JP2016070782A - 分析装置及び分析方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ノイズ成分の影響を抑制し、微粒子による検出対象の検出精度を向上させる分析装置及び分析方法を提供する。
【解決手段】分析装置1は光走査部4とパルス波形分析部30とを備えている。光走査部4は微粒子16と結合された検出対象12が表面に固定された基板2を光学的に走査し、基板2から検出信号を取得する。パルス波形分析部30は、検出信号のパルス波形のピーク値が所定の範囲内に存在するか否かを判定する振幅判定部32と、パルス波形のパルス幅が所定の範囲内か否かを判定するパルス幅判定部33と、を備え、検出信号のパルス波形を分析する。
【選択図】図1
【解決手段】分析装置1は光走査部4とパルス波形分析部30とを備えている。光走査部4は微粒子16と結合された検出対象12が表面に固定された基板2を光学的に走査し、基板2から検出信号を取得する。パルス波形分析部30は、検出信号のパルス波形のピーク値が所定の範囲内に存在するか否かを判定する振幅判定部32と、パルス波形のパルス幅が所定の範囲内か否かを判定するパルス幅判定部33と、を備え、検出信号のパルス波形を分析する。
【選択図】図1
Description
本発明は、抗体、抗原等の生体物質を分析するための分析装置及び分析方法に関する。
疾病に関連付けられた特定の抗原または抗体をバイオマーカーとして検出することで、疾病の発見や治療の効果等を定量的に分析する免疫検定法(immunoassay)が知られている。酵素により標識された抗原または抗体を検出するELISA法(Enzyme-Linked ImmunoSorbent Assay)は免疫検定法の一つであり、コスト等のメリットから広く普及している。ELISA法は、前処理、抗原抗体反応、B/F(bond/free)分離、酵素反応等を合計した時間が数時間から1日程度であり、長時間を要する。
これに対して、光ディスクに固定された抗体と試料中の抗原を結合させ、抗原と抗体を有する粒子とを結合させ、光ヘッドで走査することにより、光ディスク上に捕捉された粒子を短時間に計数する技術が提案されている(特許文献1)。また、光ディスクのトラッキング構造が形成される面に生体試料や粒子を付着させ、光ピックアップで信号の変化を検出する技術が提案されている(特許文献2)。
光ディスクを用いた分析装置では、検出対象であるバイオマーカーを検出するときに、光ディスクの基板の表面の微細な傷がノイズ成分となる。
また、光ディスクを用いた分析装置では、光ディスクの基板の表面上で抗原抗体反応が行われるため、反応に起因するノイズが発生する。具体的には、基板の表面への抗体の固定、スキムミルクや牛血清アルブミン等の溶液によるブロッキング処理、及び塩を含んだ緩衝液を用いて行うアッセイ等の工程における残渣や残留物が、洗浄後に残ってしまうことでノイズ成分となる。残渣や残留物に起因するノイズレベルは、基板の表面の微細な傷に起因するノイズレベルと比較して1桁以上大きく、バイオマーカーの検出精度を悪化させる大きな要因となる。
本発明はこのような問題点に鑑み、ノイズ成分の影響を抑制し、微粒子による検出対象の検出精度を向上させる分析装置及び分析方法を提供することを目的とする。
本発明は、微粒子と結合された検出対象が表面に固定された基板を光学的に走査し、前記基板から検出信号を取得する光走査部と、前記光走査部が取得した前記検出信号のパルス波形を分析するパルス波形分析部と、を備え、前記パルス波形分析部は、前記パルス波形のピーク値が所定の範囲内に存在するか否かを判定する振幅判定部と、前記パルス波形のパルス幅が所定の範囲内か否かを判定するパルス幅判定部と、を備えていることを特徴とする分析装置を提供する。
また、本発明は、微粒子と結合された検出対象が表面に固定された基板を光学的に走査し、前記基板から検出信号を取得する検出信号取得ステップと、前記検出信号のパルス波形のピーク値が所定の範囲内か否かを判定する振幅判定ステップと、前記パルス波形のパルス幅が所定の範囲内に存在するか否かを判定するパルス幅判定ステップと、を含むことを特徴とする分析方法を提供する。
本発明の分析装置及び分析方法によれば、ノイズ成分の影響を抑制し、微粒子による検出対象の検出精度を向上させることができる。
図1を用いて、本実施形態の分析装置を説明する。
図1に示すように、分析装置1は、基板2と、基板2を回転させるモータ等からなる駆動部3と、基板2の表面を光学的に走査する光走査部4と、駆動部3及び光走査部4を制御し、光走査部4によって検出された検出信号のパルス波形を分析する制御部5と、を備えている。
基板2は、例えば、コンパクトディスク(CD)、DVD、ブルーレイディスク(BD)等の光ディスクと同等の寸法を有する円盤状である。基板2は、例えば、一般的に光ディスクに用いられるポリカーボネート樹脂やシクロオレフィンポリマー等の疎水性を有する樹脂材料からなる。
基板2は、表面に光走査部4が走査可能なトラック構造を有する。トラック構造は、グルーブ、ランド、ピット等からなり、内周側から外周側にスパイラル状に形成されている。基板2の表面には必要に応じて、薄膜形成やシランカップリング剤などによる表面処理を施すこともできる。
図2に示すように、基板2の表面には、検出対象の生体物質である抗原12と特異的に結合する抗体11が固定されている。後述するように、抗原12は、微粒子であるビーズ16の表面に固定された抗体15、及び基板2の抗体11と特異的に結合する。ビーズ16と基板2とでサンドイッチ捕獲された抗原12は、基板2上で標識される。抗原12は、抗体11及び抗体15と特異的に結合することにより、疾病等の指標となるバイオマーカーとして用いられる。
図2(a)に示すように、基板2の表面には抗体11が予め固定されている。抗体11は疎水結合や共有結合により基板2の表面に結合される。抗体11はアビジン等の結合力の強い物質を介して基板2の表面に固定されてもよい。
図2(b)に示すように、抗原12を含む試料液13が基板2の表面に滴下される。抗原12は、ブラウン運動により試料液13中を移動して抗体11と接触し、抗原抗体反応によって抗体11と特異的に結合する。
図2(c)に示すように、基板2に滴下された試料液13を、純水等を用いて洗浄することにより、抗体11と結合しない余剰の抗原12を含む試料液13は基板2から除去される。
図2(d)に示すように、ビーズ16を含む緩衝液14が基板2の表面に滴下される。緩衝液14は試料液13が残存する状態で基板2に滴下されてもよい。
バイオマーカーである抗原12は、抗原抗体反応により、ビーズ16の抗体15と特異的に結合し、基板2の抗体11と特異的に結合することで、ビーズ16と基板2とでサンドイッチ捕獲され、基板2上で標識される。
バイオマーカーである抗原12は、抗原抗体反応により、ビーズ16の抗体15と特異的に結合し、基板2の抗体11と特異的に結合することで、ビーズ16と基板2とでサンドイッチ捕獲され、基板2上で標識される。
ビーズ16は、例えば、フェライト等の磁性体を内包するポリスチレン等の合成樹脂により略球形に形成されている。ビーズ16の直径は、数十nm〜200nm程度である。ビーズ16は、緩衝液14が滴下される際に基板2の反対側に磁石が配置されることによって迅速に基板2の表面に集めることもできる。それにより、ビーズ16と抗原12との反応が促進される。また、抗原12とビーズ16とが同時に投入されることにより、基板2に固定された抗原12を標識するまでの時間を数分程度に短縮することができる。
抗体11及び抗体15は、抗原12と特異的に結合する特異性生体物質であればよく、それぞれが別の部位と結合する組み合わせを選択することもできる。
例えば、複数の種類の抗原12が表面に発現しているエキソソーム等の膜小胞を検出対象とする場合は、抗体11及び抗体15は異なる種類とすることにより、2種類の抗原12を有する生体試料を分析することができる。これに限らず、エキソソーム等は通常の抗原とは異なり、表面に同種のたんぱく質である抗原が複数存在していることから、抗体11及び抗体15は、同じ種類としてもよい。
図2(e)に示すように、基板2に滴下された緩衝液14を、純水等を用いて洗浄することにより、抗原12と結合しない余剰のビーズ16を含む緩衝液14が除去される。
図2(f)に示すように、基板2が光走査部4により光学的に走査され、ビーズ16が検出されることにより、ビーズ16に標識された抗原12(バイオマーカー)を分析することができる。例えば、バイオマーカーの量(濃度)を定量することができる。
図1に戻り、光走査部4は、レーザ発振器21と、コリメータレンズ22と、ビームスプリッタ23と、アクチュエータ24と、対物レンズ25と、集光レンズ26と、光検出部27と、を備えている。光走査部4は、基板2を光学的に走査する光ピックアップである。
レーザ発振器21は、制御部5の制御に応じて、コリメータレンズ22に向けてレーザ光を出射する。レーザ発振器21は、例えば、波長がBDの再生用波長と同一の405nmであり出力が1mW程度のレーザ光を出射する半導体レーザ発振器である。
コリメータレンズ22は、レーザ発振器21から出射されたレーザ光を平行にする。
ビームスプリッタ23は、コリメータレンズ22により平行にされたレーザ光を対物レンズ25に向けて反射する。
ビームスプリッタ23は、コリメータレンズ22により平行にされたレーザ光を対物レンズ25に向けて反射する。
対物レンズ25は、制御部5の制御に応じたアクチュエータ24の駆動により、ビームスプリッタ23を経由したレーザ光を、抗体11が固定された基板2の表面に集光してスポットSを結像させる。対物レンズ25は例えば開口数が0.85である。集光されたレーザ光は、基板2において反射し、ビームスプリッタ23に入射する。
ビームスプリッタ23に入射したレーザ光は、ビームスプリッタ23を透過し、集光レンズ26を介して光検出部27に入射する。集光レンズ26は、基板2において反射したレーザ光を光検出部27に集光させる。光検出部27は、例えばフォトダイオードからなり、基板2において反射したレーザ光の光量に対応する検出信号を制御部5に出力する。
制御部5は、駆動部3を制御する駆動系制御部28と、レーザ発振器21及びアクチュエータ24をそれぞれ制御する光学系制御部29と、光検出部27から出力された検出信号のパルス波形を分析するパルス波形分析部30と、を備えている。
駆動部3は、駆動系制御部28の制御により、線速度一定(CLV)方式で基板2を回転させる。
アクチュエータ24は、光学系制御部29の制御により、回転する基板2の表面をスパイラル状に走査するように、光走査部4を基板2の半径方向に移動させる。光学系制御部29は、光検出部27から出力された検出信号から、フォーカスエラー(FE)やトラッキングエラー(TE)等のエラーを検出する。光学系制御部29は、検出したエラーに応じて、基板2の表面を適正に走査するようにアクチュエータ24等を制御する。
パルス波形分析部30は、パルス検出部31と、振幅判定部32と、パルス幅判定部33と、を備えている。振幅判定部32は振幅フィルタで構成することができる。
図3〜図8を用いて、光検出部27から出力された検出信号のパルス波形をパルス波形分析部30で分析する方法を説明する。
オペレータの操作により、駆動系制御部28が駆動部3を制御して基板2を所定の線速度、例えば4.92m/秒で回転させる。また、光学系制御部29が光走査部4を制御して、レーザ光を基板2の表面に集光してスポットSを結像させる。
抗原抗体反応により抗原12及びビーズ16が表面に固定された基板2は、駆動部3により線速度一定に回転され、光走査部4により光学的に走査される。
抗原抗体反応により抗原12及びビーズ16が表面に固定された基板2は、駆動部3により線速度一定に回転され、光走査部4により光学的に走査される。
光走査部4は、レーザ発振器21から出射され基板2の表面で反射したレーザ光を、光検出部27で検出する。光検出部27は、検出したレーザ光の光量に応じた検出信号をパルス検出部31へ出力する。
光検出部27では、例えば図3に示すパルス波形(検出信号)が検出される。図3の横軸は時間であり、縦軸は電圧である。図3には下側にピークを有する4つのパルス波形が表れている。
図4のステップS1において、パルス検出部31は、光検出部27から出力された検出信号を取得し、取得した検出信号のパルス波形の立ち下がりを検出する。パルス検出部31は、予め設定されている閾値レベル(電圧)Vthを下回る時点をパルス波形の立ち下がりとして検出する。
なお、光検出部27で検出されたビーズ16のパルス波形の半値幅の平均値が事前に算出されており、半値幅の平均値に対応する電圧が閾値レベルVthとして予め設定されている。
ステップS2において、パルス検出部31は、立ち下がりが検出された場合(YES)にはステップS3へ処理を進め、立ち下がりが検出されなかった場合(NO)には処理を終了する。
ステップS3において、パルス検出部31は、パルス波形が閾値レベルVthを下回る時点の時刻t1を取得し、カウンタフラグC1、第1基準レベル(電圧)V1のフラグL1、及び第2基準レベル(電圧)V2のフラグL2をリセット(Low;0)して、ステップS4へ処理を進める。
ステップS4において、振幅判定部32は、パルス波形のピーク値(ボトム電圧)Vpを検出し、検出したピーク値Vpが、予め設定されている第1基準レベルV1よりも小さいか否かを判定する。
振幅判定部32は、検出したピーク値Vpが第1基準レベルV1よりも小さい場合(YES)にはステップS5へ処理を進め、大きい場合(NO)にはステップS8へ処理を進める。
ステップS5において、振幅判定部32はフラグL1をHigh;1にセットして、ステップS6へ処理を進める。
ステップS6において、振幅判定部32はパルス波形のピーク値Vpが、予め設定されている第2基準レベルV2よりも小さいか否かを判定する。
振幅判定部32は、ピーク値Vpが第2基準レベルV2よりも小さい場合(YES)にはステップS7へ処理を進め、大きい場合(NO)にはステップS8へ処理を進める。
振幅判定部32は、ピーク値Vpが第2基準レベルV2よりも小さい場合(YES)にはステップS7へ処理を進め、大きい場合(NO)にはステップS8へ処理を進める。
ステップS7において、振幅判定部32はフラグL2をHigh;1にセットして、ステップS8へ処理を進める。
ステップS8において、振幅判定部32は、フラグL1がHigh;1、かつ、フラグL2がLow;0である検出信号を有効な検出信号と判定(YES)し、ステップS9へ処理を進める。また、振幅判定部32は、有効な検出信号と判定しなかった(NO)場合には処理を終了する。
ステップS9において、パルス幅判定部33は、パルス波形の立ち上がりを検出する。パルス幅判定部33は、立ち下がり検出で用いた閾値レベルVthを上回る時点をパルス波形の立ち上がりとして検出する。
ステップS10において、パルス幅判定部33は、立ち上がりが検出された場合(YES)にはステップS11へ処理を進め、検出されなかった場合(NO)には処理を終了する。
ステップS11において、パルス幅判定部33は、パルス波形が閾値レベルVthを上回る時点の時刻t2を取得し、取得した時刻t2とステップS3で取得した立ち下りの時刻t1とからパルス波形のパルス幅T(略半値幅に相当する)を取得し、ステップS12へ処理を進める。
ここで、パルス波形のピーク値(ボトム電圧)Vpと第1基準レベルV1及び第2基準レベルV2との関係、並びに、パルス波形のパルス幅Tと閾値レベルVth、立ち下りの時刻t1及び立ち上りの時刻t2との関係を図5に示す。
図5に示すように、閾値レベルVth、第1基準レベルV1、及び第2基準レベルV2は、Vth>V1>V2の関係を有している。
図5に示す検出信号のパルス波形は、ピーク値Vpが第1基準レベルV1から第2基準レベルV2までの範囲に存在する。従って、図5に示す検出信号は、ステップS8において有効な検出信号と判定される。
図5に示す検出信号のパルス波形は、ピーク値Vpが第1基準レベルV1から第2基準レベルV2までの範囲に存在する。従って、図5に示す検出信号は、ステップS8において有効な検出信号と判定される。
ピーク値Vpが第1基準レベルV1から第2基準レベルV2までの範囲に存在しないパルス波形の検出信号は、非特異吸着を抑制するために用いるブロッキング剤等、検出対象以外のたんぱく質凝集によるノイズ成分と判定される。
例えば図3に示す4つの検出信号のうち、左側の3つの検出信号はパルス波形のピーク値Vpが第1基準レベルV1から第2基準レベルV2までの範囲に存在したので、有効な検出信号と判定される。一方、右端の検出信号はパルス波形のピーク値Vpが第1基準レベルV1から第2基準レベルV2までの範囲に存在しなかったので、ノイズ成分と判定される。
ここで、第1基準レベルV1及び第2基準レベルV2の設定方法について説明する。
まず、図2を用いて説明した基板抗体形成、ブロッキング処理、塩を含んだ緩衝液の滴下等の処理を行わずに、光ディスクの素板に測定ビーズを分散、乾燥させた校正用ディスクを準備する。
まず、図2を用いて説明した基板抗体形成、ブロッキング処理、塩を含んだ緩衝液の滴下等の処理を行わずに、光ディスクの素板に測定ビーズを分散、乾燥させた校正用ディスクを準備する。
次に、図1に示す分析装置1の光走査部4で校正用ディスクを光学的に走査し、検出信号のパルス波形をオシロスコープ等で観察しながら、パルス波形のピーク値(ボトム電圧)を測定する。
測定したピーク値に対して分散を計算し、例えば3σをレンジとして第1基準レベルV1及び第2基準レベルV2を設定する。
測定したピーク値に対して分散を計算し、例えば3σをレンジとして第1基準レベルV1及び第2基準レベルV2を設定する。
本設定方法によれば、実際に分析を行う分析装置1を用いて、実際に使用するビーズの検出信号に基づいて第1基準レベルV1及び第2基準レベルV2を設定するため、容易に、かつ、適切に第1基準レベルV1及び第2基準レベルV2を設定することができる。
[実験結果1]
信号強度(振幅変調度)の平均値が0.5の特性を有するビーズの検出信号に対して、Vth=0.75、V1=0.6、V2=0.3に設定して振幅判定部により検出信号のフィルタ処理を実施した。その結果、約2%の検出信号が除去された。ビーズの検出信号の信号強度のばらつきは10%以下、即ちピーク値(ボトム電圧)で0.55〜0.45の範囲と考えられる。従って、振幅判定部によって除去された検出信号はノイズ成分と考えられる。これにより、バイオマーカーの検出精度を約2%向上させることができる。
信号強度(振幅変調度)の平均値が0.5の特性を有するビーズの検出信号に対して、Vth=0.75、V1=0.6、V2=0.3に設定して振幅判定部により検出信号のフィルタ処理を実施した。その結果、約2%の検出信号が除去された。ビーズの検出信号の信号強度のばらつきは10%以下、即ちピーク値(ボトム電圧)で0.55〜0.45の範囲と考えられる。従って、振幅判定部によって除去された検出信号はノイズ成分と考えられる。これにより、バイオマーカーの検出精度を約2%向上させることができる。
[実験結果2]
検出対象の抗原(バイオマーカー)を含む試料液を滴下せずにアッセイを行い、ノイズ成分のみが固定された光ディスクを準備した。この光ディスクに対して、V1=0.65、V2=0.35に設定して振幅判定部により検出信号のフィルタ処理を実施した。その結果、振幅判定部を用いない場合に対して、約50%のノイズ成分を除去することができた。
検出対象の抗原(バイオマーカー)を含む試料液を滴下せずにアッセイを行い、ノイズ成分のみが固定された光ディスクを準備した。この光ディスクに対して、V1=0.65、V2=0.35に設定して振幅判定部により検出信号のフィルタ処理を実施した。その結果、振幅判定部を用いない場合に対して、約50%のノイズ成分を除去することができた。
[実験結果3]
実験結果2で用いた光ディスクと同じ光ディスクに対して、V1=0.57、V2=0.45に設定して振幅判定部により検出信号のフィルタ処理を実施した。その結果、振幅判定部を用いない場合に対して、約80%のノイズ成分を除去することができた。しかしながら、検出対象の抗原(バイオマーカー)を含む試料液を滴下してアッセイを行い、同じ条件でフィルタ処理を実施すると、本来カウントされるべき検出信号の一部がノイズ成分として除去された。
実験結果2で用いた光ディスクと同じ光ディスクに対して、V1=0.57、V2=0.45に設定して振幅判定部により検出信号のフィルタ処理を実施した。その結果、振幅判定部を用いない場合に対して、約80%のノイズ成分を除去することができた。しかしながら、検出対象の抗原(バイオマーカー)を含む試料液を滴下してアッセイを行い、同じ条件でフィルタ処理を実施すると、本来カウントされるべき検出信号の一部がノイズ成分として除去された。
実験結果1〜3のようにフィルタ処理の条件を変えて実験した結果から、第1基準レベルV1及び第2基準レベルV2を設定することで、適切なフィルタ処理を行うこともできる。
図4に戻って、ステップS12において、パルス幅判定部33は、取得したパルス幅Tが、予め設定されている第1基準幅T1よりも大きいか否かを判定する。
パルス幅判定部33は、パルス幅Tが第1基準幅T1よりも大きい場合(YES)にはステップS13へ処理を進め、小さい場合(NO)には処理を終了する。
パルス幅判定部33は、パルス幅Tが第1基準幅T1よりも大きい場合(YES)にはステップS13へ処理を進め、小さい場合(NO)には処理を終了する。
ステップS13において、パルス幅判定部33は、パルス幅Tが、予め設定されている第2基準幅T2(T2>T1)よりも小さいか否かを判定する。
パルス幅判定部33は、パルス幅Tが第2基準幅T2よりも小さい場合(YES)にはパルス信号Sを出力(ステップS15)し、大きい場合(NO)にはステップS14へ処理を進める。
パルス幅判定部33は、パルス幅Tが第2基準幅T2よりも小さい場合(YES)にはパルス信号Sを出力(ステップS15)し、大きい場合(NO)にはステップS14へ処理を進める。
ステップS14において、パルス幅判定部33は、パルス幅Tが、予め設定されている第3基準幅T3(T3>T2)よりも小さいか否かを判定する。
パルス幅判定部33は、パルス幅Tが第3基準幅T3よりも小さい場合(YES)にはパルス信号Lを出力(ステップS16)し、大きい場合(NO)には処理を終了する。
パルス幅判定部33は、パルス幅Tが第3基準幅T3よりも小さい場合(YES)にはパルス信号Lを出力(ステップS16)し、大きい場合(NO)には処理を終了する。
即ち、パルス波形分析部30は、ピーク値(ボトム電圧)が第1基準レベルよりも小さくて第2基準レベルよりも大きく、かつ、パルス幅が所定の範囲内であるパルス波形を検出し、検出された場合にパルス信号Sまたはパルス信号Lを出力する。
パルス幅判定部33から出力されるパルス信号S及びパルス信号Lを、図示しない計数部でカウントすることにより、検出対象のバイオマーカーの量(濃度)を精度よく分析することができる。なお、計数部は制御部5の一部として構成されてもよく、制御部5の後段に構成されてもよい。
また、パルス信号Sとパルス信号Lとを別々にカウントし、これらを比較することでビーズの凝集状態がわかる。例えば、パルス信号Lに対するパルス信号Sの比率が大きければ、ビーズは凝集された状態にあり、小さければビーズは分散された状態にあることがわかる。
ここで、図6及び図7を用いて、第1基準幅T1、第2基準幅T2、及び第3基準幅T3の設定方法について説明する。図6及び図7の横軸はスポット位置であり、縦軸は信号強度(振幅変調度)である。図6では、1つのビーズが孤立した状態のパルス波形D1を実線で表し、2つのビーズが隣接した状態のパルス波形D2を1点鎖線で表し、3つのビーズが隣接した状態のパルス波形D3を破線で表している。図7は説明をわかりやすくするために、図6のパルス波形D1のみを表している。
図6に示すように、パルス波形D2の半値幅とパルス波形D3の半値幅とはほぼ等しいため、複数のビーズが隣接状態のパルス波形の半値幅を第1基準幅T1としている。第2基準幅T2は第1基準幅T1にαを加算した値に設定されている。αは分析装置のジッター値等を鑑みて設定されている。
図7に示すように、第3基準幅T3はパルス波形D1の半値幅にαを加算した値に設定されている。αは分析装置のジッター値等を鑑みて設定されている。
上述した分析装置及び分析方法によれば、検出信号のピーク値(ボトム電圧)を振幅判定部で分析することでノイズ成分を除去し、さらに検出信号のパルス幅をパルス幅判定部で分析することで、振幅判定部で除去し切れなかったノイズ成分を除去することができる。従って、従来よりもノイズ成分の影響を抑制し、検出対象であるバイオマーカーの検出精度を向上させることができる。
図8を用いて、上述した分析装置1を用いた実施例を説明する。図8の横軸はバイオマーカー量(濃度)であり、縦軸はビーズカウント数である。なお、振幅判定部による処理をせずにパルス幅の判定のみを行った場合を比較例として示している。
図8の破線はバックグラウンドであり、ノイズ成分に相当する。図8に示すように、バイオマーカー量に対するビーズカウント数の傾きは実施例、比較例ともほぼ同じである。一方、バックグラウンドは、実施例が比較例よりも大幅に下がっている。即ち、実施例は比較例よりもノイズ成分が除去されている。その結果、検出対象であるバイオマーカーの検出精度が向上し、微量なバイオマーカーの検出も可能になる。
なお、本発明に係る実施形態は、上述した構成に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。
1 分析装置
2 基板
4 光走査部
12 抗原(検出対象)
16 ビーズ(微粒子)
30 パルス波形分析部
32 振幅判定部
33 パルス幅判定部
2 基板
4 光走査部
12 抗原(検出対象)
16 ビーズ(微粒子)
30 パルス波形分析部
32 振幅判定部
33 パルス幅判定部
Claims (3)
- 微粒子と結合された検出対象が表面に固定された基板を光学的に走査し、前記基板から検出信号を取得する光走査部と、
前記光走査部が取得した前記検出信号のパルス波形を分析するパルス波形分析部と、
を備え、
前記パルス波形分析部は、
前記パルス波形のピーク値が所定の範囲内に存在するか否かを判定する振幅判定部と、
前記パルス波形のパルス幅が所定の範囲内か否かを判定するパルス幅判定部と、
を有することを特徴とする分析装置。 - 前記パルス波形分析部は、前記ピーク値が所定の範囲内に存在し、かつ、前記パルス幅が所定の範囲内であるパルス波形を検出することを特徴とする請求項1記載の分析装置。
- 微粒子と結合された検出対象が表面に固定された基板を光学的に走査し、前記基板から検出信号を取得する検出信号取得ステップと、
前記検出信号のパルス波形のピーク値が所定の範囲内に存在するか否かを判定する振幅判定ステップと、
前記パルス波形のパルス幅が所定の範囲内か否かを判定するパルス幅判定ステップと、
を含むことを特徴とする分析方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014200234A JP2016070782A (ja) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | 分析装置及び分析方法 |
EP15846200.2A EP3203212A4 (en) | 2014-09-30 | 2015-09-09 | Analysis device and analysis method |
CN201580050890.XA CN107076662B (zh) | 2014-09-30 | 2015-09-09 | 分析装置以及分析方法 |
PCT/JP2015/075636 WO2016052118A1 (ja) | 2014-09-30 | 2015-09-09 | 分析装置及び分析方法 |
US15/460,836 US20170184582A1 (en) | 2014-09-30 | 2017-03-16 | Analysis Device and Analysis Method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014200234A JP2016070782A (ja) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | 分析装置及び分析方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016070782A true JP2016070782A (ja) | 2016-05-09 |
Family
ID=55630161
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014200234A Pending JP2016070782A (ja) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | 分析装置及び分析方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20170184582A1 (ja) |
EP (1) | EP3203212A4 (ja) |
JP (1) | JP2016070782A (ja) |
CN (1) | CN107076662B (ja) |
WO (1) | WO2016052118A1 (ja) |
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2015
- 2015-09-09 WO PCT/JP2015/075636 patent/WO2016052118A1/ja active Application Filing
- 2015-09-09 CN CN201580050890.XA patent/CN107076662B/zh active Active
- 2015-09-09 EP EP15846200.2A patent/EP3203212A4/en not_active Withdrawn
-
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- 2017-03-16 US US15/460,836 patent/US20170184582A1/en not_active Abandoned
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JP7000998B2 (ja) | 2018-06-06 | 2022-01-19 | 株式会社Jvcケンウッド | 分析用閾値生成装置及び分析用閾値生成方法 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170184582A1 (en) | 2017-06-29 |
WO2016052118A1 (ja) | 2016-04-07 |
EP3203212A1 (en) | 2017-08-09 |
EP3203212A4 (en) | 2017-10-04 |
CN107076662B (zh) | 2020-05-01 |
CN107076662A (zh) | 2017-08-18 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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