JP2016050293A - ハイパーブランチポリアミド及びこれを含む膜形成用組成物 - Google Patents
ハイパーブランチポリアミド及びこれを含む膜形成用組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016050293A JP2016050293A JP2014177995A JP2014177995A JP2016050293A JP 2016050293 A JP2016050293 A JP 2016050293A JP 2014177995 A JP2014177995 A JP 2014177995A JP 2014177995 A JP2014177995 A JP 2014177995A JP 2016050293 A JP2016050293 A JP 2016050293A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- hyperbranched polyamide
- hyperbranched
- methyl
- hours
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 0 CN(*)c1nc(N(*)[Al])nc(N(*)*)n1 Chemical compound CN(*)c1nc(N(*)[Al])nc(N(*)*)n1 0.000 description 1
Landscapes
- Polyamides (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
Description
1.下記式(1)で表される構造単位を含有することを特徴とするハイパーブランチポリアミド。
R5及びR6は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し(ただし、R5及びR6の少なくとも一方は、アルキル基又はアリール基である。);
Ar1及びAr2は、それぞれ独立に炭素数6〜20のアリーレン基を表す。]
2.Ar1及びAr2がフェニレン基である1のハイパーブランチポリアミド。
3.R1〜R4が、水素原子である1又は2のハイパーブランチポリアミド。
4.R5が水素原子であり、R6がフェニル基である1〜3のいずれかのハイパーブランチポリアミド。
5.R5及びR6がともにフェニル基である1〜3のいずれかのハイパーブランチポリアミド。
6.ベンゼントリカルボン酸末端又はジアミン末端が、末端封止化合物によって封止されている1〜5のいずれかのハイパーブランチポリアミド。
7.末端封止化合物が、アニリン又は塩化ベンゾイルである6のハイパーブランチポリアミド。
8.1〜7のいずれかのハイパーブランチポリアミドを含む膜形成用組成物。
9.1〜7のいずれかのハイパーブランチポリアミドを含む膜。
10.基材と、この基材上に形成された9の膜とを備える電子デバイス。
11.基材と、この基材上に形成された9の膜とを備える光学部材。
本発明のハイパーブランチポリアミドは、下記式(1)で表される構造単位を含むものである。
本発明のハイパーブランチポリアミドは、例えば、下記スキーム1に示されるように、式(2)で表されるベンゼントリカルボン酸と式(3)で表されるジアミンとを、トリアジン系縮合剤4−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン−2−イル)−4−メチルモルホリニウムクロリド(DMT−MM)を用いて、適当な有機溶媒中で直接重縮合させて得ることができる。
本発明のハイパーブランチポリアミドは、有機溶媒に対する溶解性に優れているため、各種の溶剤に溶かした膜形成用組成物(ポリマーワニスともいう。)として好適に使用できる。
(1)1H−NMR、13C−NMR:BRUKER社製DRX400
(2)FT−IR:日本分光(株)製FT/IR-4200 type A
(3)元素分析:ヤナコテクニカルサイエンス(株)製MT-6 CHN CORDER
(4)GPC:東ソー(株)製高速GPCシステムHLC-8220GPC(カラム:東ソーTSK-GEL(α−M)、カラム温度:45℃、検出器:UV-8020、波長254nm、溶離液:N−メチル−2−ピロリドン(NMP)(0.01mol/L臭化リチウムを含む。)、検量線:標準ポリスチレン、カラム流速:0.2mL/min)
(5)示差走査熱量測定(DSC):(株)日立ハイテクサイエンス製X-DSC 7000
(6)熱重量分析(TG/DTA):(株)日立ハイテクサイエンス製TG/DTA 7300
(7)紫外可視分光光度計:(株)島津製作所製UV-1800
(8)屈折率測定:ジェー・エー・ウーラム・ジャパン(株)製多入射角分光エリプソメーターVASE
反応終了後、反応混合物を分液ロートに移し、飽和食塩水500mLで3回洗浄した。有機相を1,000mLの三角フラスコに移し、無水硫酸ナトリウムを加え、一晩脱水させた。自然ろ過により硫酸ナトリウムを取り除き、ろ液(THF)をエバポレーターにより留去した。80℃で12時間減圧乾燥し、粗生成物を淡黄色固体として得た。
粗生成物をトルエン/ヘキサン混合溶媒(トルエン/ヘキサン=2/1)を用いて再結晶を行い、得られた結晶を80℃で12時間減圧乾燥することで、淡黄色固体のAnTDCを得た(収量:56.1g、収率:77%)。融点は134℃であった。1H−NMR、13C−NMR及びFT−IRの測定結果を以下に示す。
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6, ppm ) : δ 7.19(t, 1H, Ar-H), 7.40(t, 2H, Ar-H), 7.60(d, 2H, Ar-H), 11.13(s, 1H, NH).
13C-NMR (101 MHz, DMSO-d6, ppm): δ 121.0, 125.8, 129.2, 135.6, 164.0, 170.1, 171.3.
FT-IR (KBr, cm-1): 3371(N-H), 1604(C=C), 1556 (C=N), 1221(C-N).
反応終了後、反応混合物を吸引ろ過しトリエチルアミン塩酸塩を取り除いた後、ろ液からTHFをエバポレーターで除去した。淡黄色固体をトルエン300mLに溶解させ、蒸留水500mLを用いて3回洗浄した。この有機層を500mLの三角フラスコに移し、無水硫酸ナトリウムで一晩かけて脱水した。ろ過により硫酸ナトリウムを除去した後、エバポレーターによりトルエンを留去し、淡黄色の粗結晶を得た。
粗生成物をトルエン/ヘキサン混合溶媒(トルエン/ヘキサン=2/1)で再結晶を行い、得られた結晶を80℃で12時間減圧乾燥させることで淡黄色固体のPTDCを得た(収量:28.5g、収率:30%)。融点は176℃であった。1H−NMR、13C−NMR及びFT−IRの測定結果を以下に示す。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3,TMS, ppm): δ 7.27(d, 4H, o-Ar-H), 7.32(t, 2H, p-Ar-H), 7.42(t, 4H, m-Ar-H).
13C-NMR (101 MHz, CDCl3, TMS, ppm): δ 127.0, 127.4, 129.3, 141.4, 165.7, 170.4.
FT-IR (KBr, cm-1): 3051(Ar-H), 1550(C=N), 1497(C=C), 1200(C-N).
反応混合物を3Lの熱水(70℃程度)で4回、蒸留水で2回洗浄した。反応混合物をろ過により回収した後、アセトン500mLに溶解し、活性炭をスパチュラで1杯加え、還流温度で30分攪拌して脱色し、不溶分をろ過した。ろ液のアセトンをエバポレーターにより留去し、95℃で一晩減圧乾燥した。
粗生成物を1,4−ジオキサン/ヘキサンの混合溶媒(1,4−ジオキサン/ヘキサン=5/1)を用いて2回再結晶を行い精製した。得られた粉末を80℃で3時間減圧乾燥し、更に粉末を十分に砕いてから170℃で6時間減圧乾燥することで、淡褐色固体のATDAを得た(収量:18.5g、収率:80%)。ATDAの融点は224℃であった。1H−NMR、13C−NMR、FT−IR及び元素分析の測定結果を以下に示す。
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6,TMS, ppm): δ 4.79(s, 4H, NH2), 6.51(d, 4H, Ar-H), 6.93(t, 1H, Ar-H), 7.22(t, 2H, Ar-H), 7.33(d, 4H, Ar-H), 7.78(d, 2H, Ar-H), 8.64(s, 2H, NH), 8.95(s, 1H, NH).
13C-NMR (101 MHz, DMSO-d6,TMS, ppm ): δ 113.7, 120.2, 121.4, 122.6, 128.2, 129.0, 140.4, 144.1, 164.0, 164.2.
FT-IR (KBr, cm-1): 3391(N-H), 1624(C=C), 1578(C=N), 1519(C=C).
元素分析: Calcd. for C21H20N8 : C, 65.61%; H, 5.24%; N, 29.15%. found: C, 65.63%; H, 5.38%; N, 28.97%.
反応溶液を3Lの熱水に落とし、析出物を吸引ろ過により回収し、ろ液が無色透明になるまで数回熱水で洗浄した。その後、析出物を減圧乾燥し、水を除去した。
1,4−ジオキサン単一溶媒で再結晶を行って析出物を精製し、得られた粉末を80℃で3時間減圧乾燥し、更に粉末を十分に砕いてから150℃で6時間、180℃で2時間、210℃で1時間減圧乾燥することで、淡褐色固体のPTDAを得た(収量:13.3g、収率:72%)。PTDAの融点は261℃であった。1H−NMR、13C−NMR、FT−IR及び元素分析の測定結果を以下に示す。
1H-NMR (400 MHz, DMSO-d6, ppm): δ 4.67(s, 4H, NH2), 6.32(d, 4H, Ar-H), 7.07-7.41(m, 14H, Ar-H), 8.58(s, 2H, NH).
13C-NMR (101 MHz, DMSO-d6, ppm): δ 113.5, 121.2, 125.2, 128.1, 128.5, 129.2, 143.2, 144.0, 163.5, 166.0.
FT-IR (KBr, cm-1): 3410(N-H), 1615(C=C), 1577(C=N), 1504(C=C).
元素分析:Calcd. for C27H24N8 : C, 70.42%; H, 5.25%; N, 24.33%. found: C, 70.56%; H, 5.35%; N, 24.41%.
水浴で室温まで冷却し、反応溶液を500mLのナスフラスコに移し、エバポレーターにてメタノールを留去した。ナスフラスコ中の白色固体を酢酸エチル200mLに溶解させ、1Lの分液ロートに移し、水400mLで3回洗浄を行った。有機相を300mLの三角フラスコに入れ、有機相を無水硫酸ナトリウムで一晩脱水した後、自然ろ過にて硫酸ナトリウムを除去し、酢酸エチルをエバポレーターにて留去した。
得られた粗生成物をヘキサンで再結晶し、室温で6時間減圧乾燥して白色固体であるCDMTを得た(収量:37.0g、収率:84%)。1H−NMR、13C−NMR、FT−IR及び元素分析の測定結果を以下に示す。
1H-NMR (400 MHz, CDCl3-d, ppm):δ 4.06(s, 6H, OCH3).
13C-NMR (101 MHz, CDCl3-d, ppm):δ 56.0(OCH3), 172.5(N=C-O), 172.6(N=C-Cl).
FT-IR (KBr, cm-1): 2949(C-H), 1560 (C=N), 1363(N-C), 808(C-Cl).
元素分析: Calcd. for(C5H6ClN3O2);C 34.20%, H 3.44%, N 23.93, found;C 34.03%, H 3.52%, N 23.61%.
反応溶液中に析出した沈殿物を吸引濾過にて回収し、室温で1時間減圧乾燥することでDMT−MMの粗生成物を無色固体として得た。
メタノール/ジエチルエーテル混合溶媒(メタノール/ジエチルエーテル=1/3)で再結晶を行って粗生成物を精製し、室温で一晩減圧乾燥することで、無色固体のDMT−MMを得た(収量:7.89g、収率:50%)。DMT−MMの融点は115〜116℃であった。1H−NMR、FT−IR及び元素分析の測定結果を以下に示す。
1H-NMR (400 MHz, MeOD-d4, TMS, ppm): 3.53(s, 3H), 3.81-3.93(m, 4H), 4.06(m, 2H), 4.18(s, 6H), 4.53(m, 2H)
FT-IR (KBr, cm-1): 2987(C-H), 1540(C=N), 1376(N-C), 1131(C-O).
元素分析: Calcd. for C10H17ClN4 O3: C, 43.40%; H, 6.19%; N, 20.25%. found: C, 43.12%; H, 6.20%; N, 20.08%.
反応終了後、反応溶液を500mLの酸性に調整したメタノール(pH5)に投入し、吸引ろ過により沈殿物を回収した。回収した沈殿物を300mLのメタノールで中性になるまで洗浄後、室温で一晩減圧乾燥を行った。乾燥後、4mLのNMPに溶解させ、メタノールで再沈殿を行った。析出したポリマーを吸引ろ過で回収し、室温で一晩減圧乾燥を行うことで、淡黄色粉末のカルボン酸末端ハイパーブランチポリアミドAHBPA−C(収量:0.402g、収率:72%)を得た。1H−NMR測定の結果、HBPAの分岐度は0.5程度であった。FT−IR及びGPCの測定結果を以下に示す。
FT-IR(KBr, cm-1): 3283(N-H), 3061(Ar-H), 1663(C=O, amido group), 1542(C=N), 1508(C=C), 1406(N-C).
GPC: Mn=7,500、Mw=35,000、Mw/Mn=4.7
FT-IR(KBr, cm-1): 3283(N-H), 3061(Ar-H), 1663(C=O, amido group), 1543(C=N), 1509(C=C), 1406(N-C).
GPC: Mn=10,000、Mw=97,00、Mw/Mn=9.3
反応終了後、得られた溶液にアニリン0.279g(3.0mmol)を加えて、更に0℃で3時間反応させた。
反応溶液を500mLのメタノールに投入し、ポリマーを析出させた。析出したポリマーを吸引濾過で回収し、室温で一晩減圧乾燥を行った。乾燥後、ポリマーを4mLのNMPに溶解し、メタノールで再沈殿を行った。析出したポリマーを吸引濾過で回収し、室温で一晩減圧乾燥を行うことで、淡黄色粉末のアニリン末端ハイパーブランチポリアミドAHBPA−An(収量:0.323g、収率:51%)を得た。1H−NMR測定により末端封止が完了していることを確認した。FT−IR及びGPCの測定結果を以下に示す。
FT-IR(KBr, cm-1): 3287(N-H), 3060(Ar-H), 1660(C=O, amido group), 1549(C=N), 1514(C=C), 1411(N-C).
GPC: Mn=23,000、Mw=67,000、Mw/Mn=3.0
反応終了後、得られた溶液にアニリン0.279g(3.0mmol)を加えて、更に0℃で3時間反応させた。
反応溶液を500mLのメタノールに投入し、ポリマーを析出させた。析出したポリマーを吸引濾過で回収し、室温で一晩減圧乾燥を行った。乾燥後、ポリマーを4mLのNMPに溶解し、メタノールで再沈殿を行った。析出したポリマーを吸引濾過で回収し、室温で一晩減圧乾燥を行うことで、淡黄色粉末のアニリン末端ハイパーブランチポリアミドPHBPA−Anを得た(収量:0.440g、収率:62%)。1H−NMR測定により末端封止が完了していることを確認した。FT−IR及びGPCの測定結果を以下に示す。
FT-IR(KBr, cm-1): 3304(N-H), 3060(Ar-H), 1665(C=O, amido group), 1548(C=N), 1511(C=C), 1407(N-C).
GPC: Mn=26,000、Mw=99,000、Mw/Mn=3.8
反応終了後、少量のアンモニア水(5mL)により塩基性に調製した500mLのメタノールに投入し、沈殿物を吸引ろ過により回収した。更に、沈殿物を400mLのメタノールで洗浄後、中性であることを確認し、室温で12時間減圧乾燥を行った。乾燥後、前記沈殿物を5mLのNMPに溶解させ、メタノールで再沈殿を行った。析出したポリマーを吸引ろ過で回収し、室温で12時間減圧乾燥を行うことで、淡黄色粉末のアミン末端ハイパーブランチポリアミドAHBPA−Amを得た(収量:0.540g、収率:58%)。FT−IR及びGPCの測定結果を以下に示す。
FT-IR(KBr, cm-1): 3397(N-H), 1659(C=O, amido group), 1559(C=N), 1515(C=C), 1415(N-C).
GPC: Mn=10,000、Mw=21,000、Mw/Mn=2.1
FT-IR(KBr, cm-1): 3397(N-H), 3052(Ar-H), 1655(C=O, amido group), 1552(C=N), 1510(C=C), 1408(N-C).
GPC:Mn=8,000、Mw=22,000、Mw/Mn=2.6
反応終了後、得られた溶液に塩化ベンゾイル0.422g(3.0mmol)を加えて、更に0℃で3時間反応させた。
反応溶液を500mLのメタノールに投入し、ポリマーを析出させた。吸引濾過でポリマーを回収し、室温で12時間減圧乾燥を行った。乾燥後、回収したポリマーを4mLのNMPに溶解し、メタノールで再沈殿を行った。析出したポリマーを吸引濾過で回収し、室温で12時間減圧乾燥を行うことで、淡黄色粉末のベンゾイル基末端ハイパーブランチポリアミドAHBPA−Bを得た(収量:0.889g、収率:86%)。1H−NMR測定により、末端封止が完了していることを確認した。FT−IR及びGPCの測定結果を以下に示す。
FT-IR(KBr, cm-1): 3399(N-H), 3064(Ar-H), 1656(C=O, amido group), 1555(C=N), 1515(C=C), 1415(N-C).
GPC: Mn=11,000、Mw=24,000、Mw/Mn=2.2
反応終了後、得られた溶液に塩化ベンゾイル0.422g(3.0mmol)を加えて、更に0℃で3時間反応させた。
反応溶液を500mLのメタノールに投入し、ポリマーを析出させた。ポリマーを吸引濾過で回収し、室温で12時間減圧乾燥を行った。乾燥後、ポリマーを4mLのNMPに溶解し、メタノールで再沈殿を行った。析出したポリマーを吸引濾過で回収し、室温で12時間減圧乾燥を行うことで、淡黄色粉末のベンゾイル基末端ハイパーブランチポリアミドPHBPA−Bを得た(収量:0.749g、収率:63%)。1H−NMR測定により、末端封止が完了していることを確認した。FT−IR及びGPCの測定結果を以下に示す。
FT-IR(KBr, cm-1): 3397(N-H), 3060(Ar-H), 1653(C=O, amido group), 1551(C=N), 1513(C=C), 1408(N-C).
GPC: Mn=10,000、Mw=26,000、Mw/Mn=2.7
実施例1〜8で得られたポリマー(10mg)に5mLの各下記溶媒を加え、24時間室温で放置し、溶解しているかを目視にて確認した。また、室温で溶解しなかったものにつき、60℃になるまで加熱して、溶解するかを確認した。溶媒は精製せずに購入したものをそのまま使用した。結果を表1に示す。なお、用いた溶媒は以下のとおりである。
N−メチル−2−ピロリドン(NMP)
N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)
1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)
γ−ブチロラクトン(γ−BL)
テトラヒドロフラン(THF)
シクロペンタノン(CPN)
シクロヘキサノン(CHN)
実施例3〜8で得られたポリマーのガラス転移温度(Tg)を、DSCを用いて昇温速度20℃/minで測定した。また、各ポリマーの5%重量減少温度(Td5)、10%重量減少温度(Td10)を、TG/DTAを用いて、昇温速度10℃/min(空気下又は窒素気流下)で測定した。更に、窒素気流下、800℃における各ポリマーの炭化率(Char Yield)を測定した。結果を表2に示す。
実施例1〜8で得られた各ポリマー0.25gを蒸留したDMAc1gに溶解させて、20wt%のポリマーワニスを調製した。これを石英板に塗布して、50℃で1時間、100℃で12時間減圧乾燥させて、下記表3に示す膜厚のサンプルを作製した。各サンプルのカットオフ波長(λcutoff)及び80%透過波長(λ80%)を紫外可視分光光度計を用いて測定した。また、実施例3、4のポリアミドを用いて作製したサンプルのF線(486nm)、D線(587nm)及びC線(656nm)における屈折率(nF、nD、nC)を測定し、また、アッベ数(ν)を算出した。結果を表3に示す。
Claims (11)
- Ar1及びAr2がフェニレン基である請求項1記載のハイパーブランチポリアミド。
- R1〜R4が、水素原子である請求項1又は2のハイパーブランチポリアミド。
- R5が水素原子であり、R6がフェニル基である請求項1〜3のいずれか1項記載のハイパーブランチポリアミド。
- R5及びR6がともにフェニル基である請求項1〜3のいずれか1項記載のハイパーブランチポリアミド。
- ベンゼントリカルボン酸末端又はジアミン末端が、末端封止化合物によって封止されている請求項1〜5のいずれか1項記載のハイパーブランチポリアミド。
- 末端封止化合物が、アニリン又は塩化ベンゾイルである請求項6記載のハイパーブランチポリアミド。
- 請求項1〜7のいずれか1項記載のハイパーブランチポリアミドを含む膜形成用組成物。
- 請求項1〜7のいずれか1項記載のハイパーブランチポリアミドを含む膜。
- 基材と、この基材上に形成された請求項9記載の膜とを備える電子デバイス。
- 基材と、この基材上に形成された請求項9記載の膜とを備える光学部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014177995A JP6414812B2 (ja) | 2014-09-02 | 2014-09-02 | ハイパーブランチポリアミド及びこれを含む膜形成用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014177995A JP6414812B2 (ja) | 2014-09-02 | 2014-09-02 | ハイパーブランチポリアミド及びこれを含む膜形成用組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016050293A true JP2016050293A (ja) | 2016-04-11 |
JP6414812B2 JP6414812B2 (ja) | 2018-10-31 |
Family
ID=55658040
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014177995A Active JP6414812B2 (ja) | 2014-09-02 | 2014-09-02 | ハイパーブランチポリアミド及びこれを含む膜形成用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6414812B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018199774A (ja) * | 2017-05-26 | 2018-12-20 | 国立大学法人岩手大学 | トリアジン環含有ハイパーブランチポリアミド及びその製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008102680A1 (ja) * | 2007-02-19 | 2008-08-28 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | ハイパーブランチポリマー及びその製造方法 |
WO2010128661A1 (ja) * | 2009-05-07 | 2010-11-11 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 |
WO2012060268A1 (ja) * | 2010-11-01 | 2012-05-10 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 |
WO2012115216A1 (ja) * | 2011-02-24 | 2012-08-30 | 日産化学工業株式会社 | 芳香族ポリアミドおよびそれを含む膜形成用組成物 |
WO2014003092A1 (ja) * | 2012-06-29 | 2014-01-03 | 日産化学工業株式会社 | 芳香族ポリアミドおよびそれを含む膜形成用組成物 |
-
2014
- 2014-09-02 JP JP2014177995A patent/JP6414812B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008102680A1 (ja) * | 2007-02-19 | 2008-08-28 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | ハイパーブランチポリマー及びその製造方法 |
WO2010128661A1 (ja) * | 2009-05-07 | 2010-11-11 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 |
US20120049308A1 (en) * | 2009-05-07 | 2012-03-01 | Naoya Nishimura | Triazine ring-containing polymer and film-forming composition comprising same |
US20140008751A1 (en) * | 2009-05-07 | 2014-01-09 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Triazine ring-containing polymer and film-forming composition comprising same |
WO2012060268A1 (ja) * | 2010-11-01 | 2012-05-10 | 日産化学工業株式会社 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 |
EP2636697A1 (en) * | 2010-11-01 | 2013-09-11 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Triazine ring-containing polymer and film-forming composition containing same |
US20130289203A1 (en) * | 2010-11-01 | 2013-10-31 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Triazine ring-containing polymer and film-forming composition containing same |
WO2012115216A1 (ja) * | 2011-02-24 | 2012-08-30 | 日産化学工業株式会社 | 芳香族ポリアミドおよびそれを含む膜形成用組成物 |
WO2014003092A1 (ja) * | 2012-06-29 | 2014-01-03 | 日産化学工業株式会社 | 芳香族ポリアミドおよびそれを含む膜形成用組成物 |
US20150252147A1 (en) * | 2012-06-29 | 2015-09-10 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Aromatic polyamide and film-forming composition containing same |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018199774A (ja) * | 2017-05-26 | 2018-12-20 | 国立大学法人岩手大学 | トリアジン環含有ハイパーブランチポリアミド及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6414812B2 (ja) | 2018-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI532763B (zh) | A triazine-containing polymer and a film-forming composition containing the polymer | |
US8710174B2 (en) | Triazine ring-containing polymer and film-forming composition comprising same | |
JP5857963B2 (ja) | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 | |
TWI585124B (zh) | A film-forming composition | |
JP6011968B2 (ja) | トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの製造方法 | |
JP6940060B2 (ja) | トリアジン環含有ハイパーブランチポリアミド及びその製造方法 | |
JP6085975B2 (ja) | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 | |
JP6461844B2 (ja) | 芳香族ポリアミドおよびそれを含む膜形成用組成物 | |
JP6020469B2 (ja) | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 | |
JP5794235B2 (ja) | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 | |
JP6414812B2 (ja) | ハイパーブランチポリアミド及びこれを含む膜形成用組成物 | |
JP6699067B2 (ja) | 蛍光材料およびその利用 | |
JP2014169452A (ja) | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 | |
JP5573603B2 (ja) | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170822 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20170822 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180528 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180605 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20180801 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180815 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180904 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180925 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6414812 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |