JP2016051872A - 研削装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下面洗浄手段(38)は、ウェーハ(11)の上面(11a)を吸引保持するウェーハ保持手段(36)と、ウェーハ保持手段に保持されたウェーハの径方向に延在し、ウェーハの下面(11b)に接触するブラシ(88)と、洗浄液(B)を上方に噴射するノズル(92)と、径方向と直交する回転軸でブラシ及びノズルを回転させる回動基台(90)と、を有し、ノズルは、ブラシの回転方向(A)前側に隣接し、回転方向後側に隣接するブラシの上端近傍に向けて洗浄液を噴射する構成とした。
【選択図】図6
Description
4 基台
4a 上面
4b 開口
6 カバー
8a,8b カセット載置台
10a,10b カセット
12 第1の搬送ユニット
14 搬送アーム
16 保持ハンド
18 中心位置検出ユニット
20 電装系ボックス
20a 側壁(右側壁)
20b 後壁
22 第2の搬送ユニット
24 ガイドレール
26 X軸移動プレート
28 X軸ボールネジ
30 Z軸移動プレート
32 Z軸ボールネジ
34 搬送アーム
36 吸着パッド(ウェーハ保持手段)
36a 吸着面(下面)
38 下面洗浄ユニット(下面洗浄手段)
40 チャックテーブル
42 ターンテーブル
44 研削ユニット
46 支持構造
48 スピンドルハウジング
50 スピンドル
52 ホイールマウント
54 研削ホイール
56 ホイール基台
58 研削砥石
60 ハイトセンサー
62 上面洗浄ユニット
64 第3の搬送ユニット
66 ガイド構造
68 X軸移動プレート
70 X軸ボールネジ
72 Z軸移動プレート
74 Z軸ボールネジ
76 搬送アーム
78 吸着パッド
80 両面洗浄ユニット
82 ドレッサーボード待機台
84 ドレッサーボード搬送ユニット
86 筐体
88 ブラシ
90 回転基台
92 ノズル
A 方向(回転方向)
B 洗浄液
Claims (1)
- ウェーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウェーハの上面を研削する研削手段と、該研削手段で研削する前又は後にウェーハの下面を洗浄する下面洗浄手段と、を備えた研削装置であって、
該下面洗浄手段は、
ウェーハの該上面を吸引保持するウェーハ保持手段と、
該ウェーハ保持手段に保持されたウェーハの径方向に延在し、ウェーハの下面に接触するブラシと、
洗浄液を上方に噴射するノズルと、
該径方向と直交する回転軸で該ブラシ及び該ノズルを回転させる回動基台と、を有し、
該ノズルは、該ブラシの回転方向前側に隣接し、該回転方向後側に隣接する該ブラシの上端近傍に向けて該洗浄液を噴射することを特徴とする研削装置。
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JPWO2020039803A1 (ja) * | 2018-08-23 | 2021-08-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム |
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JP6366431B2 (ja) | 2018-08-01 |
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