JP2016001213A - 回折格子、撮像装置、表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】回折格子1は、光軸の方向が異なる第1の帯状領域A及び第2の帯状領域Bが、入射光に垂直な面内に交互に繰り返して形成された位相差層4、14が複数積層され、入射光に対して屈折率が周期的に変化する周期構造が形成された回折格子であって、位相差層4の帯状領域A、Bは、他の位相差層14の帯状領域に対して非平行に配置されていること、を特徴とする。
【選択図】図1
Description
このような回折格子は、基材上に紫外線硬化型の液晶材料が塗布され、市松模様状のマスクを介して紫外線を照射することによって製造されるが、市松模様状に紫外線を照射するために、例えば、基材を枚葉状に切断した上で液晶材料の塗布や、紫外線の照射が行われる。そのため、このような回折格子を大量生産する場合において効率よく製造することができない場合があった。
前記帯状領域は、他の位相差層の帯状領域に対して非平行に配置されていること、
を特徴とする回折格子。
図1は、本発明の第1実施形態に係る回折格子を示す図である。図1(a)は、本実施形態の回折格子の断面を示す図であり、図1(b)は、本実施形態の回折格子の分解斜視図を示す。
この第1実施形態に係る回折格子は、入射した光を回折光として出射させるものであり、例えば、カメラ等の撮像装置の撮像素子の撮像面側に赤外フィルタとともに設けられ、入射光に含まれる高周波成分に起因するモアレ縞の発生を抑制させるローパスフィルタとして使用される。
配向層13の各帯状領域A、Bは、配向層3の各帯状領域A、Bと非平行になるように、例えば本実施形態では、図1(b)に示すように、直角に配置されるようにして形成される。これにより、回折格子1は、例えばスポット光の入射に対して十文字状のパターンの回折光(図8参照)を出射することができる。
ここで、非平行とは、入射光が入射する方向(配向層、位相差層等が積層する方向)から見て、配向層13の帯状領域の延在する方向(長手方向)が、配向層3の帯状領域の延在する方向に対して平行でない状態、すなわち配向層3の帯状領域の長手方向に対して傾斜していることをいう。
位相差層4、位相差層14は、重合性液晶組成物を含有する。この重合性液晶組成物は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する液晶化合物(以下、「棒状化合物」ともいう。)のほか、アンチブロッキング剤等を含有させることができる。
図2は、この回折格子1の製造工程を示すフローチャートである。回折格子1の製造工程は、この図2に示す処理工程により長尺透明フィルム材を順次処理して回折格子を生産する。ここでこの製造工程は、ロールに巻き取った長尺透明フィルム材により基材が提供され、配向層作成工程SP2において、光配向膜に係る塗工液がダイ等により塗布された後、乾燥、硬化され、これにより光配向材料層が作製される。続いてこの配向層作成工程SP2は、露光工程により紫外線を照射して基材上に光配向層が作製される。ここで露光工程では、マスクを使用した直線偏光による紫外線の照射により、第1の帯状領域又は第2の帯状領域に対応する領域を選択的に露光処理した後、偏光方向が直交する直線偏光による紫外線を全面に照射することにより、実行される。露光工程については詳細を後述する。
続いてこの製造工程は、位相差層作製工程SP3において、ダイ等により液晶材料の塗工液を塗工、乾燥させた後、液晶分子を配向した状態のまま、紫外線の照射によりこの液晶材料を硬化させ、位相差層が作製され、長尺状の位相差フィルムが完成する。
そして、貼合工程SP5において、切り出された位相差フィルム7及び位相差フィルム17を、接着層5を構成する紫外線硬化型樹脂の接着剤によって貼り合せる。このとき、位相差層14に係る各帯状領域は、位相差層4の各帯状領域に対して非平行、例えば本実施形態では直角に配置されるようにして貼付される。以上により、回折格子1が作製される。
次にこの製造工程は、検査工程SP6において、作製された回折格子の欠陥、外観等が検査される。
この製造工程は、第1の帯状領域A又は第2の帯状領域Bに対応する部位を遮光したマスク16を介して、直線偏光による紫外線(偏光紫外線)を照射することにより、遮光されていない側の、第2の帯状領域B又は第1の帯状領域Aについて、光配向材料膜を所望の方向に配向させる(図3(A))。これによりこの製造工程は、1回目の露光処理を実行する。続いてこの製造工程は、1回目の露光処理とは偏光方向が90度異なる直線偏光により全面に紫外線を照射し、これにより1回目の露光処理で未露光の第1の帯状領域A又は第2の帯状領域Bを露光処理し、第1の帯状領域A又は第2の帯状領域Bについて、光配向材料膜を所望の方向に配向させる(図3(B))。これによりこの製造工程では、2回の露光処理により、第1の帯状領域Aと第2の帯状領域Bとを順次露光処理して配向層3を作製する。
また、位相差フィルムが、ロールにより提供される透明フィルム材による基材を搬送しながら順次処理して作製されるので、位相差層に係る帯状領域の帯状に延在する方向を基材の搬送方向と同じにすることによって効率よく作製されるため、このことからも、本実施形態の回折格子1は、大量生産における製造効率を向上させることができる。
さらに、上述の特許文献1の図2に記載の回折格子のように、液晶分子の配向方向が、入射光に直交する面(回折格子のシート面に平行な面)に対して平行だけでなく、垂直にも配向されているような場合、上述の製法では、1種類の配向膜上に、水平配向と垂直配向を混在させることが出来ないため、大量に効率よく作製するのは困難である。しかし、本実施形態の回折格子1は、帯状領域の液晶分子が、入射光に直交する面(回折格子のシート面に平行な面)に平行又は略平行に配向されているので、露光工程による液晶分子の配向を、基材を順次搬送しながら行うことができ、これによっても大量生産における製造効率を向上させることができる。
また、本実施形態の回折格子は、2枚の位相差フィルムを貼り合わせているため、各位相差フィルム7の帯状領域と位相差フィルム17の帯状領域とのなす角度を直角以外の角度に容易に調整することができる。これにより、回折格子から出射する回折光のパターンを適宜変更することができる。
本実施形態の回折格子は、位相差層の各帯状領域が、他の位相差層の各帯状領域に対して非平行(例えば本実施形態では直角)に配置されているので、入射する入射光を複数の回折光として出射させることができる。
図4は、本発明の第2実施形態に係る回折格子を示す図である。図5は、本発明の第2実施形態に係る回折格子を構成する位相差フィルムを示す図である。
第2実施形態の回折格子101は、位相差層4上の層構成が第1実施形態の回折格子と相違する。なお、以下の説明及び図面において、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾に同一の符号(下二桁)を付して、重複する説明を適宜省略する。
本実施形態の回折格子101は、図5(a)に示す基材2、配向層3、位相差層4から構成される位相差フィルム7と、図5(b)に示す位相差フィルム17の配向層13及び位相差層14とから構成され、接着層5を介してこれら位相差フィルム7と、位相差層14及び配向層13とが一体化され、この一体化の処理に、転写法が適用される。
本実施形態の回折格子101は、上述のロールにより作製された各位相差フィルムを所定の寸法に裁断した後、所定の角度(例えば90度)に回転させて、互いに貼り合わせることによって、作成されることとなる。
また、上述の特許文献1の図2に記載の回折格子のように、液晶分子の配向方向が、入射光に直交する面(回折格子のシート面に平行な面)に対して平行だけでなく、垂直にも配向されているような場合、上述の製法では、1種類の配向膜上に、水平配向と垂直配向を混在させることが出来ないため、大量に効率よく作製するのは困難である。しかし、本実施形態の回折格子101は、帯状領域の液晶分子が、入射光に直交する面(回折格子のシート面に平行な面)に平行又は略平行に配向されているので、露光工程による液晶分子の配向を、基材を順次搬送しながら行うことができ、これによっても大量生産における製造効率を向上させることができる。
さらに、本実施形態の回折格子は、2枚の位相差フィルムを貼り合わせているため、各位相差フィルムの帯状領域と他の位相差フィルムの帯状領域とのなす角度を直角以外の角度に容易に調整することができる。これにより、回折格子から出射する回折光のパターンを適宜変更することができる。
図6は、本発明の第3実施形態に係る回折格子を示す図である。
第3実施形態の回折格子201は、基材の表面及び裏面に、配向層及び位相差層が形成されている点で、第1実施形態の回折格子と相違する。なお、以下の説明及び図面において、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾に同一の符号(下二桁)を付して、重複する説明を適宜省略する。
回折格子201は、図6に示すように、基材2の一方の面(表面)上に、配向層3、位相差層4が順次設けられ、また、基材2の他方の面(裏面)上に、配向層13、位相差層14が順次設けられている。
まず、ロールに巻き取った長尺透明フィルム材により基材2が提供され、その基材の表面に、光配向膜に係る塗工液がダイ等により塗布された後、乾燥、硬化され、これにより光配向材料層が作製される。続いて、露光工程により紫外線を照射して光配向層3が作製される。
続いて、ダイ等により液晶材料の塗工液を塗工、乾燥させた後、紫外線の照射によりこの液晶材料を硬化させ、位相差層4が作製される。
続いて、ダイ等により液晶材料の塗工液を塗工、乾燥させた後、紫外線の照射によりこの液晶材料を硬化させ、位相差層14が作製される。このとき、位相差層14に係る各帯状領域は、位相差層4に係る各帯状領域に対して非平行、例えば本実施形態では直角に配置されるようにして形成される。
さらに、本実施形態の回折格子は、基材2の表面及び裏面に、それぞれ配向層及び位相差層が形成されているので、上述の実施形態に比して、接着層5や基材12を省略することができ、厚みを薄く形成することができる。
本実施形態の回折格子は、位相差層の各帯状領域が、他の位相差層の各帯状領域に対して非平行(例えば本実施形態では直角)に配置されているので、入射する入射光を複数の回折光として出射させることができる。
次に、回折格子にスポット光を入射させ、回折格子から出射した回折光の評価について説明する。
図7は、実施例及び比較例に照射するスポット光を撮影した写真である。図8は、本発明の実施例に係る回折格子から出射した回折光を撮影した写真である。図9は、比較例の回折格子から出射した回折光を撮影した写真である。図10は、本発明の実施例に係る回折格子から出射した回折光をプロットした図である。図11は、比較例の回折格子から出射した回折光をプロットした図である。
また、比較例に係る回折格子は、光軸の方向の異なる2つの矩形領域が市松模様状に形成された特許文献1に係る回折格子である。
実施例及び比較例の回折格子に入射されるスポット光は、図7に示すように、点光源から出射された光である。
スポット光の照射位置から回折格子の照射面までの距離を1500mmとし、100μmピッチの比較例の回折格子に550nmのレーザ光を入射したところ、図11に示すように、回折光のピッチは約8.2mmであった。
また、スポット光を実施例の回折格子に入射させた場合、実施例の回折格子からは、図8に示すように、十文字状のパターンの回折光が出射する。
スポット光の照射位置から回折格子の照射面までの距離を1500mmとし、120μmと120μmのストライプ状の位相差層が2層積層された実施例の回折格子に550nmのレーザ光を入射したところ、図10に示すように、回折光のピッチは約3.5mmであった。
これにより、本発明による実施例の回折格子は、比較例の回折格子と同様に、入射光を複数の回折光として出射できることが確認された。比較例の回折光パターンは2列の回折光ドットによる十文字状の回折光パターンであるのに対し、実施例の回折光パターンは1列の回折光ドットによる十文字状の回折光パターンであることが確認された。
しかし、本発明に係る実施例の回折格子は、上述したように、ロールにより順次搬送しながら位相差層に係る帯状領域を連続的に形成することができるので、比較例の回折格子に比して格段に効率よく製造することができる。
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に組み合わせたり、変更したりすることができる。
図12は、各位相差層に係る帯状領域の互いになす角度を120度にした場合の回折光を示す写真である。図13は、位相差層を3層設けた場合の回折光を示す写真である。
この場合、露光工程において、直線偏光による紫外線の照射により、第1の帯状領域及び第2の帯状領域に対応する領域を露光処理した後、偏光方向が直交する直線偏光による紫外線の照射により、第1の帯状領域又は第2の帯状領域に対応する領域をマスクを用いて選択的に露光処理することによって、各帯状領域が形成される。
また、配向層は、紫外線硬化樹脂等の賦型可能な樹脂を使用した微細凹凸形状の賦型処理により作製してもよい。具体的には、第1の帯状領域A、第2の帯状領域Bにそれぞれ対応する微小な凹凸形状を表面に有した賦型用金型によって、各配向層の表面に微細凹凸形状を形成し、この凹凸形状による配向規制力によって位相差層4をパターニングするようにしてもよい。
更に、光配向機能を有する光配向性液晶ポリマーにより光配向の手法を適用して位相差層4、14を構成するようにして、配向層3、13を省略するようにしてもよい。
また、この場合、基材12が上述の第2実施形態に記載の転写法によってセパレータフィルムとして配向層13から剥離できるようにしてもよい。そうすることによって、回折格子の層厚みをより薄くすることができる。
2 基材
3 配向層
4 位相差層
5 接着層
7 位相差フィルム
12 基材、セパレータフィルム
13 配向層
14 位相差層
17 位相差フィルム
16 マスク
Claims (5)
- 光軸の方向が異なる第1の帯状領域及び第2の帯状領域が、入射光に垂直な面内に交互に繰り返して形成された位相差層が複数積層され、前記入射光に対して屈折率が周期的に変化する周期構造が形成された回折格子であって、
前記帯状領域は、他の位相差層の帯状領域に対して非平行に配置されていること、
を特徴とする回折格子。 - 前記帯状領域の光軸の方向は、前記入射光に垂直な面内の方向に平行な方向であること、
を特徴とする請求項1に記載の回折格子。 - 前記位相差層は、2層設けられており、一の位相差層の前記帯状領域が、他の位相差層の前記帯状領域に対して直角に配置されていること、
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載の回折格子。 - 撮像素子の撮像面の前側に、請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の回折格子を配置した撮像装置。
- 画像を表示する表示部の表示面の前側に、請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載の回折格子を配置した表示装置。
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