JP2016047566A - 研磨パッド - Google Patents
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Abstract
【課題】曲面を有する被研磨物の表面のうねりを取り除くことが可能な研磨パッドを提供する。【解決手段】研磨パッド10は、硬質の樹脂層40で形成される研磨面30を有し、研磨面30を被研磨物の曲面に追従させる構造40、50を備える。研磨パッドの研磨面を被研磨物の曲面に追従させる構造は、例えば、研磨面を形成する硬質の樹脂層と、この硬質の樹脂層を支持する軟質の樹脂層とを含む2層構造であってよい。研磨面が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に、曲面に応じて軟質の樹脂層が歪むことによって硬質の樹脂層が撓み、研磨面が被研磨物の曲面に追従する。【選択図】図1
Description
本発明は、研磨パッドに関する。
曲面を有する被研磨物、例えば自動車等の車体塗装面を平滑化する加工方法として、バフ研磨加工が知られている(例えば特許文献1)。バフ研磨加工は、布製またはその他の材料で作られた研磨輪(バフ)の周囲(表面)に種々の研磨剤などを付けて回転させ、研磨対象物を研磨する方法である。
しかしながら、バフ研磨加工では被研磨物の表面のうねりを取り除くことができず、美しい表面仕上げを実現することが難しかった。
本発明は、曲面を有する被研磨物の表面のうねりを取り除くことが可能な研磨パッドを提供することを課題とする。
本発明は、曲面を有する被研磨物の表面のうねりを取り除くことが可能な研磨パッドを提供することを課題とする。
前記課題を解決するため、本発明の一態様に係る研磨パッドは、硬質の樹脂層で形成される研磨面を有し、この研磨面を被研磨物の曲面に追従させる構造を備える。
研磨面を被研磨物の曲面に追従させる上記の構造は、硬質の樹脂層を支持する軟質の樹脂層と、硬質の樹脂層とを含む2層構造であってよい。
研磨面には、溝が形成されていてもよい。この溝は、硬質の樹脂層を複数に分割してもよい。また、この溝は、軟質の樹脂層にも形成されてもよい。
研磨面を被研磨物の曲面に追従させる上記の構造は、硬質の樹脂層を支持する軟質の樹脂層と、硬質の樹脂層とを含む2層構造であってよい。
研磨面には、溝が形成されていてもよい。この溝は、硬質の樹脂層を複数に分割してもよい。また、この溝は、軟質の樹脂層にも形成されてもよい。
本発明によれば、曲面を有する被研磨物の表面のうねりを取り除くことが可能な研磨パッドを実現することができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
1.第1実施形態
第1実施形態においては、硬質の樹脂層で形成される研磨面を有する研磨パッドを用いて、曲面を有する被研磨物の表面を研磨する。この研磨パッドは、硬質の樹脂層で形成される研磨面を被研磨物の曲面に追従させる構造を備える。被研磨物は、例えば、曲面を有する樹脂塗装面であってよい。樹脂塗装面は、例えば、車両等の車体の塗装面であってよい。
1.第1実施形態
第1実施形態においては、硬質の樹脂層で形成される研磨面を有する研磨パッドを用いて、曲面を有する被研磨物の表面を研磨する。この研磨パッドは、硬質の樹脂層で形成される研磨面を被研磨物の曲面に追従させる構造を備える。被研磨物は、例えば、曲面を有する樹脂塗装面であってよい。樹脂塗装面は、例えば、車両等の車体の塗装面であってよい。
研磨パッドの研磨面を被研磨物の曲面に追従させる構造は、例えば、研磨面を形成する硬質の樹脂層と、この硬質の樹脂層を支持する軟質の樹脂層とを含む2層構造であってよい。研磨面が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に、曲面に応じて軟質の樹脂層が歪むことによって硬質の樹脂層が撓み、研磨面が被研磨物の曲面に追従する。
研磨パッドの研磨面を被研磨物の曲面に追従させる構造は、弾性部材を用いて硬質の樹脂層を支持することにより、研磨面が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に、弾性部材が歪み、研磨面を形成する硬質の樹脂層が曲面に応じて撓む構造であってもよい。
研磨パッドの研磨面を被研磨物の曲面に追従させる構造は、弾性部材を用いて硬質の樹脂層を支持することにより、研磨面が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に、弾性部材が歪み、研磨面を形成する硬質の樹脂層が曲面に応じて撓む構造であってもよい。
以下、第1実施形態に係る研磨パッドが、研磨面を形成する硬質の樹脂層と、この硬質の樹脂層を支持する軟質の樹脂層とを含む2層構造を有する場合について説明する。なお、以下の説明では、研磨面を形成する硬質の樹脂層を単に「硬質の樹脂層」と表記し、硬質の樹脂層を支持する軟質の樹脂層を単に「軟質の樹脂層」と表記する。
以下、第1実施形態を詳細に説明する。
1−1.研磨パッドについて
図1の(a)及び図1の(b)を参照する。研磨パッド10は、硬質の樹脂層40と、軟質の樹脂層50とを含む2層構造を有する。硬質の樹脂層40は、研磨パッド10の研磨面30を形成する。軟質の樹脂層50は、硬質の樹脂層40を支持し、かつ研磨面30が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に曲面に応じて歪む。このため、硬質の樹脂層40が曲面に沿って撓み、研磨面30が被研磨物の曲面に追従する。
1−1.研磨パッドについて
図1の(a)及び図1の(b)を参照する。研磨パッド10は、硬質の樹脂層40と、軟質の樹脂層50とを含む2層構造を有する。硬質の樹脂層40は、研磨パッド10の研磨面30を形成する。軟質の樹脂層50は、硬質の樹脂層40を支持し、かつ研磨面30が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に曲面に応じて歪む。このため、硬質の樹脂層40が曲面に沿って撓み、研磨面30が被研磨物の曲面に追従する。
1−2.硬質の樹脂層について
硬質の樹脂層40の硬度は、JIS K 6253に準じたA硬度で50度以上であることが好ましく、60度以上であることがより好ましい。また、硬質の樹脂層40の硬度は、95度以下であることが好ましい。例えば、硬質の樹脂層40の硬度は、60度以上80度以下であることが好ましく、又は硬質の樹脂層40の硬度は、85度以上95度以下であることが好ましい。このような範囲であれば、研磨パッド10による被研磨物の曲面の研磨がならい研磨になりにくくなり、被研磨物の表面のうねりを取り除くことが可能になる。
硬質の樹脂層40の硬度は、JIS K 6253に準じたA硬度で50度以上であることが好ましく、60度以上であることがより好ましい。また、硬質の樹脂層40の硬度は、95度以下であることが好ましい。例えば、硬質の樹脂層40の硬度は、60度以上80度以下であることが好ましく、又は硬質の樹脂層40の硬度は、85度以上95度以下であることが好ましい。このような範囲であれば、研磨パッド10による被研磨物の曲面の研磨がならい研磨になりにくくなり、被研磨物の表面のうねりを取り除くことが可能になる。
硬質の樹脂層40の厚さは、特に限定されるものではないが3.0mm以下であることが好ましい。また、硬質の樹脂層40の厚さは0.5mm以上であることが好ましい。このような範囲であれば、研磨面30が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に硬質の樹脂層40が被研磨物の曲面に沿って撓みやすくなり、被研磨物の曲面に対する研磨面30の追従性が向上する。このため、被研磨物の表面形状のうねり成分を取り除くことができ、かつ研磨面30と曲面との接触面積が増えて研磨効率が向上する。
硬質の樹脂層40の材質は特に限定されず、上記の硬度を有する材質であればよい。硬質の樹脂層40の材質は、例えば、ポリウレタン発泡体又は不織布であってよい。硬質の樹脂層40の材質は、例えば、A硬度が60度以上80度以下の不織布であってもよく、A硬度が85度以上95度以下のポリウレタン発泡体であってもよい。
1−3.軟質の樹脂層について
軟質の樹脂層50の硬度は、JIS K 6253に準じたE硬度で30度以下であることが好ましい。このような範囲であれば、研磨面30が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に軟質の樹脂層50が歪みやすくなる。この結果、硬質の樹脂層40が被研磨物の曲面に沿って撓みやすくなり、被研磨物の曲面に対する研磨面30の追従性が向上する。このため、被研磨物の表面形状のうねり成分を取り除くことができ、かつ研磨面30と曲面との接触面積が増えて研磨効率が向上する。
軟質の樹脂層50の硬度は、JIS K 6253に準じたE硬度で30度以下であることが好ましい。このような範囲であれば、研磨面30が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に軟質の樹脂層50が歪みやすくなる。この結果、硬質の樹脂層40が被研磨物の曲面に沿って撓みやすくなり、被研磨物の曲面に対する研磨面30の追従性が向上する。このため、被研磨物の表面形状のうねり成分を取り除くことができ、かつ研磨面30と曲面との接触面積が増えて研磨効率が向上する。
軟質の樹脂層50の厚さは、特に限定されるものではないが5.0mm以上であることが好ましい。また、軟質の樹脂層50の厚さは、50mm以下であることが好ましい。このような範囲であれば、研磨面30が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に、軟質の樹脂層50の歪み量と硬質の樹脂層40の撓み量を確保することができる。
軟質の樹脂層50の材質は、材質は特に限定されず、上記の硬度を有する材質であればよい。軟質の樹脂層50の材質は、例えば、ポリウレタン発泡体又はポリエチレン発泡体等の樹脂発泡体であってよい。
軟質の樹脂層50の材質は、材質は特に限定されず、上記の硬度を有する材質であればよい。軟質の樹脂層50の材質は、例えば、ポリウレタン発泡体又はポリエチレン発泡体等の樹脂発泡体であってよい。
1−4.第1実施形態の効果について
第1実施形態の研磨パッド10は、硬質の樹脂層40で形成される研磨面30を有する。このため、軟質の研磨面と比べて、被研磨物の表面の研磨がならい研磨になりにくい。この結果、被研磨物の表面形状のうねり成分を取り除くことができる。
また、第1実施形態の研磨パッド10は、研磨面30を被研磨物の曲面に追従させる構造を備える。このため、研磨面30が被研磨物の曲面に追従するので、被研磨物の表面形状のうねり成分を取り除くことができ、かつ曲面を有する被研磨物に接触する研磨面30の接触面積が増加することにより研磨効率が向上し、比較的大きな被研磨物の研磨に要する時間を短縮することができる。
第1実施形態の研磨パッド10は、硬質の樹脂層40で形成される研磨面30を有する。このため、軟質の研磨面と比べて、被研磨物の表面の研磨がならい研磨になりにくい。この結果、被研磨物の表面形状のうねり成分を取り除くことができる。
また、第1実施形態の研磨パッド10は、研磨面30を被研磨物の曲面に追従させる構造を備える。このため、研磨面30が被研磨物の曲面に追従するので、被研磨物の表面形状のうねり成分を取り除くことができ、かつ曲面を有する被研磨物に接触する研磨面30の接触面積が増加することにより研磨効率が向上し、比較的大きな被研磨物の研磨に要する時間を短縮することができる。
図2の(a)〜図2の(d)を参照する。図2の(a)は、研磨前の被研磨物の表面形状のプロファイルを模式的に示す。研磨前の表面形状は、比較的周波数が高い表面粗さ成分と比較的周波数が低いうねり成分とを有している。
図2の(b)は、バフ研磨加工後の被研磨物の表面形状のプロファイルを比較例として示す。バフ研磨加工では研磨布の硬度が比較的低く、ならい研磨になってしまう。このため、表面粗さ成分は取り除かれるが、うねり成分は研磨後も残る。
図2の(b)は、バフ研磨加工後の被研磨物の表面形状のプロファイルを比較例として示す。バフ研磨加工では研磨布の硬度が比較的低く、ならい研磨になってしまう。このため、表面粗さ成分は取り除かれるが、うねり成分は研磨後も残る。
図2の(c)は、第1実施形態の研磨パッド10による研磨後の被研磨物の表面形状のプロファイルを模式的に示す。硬質の樹脂層40によって研磨面30が形成されるので、被研磨物の表面の研磨がならい研磨になりにくい。このため、被研磨物の表面形状のうねり成分が取り除かれる。
研磨パッド10による研磨の後に、微細な表面粗さ成分を取り除く場合には、研磨パッド10による1次研磨の後に、表面粗さ成分を取り除くための2次研磨を行ってもよい。図2の(d)は、2次研磨後の被研磨物の表面形状のプロファイルを模式的に示す。研磨パッド10による研磨とそれに続く2次研磨により、被研磨物の表面の表面粗さとうねりの両方が取り除かれる。
研磨パッド10による研磨の後に、微細な表面粗さ成分を取り除く場合には、研磨パッド10による1次研磨の後に、表面粗さ成分を取り除くための2次研磨を行ってもよい。図2の(d)は、2次研磨後の被研磨物の表面形状のプロファイルを模式的に示す。研磨パッド10による研磨とそれに続く2次研磨により、被研磨物の表面の表面粗さとうねりの両方が取り除かれる。
2.第2実施形態
続いて、本発明の第2実施形態について説明する。第2実施形態に係る研磨パッドの研磨面には溝が形成される。研磨面に溝が形成されることにより研磨面が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に、研磨面が被研磨物の曲面に追従しやすくなる。
研磨面に形成される溝は、硬質の樹脂層を複数に分割する深さを有していてもよい。硬質の樹脂層が溝により分割されていることにより、研磨面が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に、曲面に応じて硬質の樹脂層が当接方向に変位することが可能になる。このため、研磨面が被研磨物の曲面に追従しやすくなる。
続いて、本発明の第2実施形態について説明する。第2実施形態に係る研磨パッドの研磨面には溝が形成される。研磨面に溝が形成されることにより研磨面が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に、研磨面が被研磨物の曲面に追従しやすくなる。
研磨面に形成される溝は、硬質の樹脂層を複数に分割する深さを有していてもよい。硬質の樹脂層が溝により分割されていることにより、研磨面が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に、曲面に応じて硬質の樹脂層が当接方向に変位することが可能になる。このため、研磨面が被研磨物の曲面に追従しやすくなる。
このような溝は、特に限定されるものではないが、例えば、硬質の樹脂層及び軟質の樹脂層を含む2層構造を形成した後に、エッチング等によって溝となる部分の樹脂層を取り除くことによって形成することができる。また、2層構造を形成した後に、高速回転する円形の切刃を所定量パッドに押し当てながら表面を走査することによって形成することができる。
硬質の樹脂層を複数に分割する溝は、軟質の樹脂層にも形成されていてもよい。軟質の樹脂層にも溝が形成されることによって、研磨面が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に硬質の樹脂層がより変位しやすくなり、研磨面30が被研磨物の曲面に追従しやすくなる。
硬質の樹脂層を複数に分割する溝は、軟質の樹脂層にも形成されていてもよい。軟質の樹脂層にも溝が形成されることによって、研磨面が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に硬質の樹脂層がより変位しやすくなり、研磨面30が被研磨物の曲面に追従しやすくなる。
2−1.溝の形態
図3の(a)及び図3の(b)を参照する。図1の(a)と同じ機能を有する構成要素には同一の符号を付してある。研磨パッド10の研磨面30には、第1溝31及び第2溝32が形成されている。第1溝31は、研磨面30上の第1方向に沿って延び、第2溝32は、第1方向に直交する研磨面30上の第2方向に沿って延びる。研磨面30に複数の第1溝31及び複数の第2溝32を形成することにより、研磨面30には溝が格子状に形成される。
図3の(a)及び図3の(b)を参照する。図1の(a)と同じ機能を有する構成要素には同一の符号を付してある。研磨パッド10の研磨面30には、第1溝31及び第2溝32が形成されている。第1溝31は、研磨面30上の第1方向に沿って延び、第2溝32は、第1方向に直交する研磨面30上の第2方向に沿って延びる。研磨面30に複数の第1溝31及び複数の第2溝32を形成することにより、研磨面30には溝が格子状に形成される。
第1溝31及び第2溝32の深さは、硬質の樹脂層40の厚さと同じであってよい。すなわち、第1溝31及び第2溝32によって硬質の樹脂層40は複数に分割されてよい。また、第1溝31及び第2溝32は硬質の樹脂層40のみに形成され、軟質の樹脂層50には形成されない。
第1溝31及び第2溝32の溝幅は、例えば0.5mm以上であることが好ましい。また、第1溝31及び第2溝32の溝幅は、例えば5.0mm以下であることが好ましい。このような範囲であれば、溝の形成による研磨面30と被研磨物との接触面積の減少を抑えながら、研磨面30が被研磨物の曲面に押し当てられた場合の硬質の樹脂層40の変位量を確保し研磨面30を撓みやすくすることができる。
第1溝31及び第2溝32の溝幅は、例えば0.5mm以上であることが好ましい。また、第1溝31及び第2溝32の溝幅は、例えば5.0mm以下であることが好ましい。このような範囲であれば、溝の形成による研磨面30と被研磨物との接触面積の減少を抑えながら、研磨面30が被研磨物の曲面に押し当てられた場合の硬質の樹脂層40の変位量を確保し研磨面30を撓みやすくすることができる。
第1溝31のピッチ及び第2溝32のピッチは、例えば5.0mm以上であることが好ましい。また、第1溝31のピッチ及び第2溝32のピッチは、例えば50mm以下であることが好ましい。
このような範囲であれば、溝の形成による研磨面30と被研磨物との接触面積の減少を抑えながら、研磨面30が被研磨物の曲面に押し当てられた場合の研磨面30の全体のたわみ量を確保することができる。
これらの溝幅及びピッチの寸法は、以下に説明する第1〜第3変形例でも同じである。
このような範囲であれば、溝の形成による研磨面30と被研磨物との接触面積の減少を抑えながら、研磨面30が被研磨物の曲面に押し当てられた場合の研磨面30の全体のたわみ量を確保することができる。
これらの溝幅及びピッチの寸法は、以下に説明する第1〜第3変形例でも同じである。
2−2.第1変形例について
図4の(a)を参照する。第1溝31及び第2溝32の深さは、硬質の樹脂層40の厚さよりも浅くてもよい。すなわち、第1溝31及び第2溝32によって硬質の樹脂層40は複数に分割されておらず、第1溝31及び第2溝32の部分の硬質の樹脂層40の厚さが他の部分の厚さよりも薄い。第1溝31及び第2溝32の部分の剛性が低下するので、硬質の樹脂層40が撓みやすくなる。このため、研磨面30が被研磨物の曲面に追従しやすくなる。
図4の(a)を参照する。第1溝31及び第2溝32の深さは、硬質の樹脂層40の厚さよりも浅くてもよい。すなわち、第1溝31及び第2溝32によって硬質の樹脂層40は複数に分割されておらず、第1溝31及び第2溝32の部分の硬質の樹脂層40の厚さが他の部分の厚さよりも薄い。第1溝31及び第2溝32の部分の剛性が低下するので、硬質の樹脂層40が撓みやすくなる。このため、研磨面30が被研磨物の曲面に追従しやすくなる。
2−3.第2変形例について
図4の(b)を参照する。第1溝31及び第2溝32の深さは、硬質の樹脂層40の厚さよりも深くてもよい。すなわち、第1溝31及び第2溝32は、硬質の樹脂層40及び軟質の樹脂層50に形成されていてもよい。したがって、硬質の樹脂層40を支持する軟質の樹脂層50の支持面51も第1溝31及び第2溝32によって分割される。分割された複数の硬質の樹脂層40は、分割された複数の支持面51によってそれぞれ支持される。
第1溝31及び第2溝32が軟質の樹脂層50にも形成されているので、軟質の樹脂層50の剛性が低下し、研磨面30が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に、曲面に応じて軟質の樹脂層50が歪みやすくなる。また、硬質の樹脂層40を支持する支持面51が分割されていることにより、支持面51間の拘束力が低下して、分割された硬質の樹脂層40同士が独立して変位しやすくなる。このため、当接方向における硬質の樹脂層50の変位量が大きくなり、研磨面30が被研磨物の曲面に追従しやすくなる。
図4の(b)を参照する。第1溝31及び第2溝32の深さは、硬質の樹脂層40の厚さよりも深くてもよい。すなわち、第1溝31及び第2溝32は、硬質の樹脂層40及び軟質の樹脂層50に形成されていてもよい。したがって、硬質の樹脂層40を支持する軟質の樹脂層50の支持面51も第1溝31及び第2溝32によって分割される。分割された複数の硬質の樹脂層40は、分割された複数の支持面51によってそれぞれ支持される。
第1溝31及び第2溝32が軟質の樹脂層50にも形成されているので、軟質の樹脂層50の剛性が低下し、研磨面30が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に、曲面に応じて軟質の樹脂層50が歪みやすくなる。また、硬質の樹脂層40を支持する支持面51が分割されていることにより、支持面51間の拘束力が低下して、分割された硬質の樹脂層40同士が独立して変位しやすくなる。このため、当接方向における硬質の樹脂層50の変位量が大きくなり、研磨面30が被研磨物の曲面に追従しやすくなる。
2−4.第3変形例について
図5の(a)及び図5の(b)を参照する。研磨面30には、第1溝31のみが形成され、第2溝32が形成されていない。研磨面30に複数の第1溝31を形成することにより、研磨面30には溝がストライプ状に形成される。
第1溝31の深さは、硬質の樹脂層40の厚さよりも深くてもよい。すなわち、第1溝31は、硬質の樹脂層40及び軟質の樹脂層50に形成されていてもよい。したがって、硬質の樹脂層40を支持する軟質の樹脂層50の支持面51も第1溝31によって分割される。分割された複数の硬質の樹脂層40は、分割された複数の支持面51によってそれぞれ支持される。なお、第1溝31の深さは、硬質の樹脂層40の厚さと同じでも浅くてもよい。
第2溝32を省略して研磨面30にストライプ状の溝を形成することにより、研磨面の強度を向上することができ、かつ溝を形成する工数が低減され低コスト化に資する。また、硬質の樹脂層40にも第1溝31を形成することにより、第2の方向に延びる第2溝32を形成しないことによる研磨面30の追従性の低下を軽減する。
図5の(a)及び図5の(b)を参照する。研磨面30には、第1溝31のみが形成され、第2溝32が形成されていない。研磨面30に複数の第1溝31を形成することにより、研磨面30には溝がストライプ状に形成される。
第1溝31の深さは、硬質の樹脂層40の厚さよりも深くてもよい。すなわち、第1溝31は、硬質の樹脂層40及び軟質の樹脂層50に形成されていてもよい。したがって、硬質の樹脂層40を支持する軟質の樹脂層50の支持面51も第1溝31によって分割される。分割された複数の硬質の樹脂層40は、分割された複数の支持面51によってそれぞれ支持される。なお、第1溝31の深さは、硬質の樹脂層40の厚さと同じでも浅くてもよい。
第2溝32を省略して研磨面30にストライプ状の溝を形成することにより、研磨面の強度を向上することができ、かつ溝を形成する工数が低減され低コスト化に資する。また、硬質の樹脂層40にも第1溝31を形成することにより、第2の方向に延びる第2溝32を形成しないことによる研磨面30の追従性の低下を軽減する。
3.研磨方法について
研磨パッド10を用いる研磨装置の構成や研磨方法は特に限定されるものではない。例えば、研磨パッド10は、ハンドポリッシャの先端に取り付けられて、曲面を有する被研磨物の表面を研磨する手作業に使用されてもよい。また、研磨パッド10は、以下に説明するような自動研磨装置による研磨処理に使用されてもよい。
研磨パッド10を用いる研磨装置の構成や研磨方法は特に限定されるものではない。例えば、研磨パッド10は、ハンドポリッシャの先端に取り付けられて、曲面を有する被研磨物の表面を研磨する手作業に使用されてもよい。また、研磨パッド10は、以下に説明するような自動研磨装置による研磨処理に使用されてもよい。
3−1.自動研磨装置の構成例
図6を参照する。自動研磨装置1は、ロボットアーム2と、研磨パッド10と、研磨工具4と、押付圧検出部5と、コントローラ7を備える。参照符号90は、被研磨物を示す。被研磨物90は、例えば、表面が樹脂塗装された自動車等の車体であってよい。ロボットアーム2は、複数の関節20、21及び22を有し、研磨パッド10、研磨工具4及び押付圧検出部5が取り付けられた先端部23を複数方向に移動させることができる。
図6を参照する。自動研磨装置1は、ロボットアーム2と、研磨パッド10と、研磨工具4と、押付圧検出部5と、コントローラ7を備える。参照符号90は、被研磨物を示す。被研磨物90は、例えば、表面が樹脂塗装された自動車等の車体であってよい。ロボットアーム2は、複数の関節20、21及び22を有し、研磨パッド10、研磨工具4及び押付圧検出部5が取り付けられた先端部23を複数方向に移動させることができる。
研磨工具4は、押付圧検出部5を介して先端部23に取り付けられ、内蔵する駆動手段により研磨面30に垂直な方向を回転軸として研磨パッド10を回転させる。コントローラ7は、ロボットアーム2の挙動と、研磨工具4による研磨パッド10の回転を制御する。図示しない研磨剤供給機構からは、研磨パッド10と被研磨物90との間に研磨剤が供給される。コントローラ7は、ロボットアーム2によって研磨パッド10を被研磨物90の表面に押付けて研磨パッド10を回転させることによって、被研磨物90の表面を研磨する。
押付圧検出部5は、被研磨物90に対する研磨面30の押圧力を検出する。コントローラ7は、押付圧検出部5による検出結果に基づいて研磨面30を被研磨物90に押し付ける力の調整を行ってもよい。コントローラ7は、被研磨物90に対する研磨面30の押圧力を一定にしたまま、被研磨物90の表面を研磨面30が移動するようにロボットアーム2を制御してもよい。
研磨パッド10による研磨の後に、微細な表面粗さ成分を取り除く場合には、表面粗さ成分を取り除くための2次研磨を行ってもよい。この場合には、研磨パッド10による研磨を行った後に、研磨工具4に取り付けられた研磨パッドを交換し、研磨パッド10よりも低い硬度を有する研磨パッドを用いて被研磨物90の表面を研磨する。
3−2.研磨剤について
上記の研磨方法において使用される研磨剤の例について説明する。
研磨剤としては、シリカ、アルミナ、セリア、チタニア、ジルコニア、酸化鉄及び酸化マンガン等のケイ素または金属元素の酸化物からなる粒子や、熱可塑性樹脂からなる有機粒子、又は有機無機複合粒子などから選ばれる砥粒を含むスラリーを用いることができる。
例えば研磨剤には、高研磨速度を可能にし、且つ容易に入手が可能であるアルミナスラリーを用いることが好ましい。
アルミナには、α−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナなどの結晶形態が異なるものがあり、また水和アルミナと呼ばれるアルミニウム化合物も存在する。研磨速度の観点からは、α−アルミナを主成分とするものが砥粒としてより好ましい。
上記の研磨方法において使用される研磨剤の例について説明する。
研磨剤としては、シリカ、アルミナ、セリア、チタニア、ジルコニア、酸化鉄及び酸化マンガン等のケイ素または金属元素の酸化物からなる粒子や、熱可塑性樹脂からなる有機粒子、又は有機無機複合粒子などから選ばれる砥粒を含むスラリーを用いることができる。
例えば研磨剤には、高研磨速度を可能にし、且つ容易に入手が可能であるアルミナスラリーを用いることが好ましい。
アルミナには、α−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナなどの結晶形態が異なるものがあり、また水和アルミナと呼ばれるアルミニウム化合物も存在する。研磨速度の観点からは、α−アルミナを主成分とするものが砥粒としてより好ましい。
砥粒の平均粒子径は0.1μm以上であることが好ましく、より好ましくは0.3μm以上である。平均粒子径が大きくなるにつれて、研磨速度は向上する。平均粒子径が上記の範囲内にある場合、研磨速度を実用上特に好適なレベルにまで向上させることが容易となる。
また、平均粒子径は、10.0μm以下であることが好ましく、より好ましくは5.0μm以下である。平均粒子径が小さくなるにつれて、研磨剤の分散安定性は向上し、研磨面のスクラッチ発生が抑制される。
平均粒子径が上記の範囲内にある場合、研磨剤の分散安定性と、研磨面の表面精度を実用上特に好適なレベルにまで向上させることが容易となる。なお、砥粒の平均粒子径は、細孔電気抵抗法(測定機:マルチサイザーIII型 ベックマン・コールター社製)により測定することができる。
また、平均粒子径は、10.0μm以下であることが好ましく、より好ましくは5.0μm以下である。平均粒子径が小さくなるにつれて、研磨剤の分散安定性は向上し、研磨面のスクラッチ発生が抑制される。
平均粒子径が上記の範囲内にある場合、研磨剤の分散安定性と、研磨面の表面精度を実用上特に好適なレベルにまで向上させることが容易となる。なお、砥粒の平均粒子径は、細孔電気抵抗法(測定機:マルチサイザーIII型 ベックマン・コールター社製)により測定することができる。
研磨剤中の砥粒の含有量は、好ましくは0.1質量%以上であり、より好ましくは0.2質量%以上であり、さらに好ましくは0.5質量%以上である。砥粒の含有量が多くなるにつれて、研磨速度は向上する。砥粒の含有量が上記の範囲内にある場合、研磨速度を実用上特に好適なレベルにまで向上させることが容易となる。
また、砥粒の含有量は、50質量%以下であることが好ましく、より好ましくは25質量%以下であり、さらに好ましくは20質量%である。砥粒の含有量が上記の範囲内にある場合、研磨剤のコストを抑えることができる。また、研磨剤を用いて研磨した後の研磨対象物の表面に表面欠陥が生じることをより抑えることができる。
また、砥粒の含有量は、50質量%以下であることが好ましく、より好ましくは25質量%以下であり、さらに好ましくは20質量%である。砥粒の含有量が上記の範囲内にある場合、研磨剤のコストを抑えることができる。また、研磨剤を用いて研磨した後の研磨対象物の表面に表面欠陥が生じることをより抑えることができる。
研磨剤は、上記砥粒の他、必要に応じて潤滑油、有機溶剤、界面活性剤、増粘材などの他の成分を適宜含んでもよい。
潤滑油は、合成油、鉱物油、植物性油脂又はそれらの組み合わせであってよい。
有機溶剤は、炭化水素系溶剤の他、アルコール、エーテル、グリコール類やグリセリン等であってよい。
界面活性剤は、いわゆるアニオン、カチオン、ノニオン、両性界面活性剤であってよい。
増粘材は、合成系増粘材、セルロース系増粘材、又は天然系増粘材であってよい
潤滑油は、合成油、鉱物油、植物性油脂又はそれらの組み合わせであってよい。
有機溶剤は、炭化水素系溶剤の他、アルコール、エーテル、グリコール類やグリセリン等であってよい。
界面活性剤は、いわゆるアニオン、カチオン、ノニオン、両性界面活性剤であってよい。
増粘材は、合成系増粘材、セルロース系増粘材、又は天然系増粘材であってよい
3−3.2次研磨について
2次研磨に用いる研磨パッドの硬度は、硬質の樹脂層40の硬度よりも低いことが好ましい。2次研磨に用いる研磨パッドの硬度は、例えば、A硬度で50度未満であることが好ましく、40度以下であることがより好ましい。また、2次研磨に用いる研磨パッドの硬度は、30度以上であることが好ましい。このような範囲であれば、被研磨物の表面の細かい表面粗さ成分を取り除くことが可能になる。
2次研磨に用いる研磨パッドの材質は特に限定されず、上記の硬度を有する材質であればよい。2次研磨に用いる研磨パッドの材質は、例えば、不織布又はスウェードであってよい。例えば、2次研磨に用いる研磨パッドの材質は、A硬度が30度以上40度以下のスウェードであってよい。
2次研磨に用いる研磨パッドの硬度は、硬質の樹脂層40の硬度よりも低いことが好ましい。2次研磨に用いる研磨パッドの硬度は、例えば、A硬度で50度未満であることが好ましく、40度以下であることがより好ましい。また、2次研磨に用いる研磨パッドの硬度は、30度以上であることが好ましい。このような範囲であれば、被研磨物の表面の細かい表面粗さ成分を取り除くことが可能になる。
2次研磨に用いる研磨パッドの材質は特に限定されず、上記の硬度を有する材質であればよい。2次研磨に用いる研磨パッドの材質は、例えば、不織布又はスウェードであってよい。例えば、2次研磨に用いる研磨パッドの材質は、A硬度が30度以上40度以下のスウェードであってよい。
2次研磨に用いる研磨パッドは、研磨パッド10と同様に2層構造を有していてもよい。すなわち、2次研磨に用いる研磨パッドは、研磨面を形成する比較的硬質な第1層と、第1層を支持する比較的軟質な第2層を含む2層構造を有していてもよい。
第1層の硬度は、研磨パッド10の硬質の樹脂層40の硬度よりも低いことが好ましい。第1層の硬度は、例えば、A硬度で50度未満であることが好ましく、40度以下であることがより好ましい。また、第1層の硬度は、30度以上であることが好ましい。
第1層の硬度は、研磨パッド10の硬質の樹脂層40の硬度よりも低いことが好ましい。第1層の硬度は、例えば、A硬度で50度未満であることが好ましく、40度以下であることがより好ましい。また、第1層の硬度は、30度以上であることが好ましい。
第1層の厚さは、3.0mm以下であることが好ましい。また、第1層の厚さは0.5mm以上であることが好ましい。このような範囲であれば、研磨面が被研磨物の曲面に押し当てられた場合に第1層が被研磨物の曲面に沿って撓みやすくなり、研磨面と曲面との接触面積が増えて研磨効率が向上する。
第1層の材質は特に限定されず、上記の硬度を有する材質であればよい。第1層の材質は、例えば、不織布又はスウェードであってよい。例えば、第1層の材質は、A硬度が30度以上40度以下のスウェードであってよい。
第2層の構成は、研磨パッド10の軟質の樹脂層50の構成と同様であってよい。
2次研磨に用いる研磨パッドの研磨面にも、第2実施形態に係る研磨パッド10と同様に溝が形成されてもよい。
第1層の材質は特に限定されず、上記の硬度を有する材質であればよい。第1層の材質は、例えば、不織布又はスウェードであってよい。例えば、第1層の材質は、A硬度が30度以上40度以下のスウェードであってよい。
第2層の構成は、研磨パッド10の軟質の樹脂層50の構成と同様であってよい。
2次研磨に用いる研磨パッドの研磨面にも、第2実施形態に係る研磨パッド10と同様に溝が形成されてもよい。
4.実施例
厚さ1.5mm、材質ポリウレタン発泡体及びA硬度90の硬質の樹脂層と、厚さ30.0mm、材質ポリウレタン発泡体及びE硬度20の軟質の樹脂層とを積層して研磨パッドを形成し、樹脂塗装面の研磨を行った。硬質の樹脂層には、幅2.0mm、ピッチ20.0mm、深さ3.0mmの格子状の溝を、2層構造を形成した後に高速回転する円形の切刃を所定量パッドに押し当てながら表面を走査することによって形成した。また、研磨剤としては、アルミナスラリーを使用した。
その結果、算術平均うねり(Wa)が0.05μm以下であり、ろ波最大うねり(Wcm)が0.3μm以下である平坦な光沢面の仕上がりを実現することができた。
厚さ1.5mm、材質ポリウレタン発泡体及びA硬度90の硬質の樹脂層と、厚さ30.0mm、材質ポリウレタン発泡体及びE硬度20の軟質の樹脂層とを積層して研磨パッドを形成し、樹脂塗装面の研磨を行った。硬質の樹脂層には、幅2.0mm、ピッチ20.0mm、深さ3.0mmの格子状の溝を、2層構造を形成した後に高速回転する円形の切刃を所定量パッドに押し当てながら表面を走査することによって形成した。また、研磨剤としては、アルミナスラリーを使用した。
その結果、算術平均うねり(Wa)が0.05μm以下であり、ろ波最大うねり(Wcm)が0.3μm以下である平坦な光沢面の仕上がりを実現することができた。
1 自動研磨装置
2 ロボットアーム
4 研磨工具
5 押付圧検出部
7 コントローラ
10 研磨パッド
30 研磨面
31 第1溝
32 第2溝
40 硬質の樹脂層
50 軟質の樹脂層
51 支持面
2 ロボットアーム
4 研磨工具
5 押付圧検出部
7 コントローラ
10 研磨パッド
30 研磨面
31 第1溝
32 第2溝
40 硬質の樹脂層
50 軟質の樹脂層
51 支持面
Claims (5)
- 硬質の樹脂層で形成される研磨面を有し、前記研磨面を被研磨物の曲面に追従させる構造を備える研磨パッド。
- 前記研磨面を前記被研磨物の前記曲面に追従させる前記構造は、前記硬質の樹脂層を支持する軟質の樹脂層と、前記硬質の樹脂層と、を含む2層構造であることを特徴とする請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記研磨面には、溝が形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の研磨パッド。
- 前記溝は、前記硬質の樹脂層を複数に分割することを特徴とする請求項3に記載の研磨パッド。
- 前記溝が、前記軟質の樹脂層にも形成されていることを特徴とする請求項4に記載の研磨パッド。
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Families Citing this family (2)
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---|---|---|---|---|
TW202023805A (zh) * | 2018-09-28 | 2020-07-01 | 日商福吉米股份有限公司 | 研磨墊及使用其的研磨方法 |
USD1004393S1 (en) * | 2021-11-09 | 2023-11-14 | Ehwa Diamond Industrial Co., Ltd. | Grinding pad |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11156699A (ja) * | 1997-11-25 | 1999-06-15 | Speedfam Co Ltd | 平面研磨用パッド |
JP2001038589A (ja) * | 1999-08-03 | 2001-02-13 | Speedfam Co Ltd | ワーク外周部用研磨装置 |
JP2002283220A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス物品の研磨装置 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5212910A (en) * | 1991-07-09 | 1993-05-25 | Intel Corporation | Composite polishing pad for semiconductor process |
WO1998049723A1 (en) * | 1997-04-30 | 1998-11-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of planarizing the upper surface of a semiconductor wafer |
TWI228768B (en) * | 2002-08-08 | 2005-03-01 | Jsr Corp | Processing method of polishing pad for semiconductor wafer and polishing pad for semiconductor wafer |
JP2005131720A (ja) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Toray Ind Inc | 研磨パッドの製造方法 |
US7169029B2 (en) * | 2004-12-16 | 2007-01-30 | 3M Innovative Properties Company | Resilient structured sanding article |
JP2008062367A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Nec Electronics Corp | 研磨装置、研磨パッド、研磨方法 |
JP5292958B2 (ja) * | 2007-07-18 | 2013-09-18 | 東レ株式会社 | 研磨パッド |
JPWO2013011922A1 (ja) * | 2011-07-15 | 2015-02-23 | 東レ株式会社 | 研磨パッド |
CN103782372A (zh) * | 2011-09-15 | 2014-05-07 | 东丽株式会社 | 研磨垫 |
JP6188286B2 (ja) * | 2012-07-13 | 2017-08-30 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 研磨パッド及びガラス、セラミックス、及び金属材料の研磨方法 |
TWI516373B (zh) * | 2014-01-17 | 2016-01-11 | 三芳化學工業股份有限公司 | 硏磨墊、硏磨裝置及製造硏磨墊之方法 |
JP2015150635A (ja) * | 2014-02-13 | 2015-08-24 | 株式会社東芝 | 研磨布および研磨布の製造方法 |
TWI597125B (zh) * | 2014-09-25 | 2017-09-01 | 三芳化學工業股份有限公司 | 拋光墊及其製造方法 |
US9630293B2 (en) * | 2015-06-26 | 2017-04-25 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Chemical mechanical polishing pad composite polishing layer formulation |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11156699A (ja) * | 1997-11-25 | 1999-06-15 | Speedfam Co Ltd | 平面研磨用パッド |
JP2001038589A (ja) * | 1999-08-03 | 2001-02-13 | Speedfam Co Ltd | ワーク外周部用研磨装置 |
JP2002283220A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス物品の研磨装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11498182B2 (en) | 2016-02-26 | 2022-11-15 | Fujimi Incorporated | Polishing method and polishing pad |
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