JP2016039293A - 粗化硬化体 - Google Patents
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【解決手段】樹脂組成物の硬化体を粗化処理して得られる粗化硬化体であって、該粗化硬化体の表面の算術平均粗さ(Ra)が500nm以下であり、該粗化硬化体の表面に無電解めっきしてめっき付き粗化硬化体を形成したとき、該めっき付き粗化硬化体表面に垂直な方向における該めっき付き粗化硬化体の断面において、めっきと粗化硬化体の界面を最小二乗法により直線化して得られた直線L1上にあるめっき領域の長さXと、直線L1と平行であり且つ直線L1から粗化硬化体の深さ方向に0.2μm離れている直線L2上にあるめっき領域の長さYとが、Y/X≦1の条件を満たす、粗化硬化体。
【選択図】図2
Description
[1] 樹脂組成物の硬化体を粗化処理して得られる粗化硬化体であって、
該粗化硬化体の表面の算術平均粗さ(Ra)が500nm以下であり、
該粗化硬化体の表面に無電解めっきしてめっき付き粗化硬化体を形成したとき、該めっき付き粗化硬化体表面に垂直な方向における該めっき付き粗化硬化体の断面において、めっきと粗化硬化体の界面を最小二乗法により直線化して得られた直線L1上にあるめっき領域の長さXと、直線L1と平行であり且つ直線L1から粗化硬化体の深さ方向に0.2μm離れている直線L2上にあるめっき領域の長さYとが、Y/X≦1の条件を満たす、粗化硬化体。
[2] 直線L1と平行であり且つ直線L1から粗化硬化体の深さ方向にZ(μm)離れている直線L3上にあるめっき領域の長さをY’とするとき、Y’/X≦0.05を満たすZの最小値が3以下である、[1]に記載の粗化硬化体。
[3] 樹脂組成物の硬化体を粗化処理して得られる粗化硬化体であって、
該粗化硬化体表面の凹凸の平均間隔(Sm)が2000nm以下である、粗化硬化体。
[4] 粗化硬化体の表面の算術平均粗さ(Ra)が200nm以下である、[1]〜[3]のいずれかに記載の粗化硬化体。
[5] 樹脂組成物の硬化体が、
樹脂組成物を温度T1にて熱硬化させる第1の熱硬化処理と、
第1の熱硬化処理後の樹脂組成物を温度T1よりも高い温度T2にて熱硬化させる第2の熱硬化処理と
を含む熱硬化処理により得られる、[1]〜[4]のいずれかに記載の粗化硬化体。
[6] 第1の熱硬化処理後の樹脂組成物の最低溶融粘度が11000ポイズ〜300000ポイズである、[5]に記載の粗化硬化体。
[7] 樹脂組成物が平均粒径0.01μm〜0.3μmの無機充填材を含む、[1]〜[6]のいずれかに記載の粗化硬化体。
[8] 樹脂組成物がナフトール系硬化剤及び活性エステル系硬化剤からなる群から選択される1種以上を含む、[1]〜[7]のいずれかに記載の粗化硬化体。
[9] [1]〜[8]のいずれかに記載の粗化硬化体と、該粗化硬化体の表面に形成された導体層とを含む積層体。
[10] 導体層が、配線ピッチ16μm以下の回路を含む、[9]に記載の積層体。
[11] [1]〜[8]のいずれかに記載の粗化硬化体により形成された絶縁層を含むプリント配線板。
[12] [11]に記載のプリント配線板を含む半導体装置。
本発明の粗化硬化体は、開口径が内部最大径と同じかそれよりも大きい微細な凹部を表面に有することを特徴とする。ここで、内部最大径とは、凹部の内部における最大径をいう。
本発明の粗化硬化体を形成するために使用する樹脂組成物は、その硬化体が十分な硬度と絶縁性を有すると共に、該硬化体を粗化処理して得られる粗化硬化体が上記所望の凹凸形状及び凹凸間隔を満たす限り特に限定されない。例えば、樹脂組成物としては、熱硬化性樹脂及び硬化剤を含む樹脂組成物が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、プリント配線板の絶縁層を形成する際に使用される従来公知の熱硬化性樹脂を用いることができ、中でもエポキシ樹脂が好ましい。したがって一実施形態において、樹脂組成物は、エポキシ樹脂及び硬化剤を含む。樹脂組成物は、必要に応じて、さらに、無機充填材、熱可塑性樹脂、硬化促進剤、難燃剤及び有機充填材等の添加剤を含んでいてもよい。なお、本発明において、「樹脂成分」とは、樹脂組成物を構成する成分のうち、無機充填材以外の成分をいう。
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリスフェノール型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、tert-ブチル-カテコール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、トリメチロール型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂等が挙げられる。エポキシ樹脂は1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
硬化剤としては、エポキシ樹脂を硬化する機能を有する限り特に限定されず、例えば、フェノール系硬化剤、ナフトール系硬化剤、活性エステル系硬化剤、ベンゾオキサジン系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤、及びカルボジイミド系硬化剤が挙げられる。硬化剤は1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
樹脂組成物は、無機充填材を含んでもよい。無機充填材を含むことにより、得られる粗化硬化体の熱膨張率を低く抑えることができる。
熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエステル樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は、1種単独で用いてもよく、又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
樹脂組成物層は、硬化促進剤を含んでもよい。
難燃剤としては、例えば、有機リン系難燃剤、有機系窒素含有リン化合物、窒素化合物、シリコーン系難燃剤、金属水酸化物等が挙げられる。難燃剤は、1種単独で用いてもよく、又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。樹脂組成物中の難燃剤の含有量は特に限定されないが、好ましくは0.5質量%〜10質量%、より好ましくは1質量%〜9質量%である。
有機充填材としては、プリント配線板の製造に際し使用し得る任意の有機充填材を使用してよく、例えば、ゴム粒子、ポリアミド微粒子、シリコーン粒子などが挙げられ、ゴム粒子が好ましい。
(A)樹脂組成物を熱硬化させて硬化体を形成する工程
(B)硬化体を粗化処理して粗化硬化体を形成する工程
(A1)支持体と、該支持体と接合している樹脂組成物からなる層とを含む接着フィルムを用いて、樹脂組成物層を設けること、及び
(A2)樹脂組成物層を熱硬化させて硬化体を得ること
を含む。なお、(A1)において樹脂組成物層を設ける対象(すなわち、内層基板)に関しては後述する。
本発明の積層体は、本発明の粗化硬化体と、該粗化硬化体の表面に形成された導体層とを含む。
本発明のプリント配線板は、本発明の粗化硬化体により形成された絶縁層を含むことを特徴とする。
本発明のプリント配線板を用いて、半導体装置を製造することができる。半導体装置としては、電気製品(例えば、コンピューター、携帯電話、デジタルカメラ及びテレビ等)及び乗物(例えば、自動二輪車、自動車、電車、船舶及び航空機等)等に供される各種半導体装置が挙げられる。
まず、本明細書での物性評価における測定・評価方法について説明する。
(1)回路基板の下地処理
回路を形成したガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板の厚さ0.4mm、パナソニック(株)製「R1515A」)の両面をマイクロエッチング剤(メック(株)製「CZ8100」)にて1μmエッチングして銅表面の粗化処理を行った。
実施例及び比較例で作製した接着フィルムから保護フィルムを剥離した。樹脂組成物層の露出した接着フィルムを、バッチ式真空加圧ラミネーター(ニチゴー・モートン(株)製2ステージビルドアップラミネーター「CVP700」)を用いて、樹脂組成物層が回路基板と接合するように、回路基板の両面に積層した。積層は、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とした後、100℃、圧力0.74MPaにて30秒間圧着させることにより実施した。次いで、積層された接着フィルムを、大気圧下、100℃、圧力0.5MPaにて60秒間熱プレスして平滑化した。
接着フィルムの積層後、樹脂組成物層を熱硬化させて、回路基板の両面に硬化体を形成した。その際、実施例1、2、4及び比較例1に関しては、支持体であるPETフィルムが付いた状態で樹脂組成物層を熱硬化させた。実施例3及び比較例2に関しては、支持体であるPETフィルムを剥離した後に樹脂組成物層を熱硬化させた。
条件1:150℃で(150℃のオーブンに投入後)30分間、次いで170℃で(170℃のオーブンに移し替えた後)30分間、熱硬化させた。その後、基板を室温雰囲気下に取り出した。
条件2:80℃で(80℃のオーブンに投入後)30分間、次いで175℃で(175℃のオーブンに移し替えた後)30分間、熱硬化させた。その後、基板を室温雰囲気下に取り出した。
条件3:100℃で(100℃のオーブンに投入後)30分間、次いで175℃で(175℃のオーブンに移し替えた後)30分間、熱硬化させた。その後、基板を室温雰囲気下に取り出した。
条件4:150℃で(150℃のオーブンに投入後)30分間、次いで170℃で(170℃のオーブンに移し替えた後)30分間、熱硬化させた。その後、2.5℃/分の降温プロファイルにて基板を室温(25℃)にまで戻した。
条件5:100℃で(100℃のオーブンに投入後)30分間、次いで175℃で(175℃のオーブンに移し替えた後)30分間、熱硬化させた。その後、基板を室温雰囲気下に取り出した。
支持体が付いた状態で熱硬化させた場合は、支持体を剥離した。硬化体の露出した基板を、膨潤液(アトテックジャパン(株)製「スエリングディップ・セキュリガントP」、ジエチレングリコールモノブチルエーテル及び水酸化ナトリウムを含有する水溶液)に60℃で5分間(実施例3及び比較例2)又は10分間(実施例1、2、4及び比較例1)、酸化剤(アトテックジャパン(株)製「コンセントレート・コンパクトCP」、KMnO4:60g/L、NaOH:40g/Lの水溶液)に80℃で20分間、最後に中和液(アトテックジャパン(株)製「リダクションソリューション・セキュリガントP」、硫酸水溶液)に40℃で5分間浸漬した後、80℃で30分間乾燥させて、回路基板の両面に粗化硬化体を形成した。得られた基板を「評価基板A」と称する。
セミアディティブ法に従って、粗化硬化体の表面に回路を形成した。
粗化硬化体の表面に無電解めっきした。無電解めっきは、アトテックジャパン(株)製薬液を使用して、以下の手順で実施した。厚さ1μmのめっきを形成した。得られた基板を「評価基板B」と称する。なお、評価基板Bは、回路基板の両面にめっき付き粗化硬化体が形成された基板である。
粗化硬化体表面を、「Cleaning Cleaner Securiganth 902」を用いて60℃で5分間洗浄した。
2.ソフトエッチング(洗浄)
アルカリクリーニング後の基板を、硫酸酸性ペルオキソ二硫酸ナトリウム水溶液を用いて、30℃で1分間処理した。
3.プレディップ(Pd付与のための粗化硬化体表面の電荷の調整)
次いで、基板を、「Pre. Dip Neoganth B」を用いて室温で1分間処理した。
4.アクティヴェーター(粗化硬化体表面へのPdの付与)
プレディップの後、基板を、「Activator Neoganth 834」を用いて35℃で5分間処理した。
5.還元(粗化硬化体に付与されたPdの還元)
次いで、基板を、「Reducer Neoganth WA」及び「Reducer Acceralator 810 mod.」の混合液を用いて30℃で5分間処理した。
6.無電解銅めっき(粗化硬化体表面(Pd表面)へのCu析出)
還元後、基板を、「Basic Solution Printganth MSK−DK」、「Copper solution Printganth MSK」、「Stabilizer Printganth MSK−DK」及び「Reducer Cu」の混合液を用いて35℃で20分間処理した。得られた基板を、150℃で30分間、加熱処理した。
無電解めっきの後、基板表面を5%硫酸水溶液で30秒間処理した。次いで、パターン形成用ドライフィルム(日立化成(株)製「フォテックRY−3600」、厚さ19μm)を、バッチ式真空加圧ラミネーター((株)名機製作所製「MVLP−500」)を用いて、基板の両面に積層した。積層は、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とした後、70℃、圧力0.1MPaで20秒間加圧して行った。
下記i)乃至vii)の櫛歯パターンを各10個有するガラスマスクを使用した。
i)L/S=4μm/4μm、すなわち配線ピッチ8μmの櫛歯パターン(配線長15mm、16ライン)
ii)L/S=5μm/5μm、すなわち配線ピッチ10μmの櫛歯パターン(配線長15mm、16ライン)
iii)L/S=6μm/6μm、すなわち配線ピッチ12μmの櫛歯パターン(配線長15mm、16ライン)
iv)L/S=7μm/7μm、すなわち配線ピッチ14μmの櫛歯パターン(配線長15mm、16ライン)
v)L/S=8μm/8μm、すなわち配線ピッチ16μmの櫛歯パターン(配線長15mm、16ライン)
vi)L/S=9μm/9μm、すなわち配線ピッチ18μmの櫛歯パターン(配線長15mm、16ライン)
vii)L/S=10μm/10μm、すなわち配線ピッチ20μmの櫛歯パターン(配線長15mm、16ライン)
作製例で作製した接着フィルムの樹脂組成物層について、動的粘弾性測定装置((株)ユー・ビー・エム製「Rheosol−G3000」)を使用して溶融粘度を測定した。試料樹脂組成物1gについて、直径18mmのパラレルプレートを使用して、開始温度60℃から200℃まで昇温速度5℃/分にて昇温し、測定温度間隔2.5℃、振動数1Hz、ひずみ1degの測定条件にて動的粘弾性率を測定し、最低溶融粘度(ポイズ)を測定した。作製直後(初期)の樹脂組成物層に関する最低溶融粘度V0と、上記〔測定・評価用基板の調製〕の(3)における第1の熱硬化処理後の樹脂組成物層に関する最低溶融粘度V1とを求めた。
評価基板Aについて、非接触型表面粗さ計(ビーコインスツルメンツ社製「WYKO NT3300」)を用いて、VSIコンタクトモード、50倍レンズにより測定範囲を121μm×92μmとして得られる数値によりRa及びSm値を求めた。それぞれ無作為に選んだ10点の平均値を求めることにより測定値とした。なお、Sm値は、Sm(x)とSm(y)の平均値とした。
評価基板Bについて、FIB−SEM複合装置(SIIナノテクノロジー(株)製「SMI3050SE」)を用いて、断面観察を行った。詳細には、評価基板Bの表面に垂直な方向における断面をFIB(集束イオンビーム)により削り出し、めっきと粗化硬化体の界面近傍の断面SEM画像(観察幅7.5μm、観察倍率x36000)を取得した。各サンプルにつき、無作為に選んだ10箇所の断面SEM画像を取得した。以下、断面SEM画像におけるめっき側を上側、粗化硬化体側を下側として評価手順を説明する。
直線L1は、粗化硬化体の凸部を基準として、めっきと粗化硬化体の界面を最小二乗法により直線化して求めた。詳細には、取得した断面SEM画像を幅1.5μmの区間に5等分し、各区間について最も上側に存在する粗化硬化体の位置を基準点として採用した。なお、「最も上側に存在する粗化硬化体の位置」とは、樹脂成分が最も上側に存在する場合は該樹脂成分の位置をいい、無機充填材が最も上側に存在する場合は該無機充填材の位置をいう。得られた5つの基準点を座標変換し、最小二乗法によりそれら5つの基準点に基づく近似直線、すなわち、直線L1を求めた。そして直線L1の0.2μm下側に直線L1と平行な直線を引き、直線L2を得た。取得した10箇所の断面SEM画像について、直線L1及びL2を得た。
取得した10箇所の断面SEM画像について、直線L1上にあるめっき領域の長さを合計して、長さXを得た。同様に、取得した10箇所の断面SEM画像について、直線L2上にあるめっき領域の長さを合計して、長さYを得た。なお、直線L1上に無機充填材が存在する場合、該無機充填材領域は長さXの算出にあたって以下のとおり扱った。該無機充填材の少なくとも一部が樹脂成分と接している場合、該無機充填材領域は粗化硬化体領域として扱った。他方、該無機充填材が樹脂成分と接しておらず、無電解めっきで覆われている場合、該無機充填材領域はめっき領域として扱った。直線L2上に無機充填材が存在する場合も同様に扱った。得られたX及びYを用いてY/X比を求めた。得られたY/X比は粗化硬化体表面の凹凸形状の指標であり、Y/X比が1以下であるとき、開口径が内部最大径と同じかそれよりも大きい凹部が表面に形成されていることを表し、Y/X比が1より大きいとき、開口径が内部最大径よりも小さい凹部が表面に形成されていることを表す。
取得した10箇所の断面SEM画像について、直線L1と平行であり且つ直線L1から粗化硬化体の深さ方向(下方向)にZ(μm)離れている直線L3上にあるめっき領域の長さの合計をY’とするとき、Y’が0となるZの最小値を求めた。
評価基板Cの上記i)乃至vii)の櫛歯パターンについて、回路の剥離の有無を光学顕微鏡にて確認すると共に、不要な無電解銅めっき層の残渣の有無を櫛歯パターンの絶縁抵抗を測定することで確認した。そして、櫛歯パターン10個のうち、9個以上について問題のなかった場合に合格と判定した。微細回路形成能は、合格と判定された最小のL/S比及び配線ピッチにより評価した。当該評価においては、合格と判定された最小のL/S比及び配線ピッチが小さいほど、微細回路形成能に優れることとなる。
ビスフェノール型エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、エポキシ当量約169、ビスフェノールA型とビスフェノールF型の1:1混合品)6部、ビキシレノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX4000HK」、エポキシ当量約185)10部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC3000L」、エポキシ当量269)5部、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「HP−7200HH」、エポキシ当量280)5部、及びフェノキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX7553BH30」、固形分30質量%のシクロヘキサノン:メチルエチルケトン(MEK)の1:1溶液)12部を、ソルベントナフサ30部に撹拌しながら加熱溶解させた。室温にまで冷却した後、そこへ、トリアジン骨格含有クレゾールノボラック系硬化剤(水酸基当量151、DIC(株)製「LA−3018−50P」、固形分50%の2−メトキシプロパノール溶液)10部、活性エステル系硬化剤(DIC(株)製「HPC8000−65T」、活性基当量約223、不揮発成分65質量%のトルエン溶液)10部、アミン系硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5質量%のMEK溶液)1.6部、イミダゾール系硬化促進剤(1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール(1B2PZ)、固形分5質量%のMEK溶液)1部、難燃剤(三光(株)製「HCA−HQ」、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10−ヒドロ−9−オキサ−10−フォスファフェナンスレン−10−オキサイド、平均粒径2μm)2部、アミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形シリカ((株)アドマテックス製「SO−C2」、平均粒径0.5μm、単位表面積当たりのカーボン量0.38mg/m2)130部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散した後に、カートリッジフィルター(ROKITECNO製「SHP050」)で濾過して、樹脂ワニス1を調製した。
ビスフェノールAF型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「YL7760」、エポキシ当量約238)10部、ビキシレノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX4000HK」、エポキシ当量約185)10部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC3000L」、エポキシ当量269)10部、及びフェノキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX7553BH30」、固形分30質量%のシクロヘキサノン:メチルエチルケトン(MEK)の1:1溶液)10部を、ソルベントナフサ25部に撹拌しながら加熱溶解させた。室温にまで冷却した後、そこへ、トリアジン骨格含有フェノールノボラック系硬化剤(水酸基当量125、DIC(株)製「LA−7054」、固形分60%のMEK溶液)5部、活性エステル系硬化剤(DIC(株)製「HPC8000−65T」、活性基当量約223、不揮発成分65質量%のトルエン溶液)15部、アミン系硬化促進剤(DMAP、固形分5質量%のMEK溶液)2部、アミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形シリカ((株)アドマテックス製「SO−C1」、平均粒径0.25μm、単位表面積当たりのカーボン量0.36mg/m2)100部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散した後に、カートリッジフィルター(ROKITECNO製「SHP030」)で濾過して、樹脂ワニス2を調製した。
ビスフェノール型エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型とビスフェノールF型の1:1混合品、エポキシ当量169)4部、ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「HP4032SS」、エポキシ当量約144)5部、ビキシレノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX4000HK」、エポキシ当量約185)10部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC3000L」、エポキシ当量269)10部、及びフェノキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX7553BH30」、固形分30質量%のシクロヘキサノン:メチルエチルケトン(MEK)の1:1溶液)10部を、ソルベントナフサ15部に撹拌しながら加熱溶解させた。室温にまで冷却した後、そこへ、トリアジン骨格含有フェノールノボラック系硬化剤(水酸基当量125、DIC(株)製「LA−7054」、固形分60%のMEK溶液)10部、ナフトール系硬化剤(新日鉄住金化学(株)製「SN−485」、水酸基当量215、固形分60%のMEK溶液)10部、ポリビニルブチラール樹脂(ガラス転移温度105℃、積水化学工業(株)製「KS-1」)の固形分15%のエタノールとトルエンの1:1の混合溶液10部、アミン系硬化促進剤(DMAP、固形分5質量%のMEK溶液)1部、難燃剤(三光(株)製「HCA−HQ」、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10−ヒドロ−9−オキサ−10−フォスファフェナンスレン−10−オキサイド、平均粒径2μm)2部、アミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形シリカ((株)アドマテックス製「SO−C2」、平均粒径0.5μm、単位表面積当たりのカーボン量0.38mg/m2)90部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散した後に、カートリッジフィルター(ROKITECNO製「SHP050」)で濾過して、樹脂ワニス3を調製した。
トリアジン骨格含有フェノールノボラック系硬化剤(水酸基当量125、DIC(株)製「LA−7054」、固形分60%のMEK溶液)の配合量を5部に変更した点、ナフトール系硬化剤(新日鉄住金化学(株)製「SN−485」、水酸基当量215の固形分60%のMEK溶液)の配合量を20部に変更した点、イミダゾール系硬化促進剤(1B2PZ、固形分5質量%のMEK溶液)1部を添加した点以外は、調製例3と同様にして、樹脂ワニス4を調製した。
支持体として、アルキド樹脂系離型剤(リンテック(株)製「AL−5」)で離型処理したPETフィルム(東レ(株)製「ルミラーT6AM」、厚さ38μm、軟化点130℃)を用意した。該支持体の離型面に、ダイコーターにて樹脂ワニス1を塗布し、80℃〜110℃(平均100℃)にて3分間乾燥させ、樹脂組成物層を形成した。樹脂組成物層の厚さは20μmであった。次いで、樹脂組成物層の支持体と接合していない面に、保護フィルムとしてポリプロピレンフィルム(王子特殊紙(株)製「アルファンMA−411」、厚さ15μm)を、該保護フィルムの粗面が樹脂組成物層と接合するように積層し、接着フィルム1を得た。
樹脂ワニス1に代えて樹脂ワニス2を使用した以外は、作製例1と同様にして、接着フィルム2を作製した。
樹脂ワニス1に代えて樹脂ワニス3を使用した以外は、作製例1と同様にして、接着フィルム3を作製した。
樹脂ワニス1に代えて樹脂ワニス4を使用した以外は、作製例1と同様にして、接着フィルム4を作製した。
接着フィルム1を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕に従って評価基板を調製し、各評価を行った。
接着フィルム2を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕に従って評価基板を調製し、各評価を行った。
接着フィルム3を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕に従って評価基板を調製し、各評価を行った。
接着フィルム1を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕に従って評価基板を調製し、各評価を行った。
接着フィルム1を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕に従って評価基板を調製し、各評価を行った。
接着フィルム4を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕に従って評価基板を調製し、各評価を行った。
10 内部最大径よりも開口径が大きい凹部を表面に有する粗化硬化体
11 樹脂成分
12 無機充填材
20 めっき
L1 めっきと粗化硬化体の界面を最小二乗法により直線化して得られた直線
L2 直線L1と平行であり且つ直線L1から粗化硬化体の深さ方向に0.2μm離れた直線
Claims (12)
- 樹脂組成物の硬化体を粗化処理して得られる粗化硬化体であって、
該粗化硬化体の表面の算術平均粗さ(Ra)が500nm以下であり、
該粗化硬化体の表面に無電解めっきしてめっき付き粗化硬化体を形成したとき、該めっき付き粗化硬化体表面に垂直な方向における該めっき付き粗化硬化体の断面において、めっきと粗化硬化体の界面を最小二乗法により直線化して得られた直線L1上にあるめっき領域の長さXと、直線L1と平行であり且つ直線L1から粗化硬化体の深さ方向に0.2μm離れている直線L2上にあるめっき領域の長さYとが、Y/X≦1の条件を満たす、粗化硬化体。 - 直線L1と平行であり且つ直線L1から粗化硬化体の深さ方向にZ(μm)離れている直線L3上にあるめっき領域の長さをY’とするとき、Y’/X≦0.05を満たすZの最小値が3以下である、請求項1に記載の粗化硬化体。
- 樹脂組成物の硬化体を粗化処理して得られる粗化硬化体であって、
該粗化硬化体表面の凹凸の平均間隔(Sm)が2000nm以下である、粗化硬化体。 - 粗化硬化体の表面の算術平均粗さ(Ra)が200nm以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の粗化硬化体。
- 樹脂組成物の硬化体が、
樹脂組成物を温度T1にて熱硬化させる第1の熱硬化処理と、
第1の熱硬化処理後の樹脂組成物を温度T1よりも高い温度T2にて熱硬化させる第2の熱硬化処理と
を含む熱硬化処理により得られる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の粗化硬化体。 - 第1の熱硬化処理後の樹脂組成物の最低溶融粘度が11000ポイズ〜300000ポイズである、請求項5に記載の粗化硬化体。
- 樹脂組成物が平均粒径0.01μm〜0.3μmの無機充填材を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の粗化硬化体。
- 樹脂組成物がナフトール系硬化剤及び活性エステル系硬化剤からなる群から選択される1種以上を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の粗化硬化体。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の粗化硬化体と、該粗化硬化体の表面に形成された導体層とを含む積層体。
- 導体層が、配線ピッチ16μm以下の回路を含む、請求項9に記載の積層体。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の粗化硬化体により形成された絶縁層を含むプリント配線板。
- 請求項11に記載のプリント配線板を含む半導体装置。
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