JP2007219191A5 - - Google Patents

Claims (6)

1. 電極を設けた基板上に光配向膜を形成した液晶表示用基板を使用し、前記光配向膜の全面に光を一定方向に照射する第１の配向処理工程と、
   複数の開口部を一定間隔で設けた露光マスクを介して前記光配向膜に光を前記照射方向と異なる方向に照射する第２の配向処理工程と、
   を含み、前記光配向膜に配向方向が異なる複数の配向領域を分割形成することを特徴とする液晶表示用基板の製造方法。
2. 配向方向が光の照射方向に応じて可逆的に変化する光配向膜を使用し、該光配向膜の全面に光を一定方向に照射して前記第１の配向処理工程を実施した後、前記露光マスクを介して前記光配向膜に光を前記照射方向と異なる方向に照射して前記第２の配向処理工程を実施することを特徴とする請求項１記載の液晶表示用基板の製造方法。
3. 配向方向が光の照射方向に対して非可逆性を有する光配向膜を使用し、前記露光マスクを介して前記光配向膜に光を一定方向に照射して前記第２の配向処理工程を実施した後、前記光配向膜の全面に光を前記照射方向と異なる方向に照射して前記第１の配向処理工程を実施することを特徴とする請求項１記載の液晶表示用基板の製造方法。
4. 前記第１の配向処理工程と第２の配向処理工程とは、前記基板を一定方向に搬送しながら行なわれることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示用基板の製造方法。
5. 前記第１の配向処理工程は、前記基板の前記搬送方向の長さよりも短い幅に形成され、且つ前記基板面に平行な面内にて前記搬送方向と直交する方向に前記基板の幅と略等しい長さの開口部を設けた第１の露光マスクを介して行い、
   前記第２の配向処理工程は、前記基板の前記搬送方向の長さよりも短い幅に形成され、且つ前記基板面に平行な面内にて前記搬送方向と直交する方向に複数の開口部を一定間隔で設けた第２の露光マスクを介して行う、
   ことを特徴とする請求項４記載の液晶表示用基板の製造方法。
6. 前記第１の配向処理工程と第２の配向処理工程とは、前記基板を一方の配向処理工程における基板配置状態から該基板面内にて一定角度だけ回転させた状態で搬送して行なうことを特徴とする請求項４又は５記載の液晶表示用基板の製造方法。