JP2016058119A - 磁気記録媒体用アルミニウム基板、およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、アルミニウム板と、その表面に成膜された皮膜とを有する磁気記録媒体用アルミニウム基板であって、前記皮膜は、前記アルミニウム板側から順に陽極酸化膜、SiO2膜を含む積層膜であり、且つ前記陽極酸化膜の膜厚は7μm以上、45μm以下、前記SiO2膜の膜厚は、1μm以上、5μm以下であることに要旨を有する。
【選択図】図1
Description
アルミニウム板は陽極酸化膜表面に上記無機ポリシラザン含有液を塗工した後、或いは更に乾燥させた後、電気炉などの加熱炉に挿入し、加熱して無機ポリシラザンをシリカ転化させてSiO2を主体とする硬質なSiO2膜を成膜する。
実験1では耐疵付き性について評価した。アルミニウム板として5D86合金を用いた。5D86合金の組成は、Si:0.015%、Fe:0.02%、Cu:0.04%、Mg:4.00%、Zn:0.15%、残部:Alおよび不可避的不純物からなるアルミニウム合金である。このアルミニウム合金を冷間圧延した後、打ち抜き加工を行い、外径65mm、内径20mm、厚さ約0.65mmの円盤状ディスクを作製した。これをPVA砥石で研削し、圧延による変質層を除去した。研削加工には、Speed Fam製16B両面加工機を使用し、研削圧力:80gf/cm2、摺動速度:80cm/秒で行い、面あたりの除去量:約20μm程度とし、研磨後のアルミニウム板の厚さが0.61〜0.62mmになるように設定して、試験用のアルミニウム板を作製した。
陽極酸化処理条件
陽極酸化処理液:シュウ酸溶液30g/L
処理液温度:30℃
電解電圧:40V
陽極酸化膜の膜厚は、渦電流式膜厚計を用いて測定した。測定は、同一の箇所を5回測定し、その平均値を該箇所の厚みとし、試料の5箇所を測定し、その平均を陽極酸化膜の膜厚(μm)として表の「陽極酸化膜(μm)」欄に記載した。
SiO2膜の膜厚は、nanometrics社製nanospec/AFTmodel5100を用いて測定した。測定は、同一の箇所を5回測定し、その平均値を該箇所の厚みとし、試料の5箇所を測定し、その平均をSiO2膜の膜厚(μm)として表の「SiO2膜(μm)」欄に記載した。
耐疵付き性の評価は、新東科学社製Type18の連続荷重式引掻強度試験機を用いて測定した。測定は、先端にR加工を施し、圧子に半径0.1mmのダイヤモンド球を用いた円錐型引掻針に、50gの荷重を負荷して、試験片表面を10mm走引した。走引後、試験片表面の圧子痕の深さを、キーエンス社製VP−9510型レーザー顕微鏡で測定して表の「疵深さ(μm)」欄に記載した。評価は従来技術のNi−Pめっきアルミ基板であるNo.8の疵深さを比較して耐疵付き性の優劣を評価した。
実験2では上記実験1と同様にして陽極酸化膜、SiO2膜を形成した試料の平滑性について評価した。上記実験1と同様にして陽極酸化膜を成膜して得られた陽極酸化膜の膜厚を測定し、表の「陽極酸化膜(μm)」欄に記載した。同様に陽極酸化膜上にSiO2膜を成膜して得られたSiO2膜の膜厚を測定し、表の「SiO2膜(μm)」欄に記載した。またSiO2膜の表面平滑性を下記基準で測定し、「表面粗度(nm)」欄に記載した。なお、No.2−11〜2−16はSiO2膜を成膜しなかった例である。
SiO2膜の平滑性はセイコーインスツル社製のSPI−4000型AFM(AtomicForceMiNo.2−1croscope)で10ミクロン視野を観察した際の平均面粗さ(Ra:nm)で表面粗さを評価した。Raが1.0nm以下を平滑性に優れると評価した。
実験3ではSiO2膜製膜時のレベリング効果について確認した。上記実験1と同様にして10μmの陽極酸化膜を形成した後、所定の膜厚のSiO2膜を形成した試料を作製した。なお、No.3−1はSiO2膜を形成しなかった。各試料の測定側表面に膜厚1000ÅとなるようにAu膜を蒸着させてから、倍率150倍の光学顕微鏡でピットの有無を観察した。その際の顕微鏡写真を図2A、3A、4Aに示す。更にキーエンス社製VP−9510型レーザー顕微鏡で測定してピットの有無と表面平滑性について評価した。その際の形状チャートを図2B、3B、4Bに示す。
2 陽極酸化膜
3 SiO2膜
Claims (3)
- アルミニウム板と、その表面に成膜された皮膜とを有する磁気記録媒体用アルミニウム基板であって、
前記皮膜は、前記アルミニウム板側から順に陽極酸化膜、およびSiO2膜を含む積層膜であり、且つ
前記陽極酸化膜の膜厚は7μm以上、45μm以下、
前記SiO2膜の膜厚は、1μm以上、5μm以下であることを特徴とする磁気記録媒体用アルミニウム基板。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体用アルミニウム基板を製造する方法であって、前記アルミニウム板に前記陽極酸化膜を成膜する工程と、
前記陽極酸化膜の表面に無機ポリシラザン含有溶液を塗布した後、加熱してSiO2に転化する工程と、
を含むことを特徴とする磁気記録媒体用アルミニウム基板の製造方法。 - 前記陽極酸化膜はシュウ酸溶液により作製されたものである請求項2に記載の製造方法。
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