JPH0281037U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0281037U JPH0281037U JP15950488U JP15950488U JPH0281037U JP H0281037 U JPH0281037 U JP H0281037U JP 15950488 U JP15950488 U JP 15950488U JP 15950488 U JP15950488 U JP 15950488U JP H0281037 U JPH0281037 U JP H0281037U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma processing
- processing apparatus
- plasma
- noise filter
- gas supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例の平行平板型エツチ
ング装置の構成図、第２図は本考案の第２の実施
例の有磁場マイクロ波エツチング装置の構成図で
ある。 １……処理室、２，３……電極、４……整合器
、５……高周波電源、６……ウエハ、７……透明
導電膜、８……透明絶縁膜、９……電極、１０…
…ノイズフイルター、１１……温調器、１２……
温度センサー、１３……ノイズフイルター、１４
……コイル、１５……マグネトロン、１６……導
波管、１７……冷却装置。
ング装置の構成図、第２図は本考案の第２の実施
例の有磁場マイクロ波エツチング装置の構成図で
ある。 １……処理室、２，３……電極、４……整合器
、５……高周波電源、６……ウエハ、７……透明
導電膜、８……透明絶縁膜、９……電極、１０…
…ノイズフイルター、１１……温調器、１２……
温度センサー、１３……ノイズフイルター、１４
……コイル、１５……マグネトロン、１６……導
波管、１７……冷却装置。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 減圧可能に構成された処理室とガス供給装置
とプラズマ発生装置と加熱装置とを有するプラズ
マ処理装置において、前記加熱装置を構成する発
熱体と温調器の間にノイズフイルターを接続する
ことを特徴とするプラズマ処理装置。 ２ 減圧可能に構成された処理室とガス供給装置
とプラズマ発生装置と加熱装置とを有するプラズ
マ処理装置において、前記加熱装置を構成する温
度センサーと温調器の間にノイズフイルターを接
続することを特徴とするプラズマ処理装置。 ３ 減圧可能に構成された処理室とガス供給装置
とプラズマ発生装置と冷却装置とを有するプラズ
マ処理装置において、前記冷却装置を構成する温
度センサーと温調器の間にノイズフイルターを接
続することを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15950488U JPH0281037U (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15950488U JPH0281037U (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0281037U true JPH0281037U (ja) | 1990-06-22 |
Family
ID=31440776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15950488U Pending JPH0281037U (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0281037U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016018918A (ja) * | 2014-07-09 | 2016-02-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
-
1988
- 1988-12-09 JP JP15950488U patent/JPH0281037U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016018918A (ja) * | 2014-07-09 | 2016-02-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
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