JP2015127691A - 分析用基板、分析用基板の製造方法及び基板分析装置 - Google Patents

Abstract

【課題】検出対象に対する定量性を向上できる分析用基板を提供する。
【解決手段】分析用基板は、基板１０と、基板１０の表面に形成された凹状部１２及び凸状部１１とを備える。凹状部１２は、基板１０の表面に生成された親水基により親水性を有する親水部Ｐを構成する。凸状部１１は、疎水性を有し、検出対象である生体高分子と結合する特異性生体高分子が固定される疎水部Ｐを構成する。
【選択図】図１

Description

本発明は、抗体、抗原等の生体高分子を分析するための分析用基板、分析用基板の製造方法及び基板分析装置に関する。

疾病に関連付けられた特定の抗原または抗体をバイオマーカーとして検出することで、疾病の発見や治療の効果等を定量的に分析する免疫検定法（immunoassay）が知られている。酵素により標識された抗原または抗体を検出するＥＬＩＳＡ法（Enzyme-Linked ImmunoSorbent Assay）は、免疫検定法の一つであり、コスト等のメリットから広く普及している。ＥＬＩＳＡ法は、前処理、抗原抗体反応、Ｂ／Ｆ（bond/free）分離、酵素反応等を合計した時間が、数時間から１日程度であり、長時間を要する。

これに対して、光ディスクに固定された抗体と試料中の抗原を結合させ、抗原と抗体を有する粒子とを結合させ、光ヘッドで走査することにより、ディスク上に捕捉された粒子を短時間に計数する技術が提案されている（特許文献１）。また、光ディスクのトラッキング構造が形成される面に試料や粒子を付着させ、光ピックアップで信号の変化を検出する技術が提案されている（特許文献２）。

特開平５−５７４１号公報 特表２００２−５３０７８６号公報

しかしながら、特許文献１及び２に記載の技術は、粒子が走査方向に対して直交する方向にずれて配置される場合において、信号の漏れ込みが生じる可能性がある。例えば、特許文献２に記載の技術において、走査対象のトラックに隣接するランドまたはグルーブに粒子が位置すると、その粒子において信号の干渉が生じて、信号が漏れ込む可能性がある。すると、粒子が重複して計数され、計数結果が不正確となり、検出対象に対する定量性が低減するおそれがある。
上記問題点を鑑み、本発明は、検出対象に対する定量性を向上できる分析用基板、分析用基板の製造方法及び基板分析装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の第１の態様は、基板（１０）と、基板（１０）の表面に形成された凹状部（１２）及び凸状部（１１）とを備え、凹状部（１２）は、基板（１０）の表面に生成された親水基により親水性を有する親水部（Ｐ）を構成し、凸状部（１１）は、疎水性を有し、検出対象である生体高分子と結合する特異性生体高分子が固定される疎水部（Ｐ）を構成する分析用基板であることを要旨とする。

本発明の第２の態様に係る分析用基板は、第１の態様に係る分析用基板おいて、基板（１０）は、疎水性を有する樹脂材料からなり、親水部（Ｐ）は、基板（１０）の表面が表面処理により親水性に改質されることにより形成されることを特徴とする。

本発明の第３の態様は、基板（１０）の表面に形成された凹状部（１２）に、基板（１０）の表面に生成された親水基により親水性を有する親水部（Ｐ）を形成するステップと、基板（１０）の表面に形成された疎水性を有する凸状部（１１）に、検出対象である生体高分子と結合する特異性生体高分子が固定される疎水部（Ｑ）を形成するステップとを含む分析用基板の製造方法であることを要旨とする。

本発明の第４の態様は、基板（１０）と、基板（１０）の表面に形成された凹状部（１２）及び凸状部（１１）とを備え、凹状部（１２）は基板の表面に生成された親水基により親水性を有する親水部（Ｐ）を構成し、凸状部（１１）は疎水性を有し、検出対象である生体高分子と結合する特異性生体高分子が固定される疎水部（Ｑ）を構成する分析用基板（１００）を再生する光ディスクドライブ（３２０）と、
光ディスクドライブが分析用基板を再生することによって生成される再生信号に基づいて、検出対象の存在を検出する検出装置（３１０）と、
を備えることを特徴とする基板分析装置。

本発明の第５の態様は、第４の態様に係る基板分析装置において、検出対象はビーズ（５）によって修飾され、検出装置（３１０）は、ビーズ（５）の存在を検出することによって間接的に検出対象の存在を検出することを要旨とする。

本発明によれば、検出対象に対する定量性を向上できる分析用基板、分析用基板の製造方法及び基板分析装置を提供することができる。

本発明の実施の形態に係る分析用基板を説明する部分斜視図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板を説明する基板の円周方向から見た拡大断面図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板において、生体高分子と特異性生体高分子が特異的に結合する様子を説明する拡大断面図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板の製造方法を説明する拡大断面図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板の製造方法を説明する拡大断面図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板の製造方法を説明する部分斜視図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板の製造方法を説明する拡大断面図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板の製造方法を説明する拡大断面図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板の製造方法を説明する拡大断面図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板に特異性生体高分子を固定する様子を説明する拡大断面図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板に特異性生体高分子を固定する様子を説明する拡大断面図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板を用いて分析を行う基板分析装置の基本的な構成を説明するブロック図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板に生体高分子固定させるために用いるジグの構成例を示す斜視図である。 基板分析装置によって本発明の実施の形態に係る分析用基板を用いて分析する前の準備の工程を示すフローチャートである。 図１４に示す準備の工程によって、本発明の実施の形態に係る分析用基板にエキソソームが固定されたエキソソーム固定領域が形成されている状態を概念的に示す上面図である。 図１４のステップＳ１１の具体的な工程を示すフローチャートである。 本発明の実施の形態に係る分析用基板上に形成されているエキソソーム固定領域の状態を概念的に示す部分拡大図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板を再生したときの再生信号波形の例を示す波形図である。 本発明の実施の形態に係る分析用基板を再生したときの再生信号波形の例を示す波形図である。 基板分析装置が図１８に示す再生信号波形に基づいて検出した検出結果を示す図である。 本発明の他の実施の形態に係る分析用基板を説明する部分斜視図である。 本発明の他の実施の形態に係る分析用基板を説明する基板の円周方向から見た拡大断面図である。 本発明の他の実施の形態に係る分析用基板において、生体高分子と特異性生体高分子が特異的に結合する様子を説明する拡大断面図である。 本発明の他の実施の形態に係る分析用基板の製造方法を説明する部分斜視図である。 本発明の他の実施の形態に係る分析用基板の製造方法を説明する拡大断面図である。 本発明の他の実施の形態に係る分析用基板の製造方法を説明する拡大断面図である。 本発明の他の実施の形態に係る分析用基板の製造方法を説明する拡大断面図である。 本発明の他の実施の形態に係る分析用基板を説明する部分斜視図である。 本発明の他の実施の形態に係る分析用基板を説明する部分斜視図である。

次に、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付し、重複する説明を省略している。また、以下に示す実施の形態は、本発明の技術的思想を具体化するための基板や方法を例示するものであって、本発明の技術的思想は、構成要素の形状、組成、配置等を下記のものに特定するものでない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。

（分析用基板）
本発明の実施の形態に分析用基板は、図１に示すように、基板１０と、基板１０の表面に形成され、親水性を有する親水部Ｐと、基板１０の表面に親水部Ｐと異なる高さに形成され、疎水性を有し、検出対象である生体高分子と特異的に結合する特異性生体高分子が疎水効果により固定される疎水部Ｑとを備える。

基板１０は、例えば、コンパクトディスク（ＣＤ）、デジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）、ブルーレイディスク（ＢＤ）等の光ディスクと同等の寸法を有する円盤状である。基板１０は、一般の光ディスクに用いられるポリカーボネート樹脂ではなく、例えば、シクロオレフィンポリマー等の疎水性を有する樹脂材料からなる。

基板１０は、それぞれ、表面において内周側から外周側にスパイラル状に形成されることにより、基板１０の半径方向に交互に形成された凸状のランド（凸状部）１１と凹状のグルーブ（凹状部）１２とを有する。

グルーブ１２は、底面及び側面を有するように形成される。ランド１１は、グルーブ１２の残余部として基板１０の上面をなして形成される。グルーブ１２の深さは、例えば２０〜８０ｎｍ程度である。ランド１１及びグルーブ１２の幅は、抗体を固定する疎水部Ｑが親水部Ｐより幅が広いことが好ましい。また、後述する標識用ビーズ５の直径以上の幅であることが好ましい。例えば、グルーブ１２を疎水性にして抗体を固定し、直径２００ｎｍ程度のビーズ５をグルーブ１２に固定する場合、グルーブ１２の幅は２００ｎｍ程度である。本発明の実施の形態において、親水部Ｐはランド１１により構成され、疎水部Ｑはグルーブ１２により構成される。

図２に示すように、グルーブ１２は、抗体（特異性生体高分子）２が疎水効果により底面及び側面に固定される。抗体２の大きさは、例えば数ｎｍ程度である。ランド１１は、親水性であるため、抗体２が疎水効果により固定されない。

本発明の実施の形態に係る分析用基板は、図３に示すように、抗原３は、抗体２と特異的に結合することにより、疾病等の指標となるバイオマーカーとして用いられる。抗原３は、抗原３と結合する抗体４を備える標識用のビーズ５で標識されることにより、レーザ光を用いた光ピックアップで高精度に検出可能となる。検出対象が光ピックアップにより直接検出可能であれば、標識用のビーズ５等は不要である。

本発明の実施の形態に係る分析用基板を用いて抗原３を分析する場合、先ず、オペレータは、検出対象の抗原３を含む試料液を、基板１０のランド１１及びグルーブ１２側の表面に分注し、振盪機により基板１０を振盪させる。試料液に含まれる抗原３は、グルーブ１２に固定された抗体２との抗原抗体反応により、抗体２と特異的に結合する。抗原３と結合する抗体２は、複数種類であってもよい。

オペレータは、基板１０を洗浄し、抗体２と結合した抗原３以外を除去した後、表面に抗体４が固定されたビーズ５を含む緩衝溶液を基板１０の表面に分注し、振盪機により基板１０を振盪させる。緩衝溶液に含まれるビーズ５は、抗体４が抗原３と結合することにより、抗原３を標識する。抗体２及び抗体４は、同じ種類でよいが、互いに異なる種類とする場合、ビーズ５は、２種類の抗原３を有するバイオマーカーを標識することができる。

ビーズ５は、例えば、内部に磁性材料を有し、合成樹脂により略球形に形成される。ビーズ５の直径は、例えば２００ｎｍ程度である。ビーズ５は、ビーズ５を含む緩衝溶液を基板１０の表面に分注する際に基板１０の反対側の面に磁石が配置されることにより、更に迅速にグルーブ１２に集合することができる。また、抗原３とビーズ５とが同時に投入されることにより、基板１０に固定された抗原３を標識するまでの時間を数分程度に短縮することができる。

−分析用基板の製造方法−
以下、図４〜図９を参照して、本発明の実施の形態に係る分析用基板の製造方法の一例を説明する。

先ず、図４に示すように、表面にランド１１及びグルーブ１２が形成された基板１０を形成する。基板１０は、例えば、ランド１１及びグルーブ１２に対応する連続溝が形成されたスタンパに、疎水性を有する樹脂材料が射出成形されることにより形成される。基板１０の樹脂材料は、例えば、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリスチレン等の芳香族炭化水素樹脂、脂環式ポリオレフィン等、分子構造内に極性基を有さない炭化水素から構成される樹脂材料を採用可能である。

次に、図５に示すように、基板１０のランド１１及びグルーブ１２が形成された側の面に、スパッタリング等によりレジスト膜６が成膜される。レジスト膜６は、例えば、ＰＴＭ（Phase Transition Mastering）技術に用いられる二酸化タングステン（ＷＯ_２）等の無機材料からなり、厚さが３０〜１００ｎｍ程度である。

次に、図６に示すように、基板１０を矢印Ａに示す円周方向に回転させ、レジスト膜６が成膜されたランド１１に、フォーカスサーボ及びトラッキングサーボをかけながら、レーザ光Ｌを照射する。レーザ光Ｌは、集光レンズ７により集光されることにより、ランド１１にスポットＳを形成する。レーザ光Ｌは、ランド１１の幅を超えて照射されるが、ガウス分布を有するので、スポットＳのうちランド１１のみを、レジスト膜６が感光する温度以上となる強度で照射するように制御される。ランド１１に形成されたレジスト膜６は、レーザ光Ｌにより感光し、アモルファス構造であるＷＯ_２から結晶構造である三酸化タングステン（ＷＯ_３）となる。

次に、基板１０がアルカリ現像溶液に浸漬されることにより、ランド１１に形成されたレジスト膜６は、図７に示すように、溶解し、除去される。アルカリ現像溶液に浸漬する時間が長いと、グルーブ１２に形成されたレジスト膜６まで溶解してしまうため、ランド１１に形成されたレジスト膜６のみが除去されるように時間が調整される。アルカリ現像溶液のｐＨにもよるが、例えば２０分から1時間程度でランド１１に形成されたレジスト膜６は除去される。ランド１１に形成されたレジスト膜６が除去された後、基板１０は、純水で洗浄され、乾燥される。このように、疎水性の基板１０は、ランド１１のみにおいて露出される。

次に、図８に示すように、基板１０は、基板１０のランド１１及びグルーブ１２が形成された側の面に、真空中で酸素プラズマが照射される。ランド１１は、酸素プラズマと反応し、表面にヒドロキシル基（−ＯＨ基）やカルボキシル基（−ＣＯＯＨ基）が多数形成され、水分子と水素結合するこれらの親水基を多く含む物質で表面が親水性に改質されることにより、親水部Ｐを構成する。このように、基板１０のランド１１の表面に親水基を生成する表面処理によりランド１１は親水性に改質される。

次に、図９に示すように、基板１０がアルカリ現像溶液に長時間浸漬されることにより、グルーブ１２に形成されたレジスト膜６を除去する。アルカリ現像溶液のｐＨにもよるが例えば１２〜一昼夜で基板１０に残存するレジスト膜は除去される。グルーブ１２に形成されたレジスト膜６が除去された後、基板１０は、純水で洗浄され、乾燥される。露出されたグルーブ１２は、疎水性のままであり、疎水部Ｑを構成する。

−特異性生体高分子の固定方法−
以下、図１０及び図１１を参照して、本発明の実施の形態に係る分析用基板に特異性生体高分子である抗体２を固定する方法の一例を説明する。

先ず、図１０に示すように、検出対象と特異的に結合する抗体２を含む緩衝溶液２０を基板１０のランド１１及びグルーブ１２に分注し、振盪機により基板１０を浸透させる。分子的に極性基を有さない炭化水素のみでできているシクロポリオレフィンやポリスチレンのようなプラスチックディスク基板の表面は、疎水性の高い分子構造になっており、抗体２の疎水部（疎水基）と引きつけ合う相互作用が起こり疎水吸着を起こす。緩衝溶液２０に含まれる抗体２は、このような疎水効果により、高い疎水性を有するグルーブ１２に固定される。抗体２は、親水性を有するランド１１には固定されない。

次に、図１１に示すように、基板１０は、抗体２を含む緩衝溶液２０が排出された後、緩衝溶液で洗浄される。これにより、グルーブ１２に固定されなかった抗体２を含む緩衝溶液２０が除去され、グルーブ１２にのみ抗体２が固定された分析用基板が完成する。

−基板分析装置−
以下、本発明の実施の形態に係る分析用基板１００を用いてエキソソームを検出する基板分析装置を説明する。

図１２に示すように、基板分析装置３００は、概略的に、光ディスクドライブ制御装置３１０と、光ディスクドライブ３２０とより構成される。光ディスクドライブ制御装置３１０は、パーソナルコンピュータによって構成することができる。光ディスクドライブ３２０は、ブルーレイディスク再生装置によって構成することができる。

光ディスクドライブ制御装置３１０は、光ディスクドライブ３２０を制御する。光ディスクドライブ制御装置３１０は、光ディスクドライブ３２０が分析用基板１００，２００を再生することによって生成される再生信号に基づいて、エキソソームの存在を検出する検出装置としても機能する。

光ディスクドライブ制御装置３１０は、制御部３１１，入力部３１２，記憶部３１３，表示部３１４，Ａ／Ｄ変換器３１５を有する。制御部３１１は、機能的な内部構成として、カウンタ３１６と積算部３１７を有する。カウンタ３１６と積算部３１７を制御部３１１の外部に設けてもよい。Ａ／Ｄ変換器３１５を制御部３１１の内部に設けてもよい。

光ディスクドライブ３２０は、スピンドルモータ３２１，光ピックアップ（光ＰＵ）３２２，ＲＦ再生信号生成部３２３，フォーカス・トラッキング信号生成部３２４を有する。光ディスクドライブ３２０は、光ピックアップ３２２を径方向に移動させるトラバース機構（図示せず）を有する。

光ディスクドライブ３２０には、分析用基板１００が疎水部Ｑであるグルーブ１２側を下面にした状態で装着される。スピンドルモータ３２１は、分析用基板１００を回転させる。光ピックアップ３２２は、分析用基板１００に対してレーザ光を照射し、分析用基板１００からの反射光を受光する。

ＲＦ再生信号生成部３２３は、反射光の受光信号に基づいてＲＦ再生信号を生成する。受光信号の総和信号をＲＦ再生信号とすることができる。フォーカス・トラッキング信号生成部３２４は、反射光の受光信号に基づき、公知の方法によりフォーカス信号及びトラッキング信号を生成する。

光ピックアップ３２２は、フォーカス信号に応じて、分析用基板１００に対する距離が調整される。これによって、レーザ光は分析用基板１００上にフォーカスされる。

光ピックアップ３２２は、トラッキング信号に応じて径方向の位置が調整される。これによって、レーザ光は分析用基板１００のトラックにトラッキングされる。

図１３〜図１５を用いて、複数の抗原３が表面に発現するエキソソーム５０を分析用基板１００に固定させ、基板分析装置３００によってエキソソーム５０を分析する前の準備の工程を説明する。

分析用基板１００は、例えば直径８ｃｍの円形であり、中心部に光ディスクと同様の貫通孔を有するとする。以下、分析用基板１００を用いる場合について説明する。

図１３は、分析用基板１００にエキソソーム５０を固定させるために用いるジグ４００を示している。ベース４０１の中央部には円柱状の突出部が形成されている。突出部には、雌ねじが形成された円柱状の凹部が形成されている。ベース４０１の突出部に分析用基板１００の貫通孔を通すことによって、分析用基板１００はベース４０１上に位置決めされている。

円形のウェル形成カバー４０２も、中心部に貫通孔を有する。ベース４０１の突出部にウェル形成カバー４０２の貫通孔を通すことによって、ウェル形成カバー４０２は分析用基板１００上に位置決めされている。ウェル形成カバー４０２上には、座金４０４が配置されている。

ウェル形成カバー４０２の径方向の端部近傍には、周方向に配列されたウェル402Wが形成されている。図１３に示す例では、ウェル402Wは１６個形成されている。ウェル402Wは、円柱状の貫通孔である。ウェル402Wの数は任意である。ウェル形成カバー４０２の内周側にさらにウェル402Wを形成してもよい。

ウェル形成カバー４０２の裏面、即ち、分析用基板１００と対向させる側の面には、ウェル402Wの開口を囲むように弾性体よりなるリング状のパッキング４０３が装着されている。パッキング４０３は、一例として、シリコーンゴムにより形成されている。

ウェル形成カバー４０２の裏面に環状の突起を設け、パッキング４０３に環状の溝を設けて、突起を溝に嵌め込んでもよい。ウェル形成カバー４０２の裏面に環状の溝を設け、パッキング４０３に環状の突起を設けて、突起を溝に嵌め込んでもよい。

ウェル形成カバー４０２には、周方向の位置を判別するための一対の突出部4021が形成されている。突出部4021は、ウェル402Wの位置を特定するマーカとして機能する。例えば、突出部4021が形成された位置のウェル402Wを番号１として、時計方向に順に番号１６まで番号付けすることができる。

ベース４０１，分析用基板１００，ウェル形成カバー４０２，座金４０４が重ねられた状態で、突出部に形成された凹部に蝶ボルト４０５が締め込まれている。パッキング４０３は圧力によって変形し、ウェル形成カバー４０２は分析用基板１００に密着している。

図１４において、試料分析を行うオペレータは、ステップＳ１にて、図１３に示すように、ベース４０１に、分析用基板１００とウェル形成カバー４０２とを装着して固定する。
オペレータは、ステップＳ２にて、抗体２を含む緩衝溶液２０をウェル402Wに分注する。これによって、グルーブ１２に抗体２が固着される。ステップＳ２にて用いる抗体６０としては、抗原３と反応する抗体を用いる。

オペレータは、ステップＳ３にて、緩衝溶液２０を排出して、ウェル402Wを洗浄する。オペレータは、ステップＳ４にて、分析用基板１００の表面を、スキムミルクを含む緩衝溶液を用いてブロッキング処理する。

スキムミルクはエキソソーム５０に付着しないたんぱく質を含むので、ブロッキング処理に好適である。同様の効果を奏するものであれば、ブロッキング処理に用いる物質はスキムミルクに限定されない。

オペレータは、ステップＳ５にて、スキムミルクを含む緩衝溶液を排出して、ウェル402Wを洗浄する。オペレータは、ステップＳ６にて、検出対象のエキソソーム５０を含む試料液をウェル402Wに分注する。これによって、グルーブ１２にエキソソーム５０が固定される。オペレータは、ステップＳ７にて、試料液を排出して、ウェル402Wを洗浄する。

図１４に示す例では、エキソソーム５０の検出を容易とするために、エキソソーム５０を修飾するためのビーズ５を用いる。ビーズ５は、例えば合成樹脂によって略球形に形成されている。ビーズ５の直径Ｄは例えば２００ｎｍである。ビーズ５には予め表面に抗体４が固定されている。

オペレータは、ステップＳ８にて、ビーズ５を含む液をウェル402Wに分注する。ビーズ５を含む液は緩衝溶液であるのがよい。

ビーズ５の内部に、フェライト等の磁性物質を包含させてもよい。磁性物質を包含したビーズ５とすると、ステップＳ８で、ベース４０１の下面に磁石を配置することによってビーズ５をグルーブ１２の方向へと効率よく向かわせることができる。

オペレータは、ステップＳ９にて、ビーズ５を含む液を排出して、ウェル402Wを洗浄する。オペレータは、ステップＳ１０にて、ベース４０１よりウェル形成カバー４０２を外し、分析用基板１００を洗浄して乾燥させる。

以上の工程によって、図３に示すように、グルーブ１２にエキソソーム５０が固定され、エキソソーム５０がビーズ５によって修飾された分析用基板１００を得ることができる。

オペレータは、ステップＳ１１にて、分析用基板１００を基板分析装置３００に装着し、基板分析装置３００による分析用基板１００の分析処理を実行させる。

図１４は、分析用基板１００のグルーブ１２に抗体６０を固着させ、抗体６０にエキソソーム５０を固定させ、さらに、エキソソーム５０をビーズ５で修飾する工程を簡略化して示している。

ウェル402Wに液が分注された状態の分析用基板１００を保管して所定時間経過させたり、所定時間振盪させたりすることがあってもよい。分析用基板１００を冷却して保管することがあってもよい。また、ウェル402Wや分析用基板１００の洗浄を複数回行うことがあってもよい。図１４では洗浄すると説明していない工程で洗浄を行うことがあってもよい。

図１４で説明した準備の工程によって、分析用基板１００には、図１５に示すように、ウェル402Wと対応した位置に、複数のグルーブ１２にエキソソーム５０が固定された円形のエキソソーム固定領域Arexが形成される。

なお、１６個全てのウェル402Wを用いて分析用基板１００上にエキソソーム５０を固定させた場合には、エキソソーム固定領域Arexは図１５に示すように１６箇所となる。１６個のウェル402Wのうちの一部のウェル402Wを用いて分析用基板１００上にエキソソーム５０を固定させてもよい。この場合、エキソソーム固定領域Arexの数は、使用したウェル402Wの数に対応した数となる。

分析用基板１００には、分析用基板１００の周方向の位置を特定するためのマーカを設けるのがよい。図１５において、切り欠きＣｏは分析用基板１００の周方向の位置を特定するためのマーカとなっている。切り欠きＣｏを基準として、エキソソーム固定領域Arexの周方向の位置を特定することができる。

例えば、ウェル形成カバー４０２の突出部4021と切り欠きＣｏとの位置を合わせた状態で、分析用基板１００とウェル形成カバー４０２とを固定する。すると、図１５において、切り欠きＣｏの右側に位置するエキソソーム固定領域Arexを番号１（＃１）として、時計方向に順に番号１６（＃１６）まで番号付けすることができる。

突出部4021と切り欠きＣｏとの周方向の位置関係を規定することにより、ウェル形成カバー４０２のウェル402Wと、分析用基板１００のエキソソーム固定領域Arexとを対応付けることができる。

光ディスクドライブ３２０に、分析用基板１００の上面側と下面側との一方に発光部を設け、他方に受光部を設ける。分析用基板１００が回転して、発光部と受光部との間に切り欠きＣｏが位置するタイミングでは、受光部は発光部より発せられた光を受光する。これによって、エキソソーム固定領域Arexの周方向の位置を特定することができる。

図１２に戻り、光ディスクドライブ３２０は、図１５に示す分析用基板１００を再生する。ここでの再生とは、通常の光ディスクと同様に、分析用基板１００に対してレーザ光を照射し、分析用基板１００からの反射光に基づいて、ＲＦ再生信号を得ることである。

図１６を用いて、図１４のステップＳ１１の具体的な工程を説明する。図１６において、オペレータは、ステップS111にて、入力部３１２によって制御部３１１に分析用基板１００の測定条件を設定する。測定条件とは、番号１〜番号１６の１６個のエキソソーム固定領域Arexのうちのどれを測定対象とするかということである。

制御部３１１は、設定された測定条件に従って、光ディスクドライブ３２０を制御する。制御部３１１は、ステップS112にて、測定箇所に光ピックアップ３２２を移動させる。

図１７は、分析用基板１００上に形成されているエキソソーム固定領域Arexの状態を概念的に示している。ここでは理解を容易にするため、ランド１１及びグルーブ１２の幅を拡大して示している。よって、エキソソーム固定領域Arexの大きさとランド１１及びグルーブ１２の幅とのサイズ的な関係は実際の両者のサイズ的な関係を表していない。

図１７に示すように、１つのエキソソーム固定領域Arex内には、グルーブ１２よりなる複数のトラックが存在している。制御部３１１は、光ピックアップ３２２を、例えばエキソソーム固定領域Arex内の最内周側のトラックに移動させればよい。

光ディスクドライブ３２０は、ステップS113にて、フォーカス及びトラッキング制御しながら、分析用基板１００を再生する。光ディスクドライブ３２０は、制御部３１１による制御に基づき、エキソソーム固定領域Arex内のそれぞれのトラックを再生する。

Ａ／Ｄ変換器３１５は、ステップS114にて、ＲＦ再生信号生成部３２３によって生成されたＲＦ再生信号を２値化処理する。

図１８の（ａ）は、１トラックを再生したときの、それぞれのエキソソーム固定領域ArexからのＲＦ再生信号を２値化処理した信号波形の例を示している。図１８の（ａ）では、番号１〜番号３のエキソソーム固定領域Arexの信号波形が示されている。

図１８の（ｂ）は、番号１のエキソソーム固定領域Arexの信号波形を拡大した拡大図である。図１９の（ｂ）の信号波形をさらに拡大したものが図１９に示す信号波形である。

図１９は、分析用基板１００にレーザ光を照射したときの、レーザ光の反射光に基づく再生信号波形を示している。波形Ｗｆはエキソソーム５０が捕捉されたピット１２からの再生信号波形である。波形Ｗｆ１は閾値ＴＨを越える。

このように、エキソソーム５０が捕捉された箇所とそれ以外の箇所とでは、レーザ光を照射したときの再生信号波形が異なるので、エキソソーム５０の数を計測することができる。

後述するように、エキソソーム５０の検出を容易とするために、エキソソーム５０を、エキソソーム５０の直径よりも大きい直径を有するビーズで修飾してもよい。エキソソーム５０をビーズで修飾した場合も、再生信号波形は波形Ｗｆであるとする。

カウンタ３１６は、ステップS115にて、図１８の（ｂ）における閾値ＴＨを越えた信号波形をカウントする。このとき、カウンタ３１６は、図１８の（ｂ）に示すように、エキソソーム固定領域Arexからの信号波形のみをカウントするように、ゲート信号Sgateによって信号波形をゲートするのがよい。

ゲート信号Sgateの時間長さは、図１７に示すエキソソーム固定領域Arexの直径Darexに対応した長さである。

カウンタ３１６によるそれぞれのトラックのカウント値は、順次、積算部３１７に入力される。積算部３１７は、ステップS116にて、１つのエキソソーム固定領域Arexの全てのトラックで得られたカウント値を積算する。制御部３１１は、ステップS117にて、積算値を記憶部３１３に記憶させる。

制御部３１１は、ステップS117にて積算値を表示部３１４に表示させてもよい。また、制御部３１１は、ステップS117にて積算値を記憶部３１３に記憶させた後、積算値を表示させる指示があったとき、記憶部３１３より積算値を読み出して表示部３１４に表示させてもよい。

制御部３１１は、ステップS118にて、他のエキソソーム固定領域Arexがあるか否かを判定する。他のエキソソーム固定領域Arexがあれば（YES）、制御部３１１は処理をステップS112に戻し、ステップS112以降の処理を繰り返す。

他のエキソソーム固定領域Arexがなければ（NO）、制御部３１１は処理を終了させる。

図１９に示す波形Ｗｆの幅は、トラック上にビーズ５が単独で存在しているか、複数のビーズ５が連結した状態で存在しているかによって異なる。図１７は、トラック上にビーズ５が単独で存在している状態を示している。２つまたはそれ以上のビーズ５が連結する場合がある。

そこで、カウンタ３１６は閾値ＴＨを越えた信号波形の半値幅を複数に分類してカウントし、積算部３１７は半値幅ごとに積算値を求めるのがよい。

ところで、ブルーレイ規格では、Ｔをクロックの１周期として、２Ｔ〜８Ｔと称されるストラテジが用いられる。光ディスクドライブ３２０をブルーレイディスク再生装置で構成した場合、光ディスクドライブ３２０より出力されるＲＦ再生信号の信号波形をストラテジと同様の幅ごとに分類するのが都合がよい。

図２０は、信号波形を幅ごとに分類した積算値の例を示している。図２０では、ブルーレイ規格では用いられない１Ｔの幅の積算値も示している。５Ｔ以上の幅の信号波形は極めて少ないため、図２０では５Ｔまでを示している。

記憶部３１３には、測定対象とされた全てのエキソソーム固定領域Arexで得られた、図２０に示すような積算値のデータが記憶される。オペレータは、それぞれのエキソソーム固定領域Arexの積算値のデータを確認することによって、エキソソーム５０の数やエキソソーム５０が分析用基板１００上にどのように存在しているかを知ることができる。

以上のようにして、本実施形態の基板分析装置３００によれば、エキソソーム５０を高精度に検出することができる。

図１２に示す本実施形態の基板分析装置３００では、光ディスクドライブ制御装置３１０が、光ディスクドライブ３２０を制御する制御装置と、分析用基板１００におけるエキソソーム５０の存在を検出する検出装置とを兼用している。

光ディスクドライブ３２０を制御する制御装置とエキソソーム５０の存在を検出する検出装置とを別々の構成としてもよい。

本発明の実施の形態に係る分析用基板によれば、抗体２が疎水性であるグルーブ１２のみに固定され、親水性であるランド１１に固定されない。よって、抗原３を標識するビーズ５は、グルーブ１２の内側に位置し、ランド１１に位置しにくい。本発明の実施の形態に係る分析用基板は、光ピックアップで抗体２が固定されたグルーブ１２のみを読み取るようにトラッキング制御することにより、隣接するランド１１からの信号漏れ込み及び計数の重複を低減し、抗原３に対する定量性を向上することができる。

また、本発明の実施の形態に係る分析用基板は、光ディスクとして形成されることにより、光ピックアップにより光ディスクを再生する再生装置と同等の装置により、高精度に検出対象を検出可能である。よって、本発明の実施の形態に係る分析用基板によれば、分析装置の小型化及び低価格化が可能となるとともに、低濃度から高濃度の試料まで、高精度に定量性の高い検出を行うことができる。

（その他の実施の形態）
上記のように、本発明を実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面は本発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。

例えば、既に述べた実施の形態において、分析用基板は、図２１に示すように、ランド１１が疎水部Ｑ、グルーブ１２が親水部Ｐを構成するようにしてもよい。ランド１１が疎水性、グルーブ１２が親水性を有することにより、図２２に示すように、抗体２が疎水効果によりランド１１のみに固定される。抗体２の固定方法は、既に述べた実施の形態と同様である。よって、図２３に示すように、抗原３が抗体２と特異的に結合し、ビーズ５の表面に固定された抗体４が抗原３と特異的に結合可能である。抗原３及びビーズ５がランド１１に位置することにより、光ピックアップによるトラッキング時において、隣接するグルーブ１２からの信号漏れ込み及び計数の重複を低減し、抗原３又はビーズ５に対する定量性を向上することができる。

以下、ランド１１が疎水性、グルーブ１２が親水性を有する分析用基板の製造方法の一例を説明する。先ず、図４及び図５に示すように、疎水性を有する樹脂材料が射出成形されることによりランド１１及びグルーブ１２が形成された基板１０の表面に、スパッタリング等により二酸化タングステン（ＷＯ_２）等の無機材料からなるレジスト膜６が成膜される。

次に、図２４に示すように、基板１０を矢印Ａの方向に回転させ、レジスト膜６が成膜されたグルーブ１２に、フォーカスサーボ及びトラッキングサーボをかけながら、レーザ光Ｌを照射する。レーザ光Ｌは、集光レンズ７により集光されることにより、グルーブ１２にスポットＳを形成する。グルーブ１２に形成されたレジスト膜６は、レーザ光Ｌにより感光し、アモルファス構造であるＷＯ_２から結晶構造である三酸化タングステン（ＷＯ_３）となる。なお、図１５において、グルーブ１２の側面が垂直に形成される例を示しているが、実際には側面がレーザ光Ｌの光源側を向くように傾斜しており、レーザ光Ｌは、フォーカス及び強度を調整されることにより、グルーブ１２の側面及び底面に成膜されたレジスト膜６のみを感光させることができる。

次に、基板１０がアルカリ現像溶液に浸漬されることにより、グルーブ１２に形成されたレジスト膜６は、図２５に示すように、溶解し、除去される。ランド１１に形成されたレジスト膜６が除去された後、基板１０は、純水で洗浄され、乾燥される。このように、疎水性の基板１０は、グルーブ１２において露出される。

次に、図２６に示すように、基板１０は、基板１０のランド１１及びグルーブ１２が形成された側の面に、真空中で酸素プラズマが照射される。グルーブ１２は、酸素プラズマと反応し、表面にヒドロキシル基（−ＯＨ基）やカルボキシル基（−ＣＯＯＨ基）が多数形成され、水分子と水素結合するこれらの親水基を多く含む物質で表面が親水性に改質されることにより、親水部Ｐを構成する。このように、基板１０のグルーブ１２の表面に親水基を生成する表面処理によりグルーブ１２は親水性に改質される。

次に、図２７に示すように、基板１０がアルカリ現像溶液に長時間浸漬されることにより、ランド１１に形成されたレジスト膜６を除去する。ランド１１に形成されたレジスト膜６が除去された後、基板１０は、純水で洗浄され、乾燥される。露出されたランド１１は、疎水性のままであり、疎水部Ｑを構成する。ランド１１が疎水性、グルーブ１２が親水性を有する分析用基板の製造方法において記載されない他の説明は、既に述べた実施の形態に係る分析用基板の製造方法と実質的に同様であり重複するため省略する。

また、既に述べた実施の形態において、基板１０は、疎水性を有する樹脂材料でなく、親水性を有する材料から構成されてもよい。この場合、親水部Ｐ及び疎水部Ｑを基板上に形成するために、基板１０上に成膜されたレジスト膜をパターニングした後、表面処理により疎水化すればよい。ランド１１及びグルーブ１２を有する基板１０を射出成形により形成できない場合、例えば、基板１０は、ホトリソグラフィ技術によりパターニングされたマスクを用いて、円盤状の基板１０をエッチングすることより形成されてもよい。

また、既に述べた実施の形態において、図２８に示すように、基板１０は、グルーブ１２が形成されず、凹状部としてピット１３のみが形成されるようにしてもよい。この場合、ランド１１が親水部Ｐを構成し、ピット１３が疎水部Ｑを構成する。

また、既に述べた実施の形態において、図２９に示すように、基板１０は、グルーブ１２及びピット１３が形成されるようにしてもよい。図２９に示す例では、ランド１１及びグルーブ１２が親水部Ｐを構成し、ピット１３が疎水部Ｑを構成するが、例えば、グルーブ１２及びピット１３のみが疎水部Ｑを構成するようにしてもよく、ランド１１のみが疎水部Ｑを構成するようにしてもよい。

また、既に述べた実施の形態において、検出対象である生体高分子と、検出対象と特異的に結合する特異性生体高分子との組み合わせは、抗原３と抗体２との組み合わせに限るものでない。特異的に結合する組み合わせは、いずれかが疎水効果により基板１０の疎水部Ｑに固定される組み合わせであればよい。特異的に結合する組み合わせは、例えば、リガンドと受容体（酵素タンパク質、レクチン、ホルモン等）との組み合わせ、互いに相補的な塩基配列を有する核酸の組み合わせ等であってもよい。

その他、上述の構成を相互に応用した構成等、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態等を含むことは勿論である。したがって、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。

Ｐ 親水部
Ｑ 疎水部
Ｓ スポット
２，４ 抗体（特異性生体高分子）
３ 抗原（生体高分子）
５ ビーズ
６ レジスト膜
７ 集光レンズ
１０ 基板
１１ ランド（凸状部）
１２ グルーブ（凹状部）
１３ ピット
２０ 緩衝溶液
１００ 分析用基板
３００ 基板分析装置
３１０ 光ディスクドライブ制御装置（検出装置）
３２０ 光ディスクドライブ

Claims (5)

1. 基板と、
   前記基板の表面に形成された凹状部及び凸状部とを備え、
   前記凹状部は、前記基板の表面に生成された親水基により親水性を有する親水部を構成し、
   前記凸状部は、疎水性を有し、検出対象である生体高分子と結合する特異性生体高分子が固定される疎水部を構成することを特徴とする分析用基板。
2. 前記基板は、疎水性を有する樹脂材料からなり、
   前記親水部は、前記基板の表面が表面処理により親水性に改質されることにより形成されることを特徴とする請求項１に記載の分析用基板。
3. 基板の表面に形成された凹状部に、前記基板の表面に生成された親水基により親水性を有する親水部を形成するステップと、
   前記基板の表面に形成された疎水性を有する凸状部に、検出対象である生体高分子と結合する特異性生体高分子が固定される疎水部を形成するステップと
   を含むことを特徴とする分析用基板の製造方法。
4. 基板と、前記基板の表面に形成された凹状部及び凸状部とを備え、前記凹状部は前記基板の表面に生成された親水基により親水性を有する親水部を構成し、前記凸状部は疎水性を有し、検出対象である生体高分子と結合する特異性生体高分子が固定される疎水部を構成する分析用基板を再生する光ディスクドライブと、
   前記光ディスクドライブが前記分析用基板を再生することによって生成される再生信号に基づいて、前記検出対象の存在を検出する検出装置と、
   を備えることを特徴とする基板分析装置。
5. 前記検出対象はビーズによって修飾され、前記検出装置は、前記ビーズの存在を検出することによって間接的に前記検出対象の存在を検出する
   ことを特徴とする請求項４記載の基板分析装置。

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