JP2016018918A5 - - Google Patents

Claims (7)

1. 真空容器内部の処理室内に配置された試料台上面に載置された被処理体を当該処理室内
   に電界を供給して生成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
   前記試料台が配置される絶縁板と、
   前記試料台の金属製の基材に形成された穴内部に前記絶縁板に形成された貫通孔を介し
   て挿入され当該試料台の温度を検出する温度センサと、
   前記温度センサの外周を囲んで前記絶縁板の内部に配置され前記真空容器と電気的に接
   続された金属製のリングと、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
2. 請求項１に記載のプラズマ処理装置であって、
   前記処理室内に供給される前記電界は、マイクロ波の電界であることを特徴とするプラ
   ズマ処理装置。
3. 請求項１に記載のプラズマ処理装置であって、
   前記プラズマ処理装置は、前記温度センサを前記試料台側へ押圧する圧縮バネを更に有
   することを特徴とするプラズマ処理装置。
4. 請求項１に記載のプラズマ処理装置であって、
   前記プラズマ処理装置は、前記基材に形成された穴内部において前記温度センサの外周
   を囲んで配置されたノイズフィルタを更に有することを特徴とするプラズマ処理装置。
5. 請求項１に記載のプラズマ処理装置であって、
   前記温度センサは、
   温度測定素子と、
   前記温度測定素子が挿入される金属製の保護管と、
   前記保護管の温度測定側の開口端に設けられた絶縁キャップ、及び前記絶縁キャップと
   重なる部分を有し前記保護管が前記基材に直接接触しない長さの絶縁チューブを含む絶縁
   体と、を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
6. 真空容器と、
   前記真空容器内の真空処理室と、
   前記真空処理室内に導入された処理ガスに高周波エネルギを供給してプラズマを生成す
   るプラズマ生成用高周波波電源と、
   前記真空容器と電気的に接続された金属製のベースと、
   前記ベース上に絶縁板を介して配置され、金属製の基材、該基材上に配置された誘電体
   膜、該誘電体膜内に配置されたヒータ、前記基材内に配置され内部に冷媒が流れる通路、
   および前記ヒータが配置された平面位置に対応して前記基材に形成された穴内部に前記絶
   縁板と前記ベースとを貫通する貫通孔を介して挿入された温度センサを含み、被処理体が載置される試料台と、
   前記温度センサの外周を囲んで前記絶縁板の内部に配置され前記ベースと電気的に接続
   された金属製のリングと、
   前記試料台に高周波電圧を印加する高周波バイアス電源と、
   前記温度センサからの出力に応じて前記ヒータへ供給される電力を制御し、前記試料台
   の温度を調節して前記被処理体の温度を調節する制御部と、を備えたことを特徴とするプ
   ラズマ処理装置。
7. 請求項６に記載のプラズマ処理装置において、
   前記温度センサと前記金属製のリングとは同軸となるように配置されていることを特徴
   とするプラズマ処理装置。