JP2016076548A5 - - Google Patents

Claims (6)

1. 荷電粒子ビーム描画装置のブランキングアパーチャアレイであって、
   上面に絶縁膜が設けられた基板と、
   前記基板に形成され、所定のビームが通過する貫通孔と、前記絶縁膜上に設けられ、該所定のビームのブランキング偏向を行うブランキング電極及びグランド電極と、をそれぞれ有する複数のブランキングアパーチャ部と、
   前記絶縁膜と、少なくとも前記グランド電極の一部とを覆うように設けられ、前記グランド電極よりも電気抵抗値が高く前記絶縁膜よりも電気抵抗値が低い高抵抗膜と、
   を備えるブランキングアパーチャアレイ。
2. 前記高抵抗膜は島状薄膜であることを特徴とする請求項１に記載のブランキングアパーチャアレイ。
3. 前記高抵抗膜の電気抵抗値は１００ｋΩ以上、１００ＭΩ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載のブランキングアパーチャアレイ。
4. 前記高抵抗膜は、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｒ、ＣｒＮ、Ｔｉ、ＴｉＮ、ＴａＮ、又はＴｉＣを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のブランキングアパーチャアレイ。
5. 前記グランド電極は所定方向に突出部を有し、前記突出部は所定の間隔を有して複数配置され、前記突出部間に前記ブランキング電極及び前記貫通孔が設けられることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のブランキングアパーチャアレイ。
6. 対象物を載置する、移動可能なステージと、
   荷電粒子ビームを放出する電子銃と、
   複数の開口部が形成され、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材と、
   前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対して個別にビームのＯＮ／ＯＦＦ制御を行う請求項１乃至５のいずれかに記載のブランキングアパーチャアレイと、
   前記ブランキングアパーチャアレイを通過した各ビームが前記対象物上のそれぞれの照射位置に照射されるように、各ビームをまとめて偏向する偏向器と、
   を備える荷電粒子ビーム描画装置。