に関する情報と、に基づき算出されていることを特徴とする走査光学装置。
（４）前記被走査面を表面に有する感光体と、前記（３）に記載の走査光学装置と、前記走査光学装置を制御して前記被走査面上に潜像を形成させる制御手段と、を備えることを特徴とする画像形成装置。
（５）像担持体と、レーザ光を出射する光源と、前記光源から出射されたレーザ光を偏向し主走査方向に走査する偏向手段と、前記偏向手段により偏向されたレーザ光を前記像担持体に導く光学部材と、を有し、入力された画像データに応じた潜像を前記像担持体に形成する走査光学装置と、前記走査光学装置を制御して前記像担持体上に前記潜像を形成させる制御手段と、を備え、前記走査光学装置は、平面上で測定された前記主走査方向に直交する副走査方向における前記レーザ光の照射位置に関する情報を記憶した記憶手段を有し、前記制御手段は、前記記憶手段から読み出した前記平面上で測定された照射位置に関する情報と、前記像担持体の形状に関する情報と、に基づいて、前記レーザ光が前記像担持体に照射されたときの前記像担持体上の前記副走査方向の照射位置を算出し、算出した前記像担持体上の照射位置に基づいて、前記画像データを補正することを特徴とする画像形成装置。

Claims (27)

1. レーザ光を出射する光源と、
   前記光源から出射されたレーザ光を偏向し、被走査面に照射されたレーザ光のスポットを主走査方向に移動させ走査線を形成する偏向手段と、
   を備える走査光学装置であって、
   平面上で測定された前記主走査方向に直交する副走査方向における前記レーザ光の照射位置に関する情報を記憶した記憶手段を備え、
   前記走査線を形成するために前記光源から出射されるレーザ光の照射位置を、前記記憶手段に記憶されている前記測定された照射位置に関する情報と、前記被走査面の形状に関する情報と、に基づき設定することを特徴とする走査光学装置。
2. 前記記憶手段には、複数の測定された照射位置に関する情報が記憶されていることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
3. 前記測定された照射位置は、ラインセンサにより測定されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の走査光学装置。
4. 前記被走査面は円弧面であり、前記被走査面の形状に関する情報とは、前記円弧面の半径であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の走査光学装置。
5. 前記被走査面を表面に有する感光体と、
   請求項１乃至４のいずれか１項に記載の走査光学装置と、
   前記走査光学装置を制御して前記被走査面上に潜像を形成させる制御手段と、
   を備え、
   前記制御手段は、前記記憶手段から読み出した前記平面上で測定された照射位置に関する情報と、前記被走査面の形状に関する情報と、に基づいて、前記レーザ光が前記被走査面に照射されたときの前記被走査面上の前記副走査方向の照射位置を設定することを特徴とする画像形成装置。
6. 前記制御手段は、前記測定された照射位置に関する情報と前記被走査面の形状に関する情報とに基づき前記被走査面上におけるレーザ光の走査線の傾き量を算出し、算出した前記傾き量に基づき前記被走査面上の照射位置を算出することを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
7. 前記制御手段は、前記測定された照射位置に関する情報と前記被走査面の形状に関する情報とに基づき前記被走査面上におけるレーザ光の走査線の曲がり量を算出し、算出した前記曲がり量に基づき前記被走査面上の照射位置を算出することを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
8. 温度を検知する温度検知手段を備え、
   前記制御手段は、前記測定された照射位置に関する情報と、前記温度検知手段により検知された温度とに基づき、前記測定された照射位置を補正することを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
9. レーザ光を出射する光源と、
   前記光源から出射されたレーザ光を偏向し、被走査面に照射されたレーザ光のスポットを主走査方向に移動させ走査線を形成する偏向手段と、
   を備える走査光学装置であって、
   前記走査線を形成するために前記光源から出射されるレーザ光の前記主走査方向に直交する副走査方向における前記被走査面上の照射位置に関する情報を記憶した記憶手段を備え、
   前記記憶手段に記憶されている前記照射位置に関する情報は、平面上で測定された前記副走査方向における前記レーザ光の照射位置に関する情報と、前記被走査面の形状に関する情報と、に基づき算出されていることを特徴とする走査光学装置。
10. 前記記憶手段には、複数の前記被走査面上の照射位置に関する情報が記憶されていることを特徴とする請求項９に記載の走査光学装置。
11. 前記平面上で測定された照射位置は、ラインセンサにより測定されたことを特徴とする請求項９又は１０に記載の走査光学装置。
12. 前記被走査面は円弧面であり、前記被走査面の形状に関する情報とは、前記円弧面の半径であることを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか１項に記載の走査光学装置。
13. 前記被走査面を表面に有する感光体と、
    請求項９乃至１２のいずれか１項に記載の走査光学装置と、
    前記走査光学装置を制御して前記被走査面上に潜像を形成させる制御手段と、
    を備えることを特徴とする画像形成装置。
14. 像担持体と、
    レーザ光を出射する光源と、前記光源から出射されたレーザ光を偏向し主走査方向に走査する偏向手段と、前記偏向手段により偏向されたレーザ光を前記像担持体に導く光学部材と、を有し、入力された画像データに応じた潜像を前記像担持体に形成する走査光学装置と、
    前記走査光学装置を制御して前記像担持体上に前記潜像を形成させる制御手段と、
    を備え、
    前記走査光学装置は、平面上で測定された前記主走査方向に直交する副走査方向における前記レーザ光の照射位置に関する情報を記憶した記憶手段を有し、
    前記制御手段は、前記記憶手段から読み出した前記平面上で測定された照射位置に関する情報と、前記像担持体の形状に関する情報と、に基づいて、前記レーザ光が前記像担持体に照射されたときの前記像担持体上の前記副走査方向の照射位置を算出し、算出した前記像担持体上の照射位置に基づいて、前記画像データを補正することを特徴とする画像形成装置。
15. 前記記憶手段には、複数の測定された照射位置に関する情報が記憶されていることを特徴とする請求項１４に記載の画像形成装置。
16. 前記記憶手段に記憶された測定された照射位置は、ラインセンサにより測定されたことを特徴とする請求項１４又は１５に記載の画像形成装置。
17. 前記像担持体の形状に関する情報とは、前記像担持体の半径であることを特徴とする請求項１４乃至１６のいずれか１項に記載の画像形成装置。
18. 前記制御手段は、前記測定された照射位置に関する情報と前記像担持体の半径とに基づき前記像担持体上におけるレーザ光の走査線の傾き量を算出し、算出した前記傾き量に基づき前記像担持体上の照射位置を算出することを特徴とする請求項１７に記載の画像形成装置。
19. 前記制御手段は、前記測定された照射位置に関する情報と前記像担持体の半径とに基づき前記像担持体上におけるレーザ光の走査線の曲がり量を算出し、算出した前記曲がり量に基づき前記像担持体上の照射位置を算出することを特徴とする請求項１７に記載の画像形成装置。
20. 温度を検知する温度検知手段を備え、
    前記制御手段は、前記測定された照射位置に関する情報と、前記温度検知手段により検知された温度とに基づき、前記測定された照射位置を補正することを特徴とする請求項１４乃至１９のいずれか１項に記載の画像形成装置。
21. レーザ光を出射する光源と、前記光源から出射されたレーザ光を偏向し、被走査面に照射されたレーザ光のスポットを主走査方向に移動させ走査線を形成する偏向手段と、を備え、入力された画像データに応じた潜像を前記被走査面に形成する走査光学装置の前記走査線を補正する補正方法であって、
    前記光源から出射されるレーザ光の照射位置を平面上で検知手段により測定する測定工程と、
    前記測定工程で測定された照射位置と、前記被走査面の形状に関する情報と、に基づき、前記測定された照射位置と前記被走査面上の照射位置との誤差を算出する第一の算出工程と、
    前記第一の算出工程で算出された前記誤差に基づき前記被走査面上の照射位置を算出する第二の算出工程と、
    前記第二の算出工程で算出された前記被走査面上の照射位置に基づいて、前記画像データを補正する補正工程と、
    を備えることを特徴とする補正方法。
22. 前記測定工程では、前記検知手段により複数の照射位置が測定されることを特徴とする請求項２１に記載の補正方法。
23. 前記検知手段は、ラインセンサであることを特徴とする請求項２１又は２２に記載の補正方法。
24. 前記被走査面は円弧面を備え、前記被走査面の形状に関する情報とは、前記円弧面の半径であることを特徴とする請求項２１乃至２３のいずれか１項に記載の補正方法。
25. 前記第一の算出工程では、前記測定された照射位置に関する情報と前記被走査面の半径とに基づき前記被走査面上におけるレーザ光の走査線の傾き量を算出し、
    前記第二の算出工程では、前記第一の算出工程で算出した前記傾き量に基づき前記被走査面上の照射位置を算出することを特徴とする請求項２４に記載の補正方法。
26. 前記第一の算出工程では、前記測定された照射位置に関する情報と前記被走査面の半径とに基づき前記被走査面上におけるレーザ光の走査線の曲がり量を算出し、
    前記第二の算出工程では、前記第一の算出工程で算出した前記曲がり量に基づき前記被走査面上の照射位置を算出することを特徴とする請求項２４に記載の補正方法。
27. 温度検知手段により温度を検知する検知工程を備え、
    前記第一の算出工程では、前記測定工程で前記測定された照射位置に関する情報と、前記検知工程で検知された温度とに基づき、前記測定された照射位置を補正することを特徴とする請求項２１乃至２６のいずれか１項に記載の補正方法。