JP2015050362A5 - - Google Patents
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Description
本発明は、第一のプラズマ生成部と第二のプラズマ生成部とを具備するプラズマ処理室と、前記第一のプラズマ生成部の外周を巻回するヘリカルコイルと、前記ヘリカルコイルに高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記第二のプラズマ生成部内に配置され試料が載置される試料台と、前記試料台に高周波電力を供給する第二の高周波電源と、前記第一のプラズマ生成部と前記第二のプラズマ生成部を隔離し前記第一のプラズマ生成部で生成されたラジカルを前記第二のプラズマ生成部に供給する孔を有する分散板とを備えるプラズマ処理装置において、前記分散板は、絶縁体の第一の分散板と導体の第二の分散板とを具備するとともに前記試料台と対向し、前記第一の分散板は、前記第二の分散板を介して前記試料台と対向し、前記第二の分散板は、前記ヘリカルコイルのアース端子に接続されていることを特徴とする。
Claims (5)
- 第一のプラズマ生成部と第二のプラズマ生成部とを具備するプラズマ処理室と、前記第一のプラズマ生成部の外周を巻回するヘリカルコイルと、前記ヘリカルコイルに高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記第二のプラズマ生成部内に配置され試料が載置される試料台と、前記試料台に高周波電力を供給する第二の高周波電源と、前記第一のプラズマ生成部と前記第二のプラズマ生成部を隔離し前記第一のプラズマ生成部で生成されたラジカルを前記第二のプラズマ生成部に供給する孔を有する分散板とを備えるプラズマ処理装置において、
前記分散板は、絶縁体の第一の分散板と導体の第二の分散板とを具備するとともに前記試料台と対向し、
前記第一の分散板は、前記第二の分散板を介して前記試料台と対向し、
前記第二の分散板は、前記ヘリカルコイルのアース端子に接続されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記分散板の全面積に対する前記孔の面積の割合を５５％以下とすることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記第一のプラズマ生成部にガスが供給されている場合だけ前記分散板から前記第二のプラズマ生成部にガスを供給する制御が行われることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記試料台に供給された高周波電力の位相と異なる位相に前記分散板の電位の位相を整合させる位相整合器をさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置において、
前記絶縁体は、石英であり、
前記ヘリカルコイルの両端がアース端子であることを特徴とするプラズマ処理装置。
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