JP2016100555A - 電子装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 厚さ方向において互いに反対側を向く主面111および裏面112を有し、半導体材料よりなる基板1と、基板1に配置された電子素子71と、電子素子71に導通する導電層3と、を備え、基板1には、主面111から凹む素子配置用凹部14が形成されており、素子配置用凹部14には、電子素子71が配置されており、導電層3は、素子配置用凹部14に形成された放熱用パッド37を含み、電子素子71は、放熱用パッド37に接合されている。
【選択図】 図1
Description
1 基板
111 主面
112 裏面
14 素子配置用凹部
142 素子配置用凹部底面
141 素子配置用凹部第1側面
143 素子配置用凹部中間面
144 素子配置用凹部第2側面
17 貫通孔
171 貫通孔内面
18 貫通孔
181 貫通孔内面
3 導電層
31 シード層
32 メッキ層
33 素子配置用凹部パッド
35 貫通孔内面導電部
35A 貫通孔内面導電部
36 補助貫通孔封鎖部
37 放熱用パッド
38 裏面放熱用パッド
2 絶縁層
21 凹部内面絶縁部
211 補助貫通孔
22 貫通孔内面絶縁部
23 補助貫通孔内面絶縁部
24 裏面側絶縁部
25 開口部
41 裏面側絶縁膜
51 裏面電極パッド
55 良伝熱性接合材
6 封止樹脂部
61 第1封止樹脂部
62 第2封止樹脂部
71 電子素子
72 電子素子
Claims (32)
- 厚さ方向において互いに反対側を向く主面および裏面を有し、半導体材料よりなる基板と、
前記基板に配置された電子素子と、
前記電子素子に導通する導電層と、を備え、
前記基板には、前記主面から凹む素子配置用凹部が形成されており、
前記素子配置用凹部には、前記電子素子が配置されており、
前記導電層は、前記素子配置用凹部に形成された放熱用パッドを含み、
前記電子素子は、前記放熱用パッドに接合されている、電子装置。 - 前記電子素子と前記放熱用パッドとは、良伝熱性接合材によって接合されている、請求項1に記載の電子装置。
- 前記良伝熱性接合材は、金属を含む、請求項2に記載の電子装置。
- 前記良伝熱性接合材は、はんだである、請求項3に記載の電子装置。
- 前記素子配置用凹部は、前記厚さ方向のうちの一方である第1厚さ方向を向く素子配置用凹部底面を有し、
前記放熱用パッドは、前記素子配置用凹部底面に形成されている、請求項1ないし4のいずれかに記載の電子装置。 - 前記素子配置用凹部底面は、前記厚さ方向に直交する面である、請求項5に記載の電子装置。
- 前記基板に形成された絶縁層を更に備え、前記絶縁層の少なくとも一部は、前記導電層と前記基板との間に介在している、請求項5または6のいずれかに記載の電子装置。
- 前記絶縁層は、SiO2あるいはSiNよりなる、請求項7に記載の電子装置。
- 前記絶縁層は、前記素子配置用凹部の内面に形成された凹部内面絶縁部を含む、請求項7または8に記載の電子装置。
- 前記凹部内面絶縁部は、前記素子配置用凹部底面を露出させる開口部を有しており、
前記放熱用パッドは、前記開口部内において前記素子配置用凹部底面に直接形成されている、請求項9に記載の電子装置。 - 前記基板には、当該素子配置用凹部から前記裏面に貫通する貫通孔が形成されており、
前記貫通孔は、貫通孔内面を有し、
前記導電層は、前記貫通孔内面に形成され、且つ前記貫通孔と通じて前記放熱用パッドと接触している貫通孔内面導電部を含む、請求項10に記載の電子装置。 - 前記絶縁層は、前記貫通孔内面に形成された貫通孔内面絶縁部を含む、請求項11に記載の電子装置。
- 前記貫通孔内面絶縁部は、前記貫通孔内面導電部と前記貫通孔内面との間に介在する、請求項12に記載の電子装置。
- 前記貫通孔は、前記主面側から前記裏面側に向かうほど断面寸法が大である、請求項11ないし13のいずれかに記載の電子装置。
- 前記基板には、当該素子配置用凹部から前記裏面に貫通する貫通孔が形成されており、
前記貫通孔は、貫通孔内面を有し、
前記導電層は、前記貫通孔内面を介して前記素子配置用凹部から前記裏面にわたって、形成されている、請求項1ないし10のいずれかに記載の電子装置。 - 前記絶縁層は、前記貫通孔内面に形成された貫通孔内面絶縁部を含む、請求項15に記載の電子装置。
- 前記凹部内面絶縁部は、厚さ方向視において前記貫通孔の前記主面側端縁と位置する補助貫通孔を有する、請求項16に記載の電子装置。
- 前記補助貫通孔は、前記厚さ方向において断面形状が一定である、請求項17に記載の電子装置。
- 前記絶縁層は、前記補助貫通孔の内面に形成され、且つ前記貫通孔内面絶縁部に繋がる補助貫通孔内面絶縁部を含む、請求項18に記載の電子装置。
- 前記導電層は、前記素子配置用凹部において前記補助貫通孔を塞ぐ補助貫通孔封鎖部を含む、請求項17ないし19のいずれかに記載の電子装置。
- 前記導電層は、少なくとも一部が前記貫通孔内面絶縁部に形成されており、且つ前記補助貫通孔封鎖部と接する貫通孔内面導電部を含む、請求項20に記載の電子装置。
- 前記貫通孔は、前記主面側から前記裏面側に向かうほど断面寸法が大である、請求項15ないし21のいずれかに記載の電子装置。
- 前記絶縁層は、裏面側絶縁部を含み、前記裏面側絶縁部の少なくとも一部は、前記基板の前記裏面に形成されている、請求項1ないし22のいずれかに記載の電子装置。
- 少なくとも一部が前記裏面に形成された裏面側絶縁膜を更に備え、
前記裏面側絶縁膜は、前記貫通孔内に形成された部位を有しており、
前記導電層は、前記裏面側絶縁膜と前記基板との間に介在している、請求項23に記載の電子装置。 - 前記裏面に形成された裏面電極パッドを更に備え、
前記裏面電極パッドは、前記導電層に接しており、且つ、前記電子素子に導通している、請求項24に記載の電子装置。 - 前記導電層は、シード層と、メッキ層と、を含み、前記シード層は、前記基板と前記メッキ層との間に介在している、請求項1ないし25のいずれかに記載の電子装置。
- 前記素子配置用凹部に充填され、前記電子素子を覆う封止樹脂部を更に備える、請求項1ないし26のいずれかに記載の電子装置。
- 前記貫通孔の個数は、複数である、請求項1ないし27のいずれかに記載の電子装置。
- 前記基板は、半導体材料の単結晶よりなる、請求項1ないし28のいずれかに記載の電子装置。
- 前記半導体材料は、Siである、請求項29に記載の電子装置。
- 前記主面および前記裏面は、前記基板の厚さ方向に直交し、且つ、平坦である、請求項30に記載の電子装置。
- 前記主面は、(100)面である、請求項31に記載の電子装置。
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