JP2016076548A - ブランキングアパーチャアレイ及び荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents
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Abstract
Description
4 電子銃
6 照明レンズ
8 アパーチャ部材
10 ブランキングアパーチャアレイ
12 縮小レンズ
14 制限アパーチャ部材
16 対物レンズ
18 偏向器
20 描画室
22 XYステージ
24 マスクブランク
26 ミラー
100 貫通孔形成領域
101 ブランカ
102 グランド電極
104 ブランキング電極
120 基板
130 保護膜
140 高抵抗膜
Claims (5)
- 荷電粒子ビーム描画装置のブランキングアパーチャアレイであって、
シリコン層を含む基板と、
前記基板上に設けられた絶縁膜と、
前記基板及び前記絶縁膜に形成された複数の貫通孔の各々に対応して該絶縁膜上に設けられたブランキング電極及びグランド電極と、
前記絶縁膜上に設けられ、前記ブランキング電極及びグランド電極に接続された配線と、
前記絶縁膜、前記ブランキング電極、前記グランド電極及び前記配線の上面を覆うように設けられ、前記配線よりも電気抵抗値が高く前記絶縁膜よりも電気抵抗値が低い高抵抗膜と、
を備えるブランキングアパーチャアレイ。 - 前記高抵抗膜は島状薄膜であることを特徴とする請求項1に記載のブランキングアパーチャアレイ。
- 前記高抵抗膜の電気抵抗値は100kΩ以上、100MΩ以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のブランキングアパーチャアレイ。
- 前記高抵抗膜は、Au、Ag、Cu、Fe、Cr、CrN、Ti、TiN、TaN、又はTiCを含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のブランキングアパーチャアレイ。
- 対象物を載置する、移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部が形成され、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材と、
前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対して個別にビームのON/OFF制御を行う請求項1乃至4のいずれかに記載のブランキングアパーチャアレイと、
前記ブランキングアパーチャアレイを通過した各ビームが前記対象物上のそれぞれの照射位置に照射されるように、各ビームをまとめて偏向する偏向器と、
を備える荷電粒子ビーム描画装置。
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