JP2015518814A - アルミノシリケートゼオライトｓｓｚ−５６の製造方法 - Google Patents

Abstract

アルミノシリケートゼオライトＳＳＺ−５６が、１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムカチオンを構造指向剤として用いて直接調製される。

Description

この開示は一般に、１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムカチオンを構造指向剤（「ＳＤＡ」）として用いるアルミノシリケートゼオライトＳＳＺ−５６を直接調製する方法に関する。

モレキュラーシーブは、ガス流精製及び炭化水素転換プロセスのようなプロセスについて化学工業で用いられる一群の重要な材料である。モレキュラーシーブは様々なサイズの内部連通孔を有する多孔性固体である。モレキュラーシーブは典型的には、孔に入ることのできる分子を選択的に吸着し、大きすぎる分子を排除する一つ以上の分子の大きさの孔を有する、１次元、２次元、又は３次元結晶性孔構造を有している。孔サイズ、孔形状、格子間隔又はチャネル、組成、結晶モルホロジー及び構造は、モレキュラーシーブの幾つかの特徴であり、様々な吸着及び転換プロセスにおけるそれらの使用を決定する。

石油及び石油化学工業において、最も商業的に有用なモレキュラーシーブはゼオライトとして知られている。ゼオライトは、［ＳｉＯ_４］の酸素原子と［ＡｌＯ_４］四面体のような他の金属酸化物を分け合う角から形成されるオープンフレームワーク構造を有する金属ケイ酸塩である。可動性の外部フレームワークカチオンはゼオライトフレームワークに沿って電荷のバランスをとるため孔内に留まる。これらの電荷は四面体フレームワークカチオン（例えば、Ｓｉ^４＋）が三価又は五価のカチオンで置き換えられた結果である。外部フレームワークカチオンはフレームワークの電気的中性を保存するこれらの電荷と釣り合いをとっており、これらのカチオンは他のカチオン及び／又はプロトンと交換可能である。

原理的には、特定のフレームワーク組成を有する特定のモレキュラーシーブ構造、例えば同じ結晶構造のアルミノシリケートのような特定の金属ケイ酸塩の形成をもたらす二つのルート：（１）直接合成、及び（２）合成後処理（二次合成）がある。直接合成がモレキュラーシーブの合成の主要なルートである。

モレキュラーシーブの性質及びそれらの形成の化学反応に応じて、これらのモレキュラーシーブのいくつかは、広い範囲のフレームワーク組成、例えば全シリカ形態、アルミノシリケート形態、及びボロシリケート形態を用いて合成することができるが、他の構造の合成は特定のヘテロ原子（例えば、ホウ素）が合成混合物中に存在し、そしてフレームワークの中に組み込まれる場合にしかうまくいかないのである。

国際ゼオライト協会（ＩＺＡ）によりフレームワーク構造コードＳＦＳを有するとして同定されたモレキュラーシーブが知られている。ＳＳＺ−５６は既知の結晶性ＳＦＳ材料であり、様々な触媒反応を含む多くのプロセスに有効である。ボロシリケートＳＳＺ−５６（Ｂ−ＳＳＺ−５６）及びその製造方法は、米国特許第７，２２６，５７６に、及びＳ．ＥｌｏｍａｒｉらによりＭｉｃｒｏｐｏｒｏｕｓ Ｍｅｓｏｐｏｒｏｕｓ Ｍａｔｅｒ．２００９，１１８，３２５−３３３に開示されている。しかし、ボロシリケートゼオライトは特定の炭化水素変換プロセスについて実用的というには十分に触媒的に活性であるとはいえない。さらにボロシリケートＳＳＺ−５６を調製するために使用されるＳＤＡ、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−メチルデカヒドロキノリニウムカチオンのトランス異性体は、この分子のシス及びトランス異性体が全く異なる相選択性を有しているので、繰り返しの精製を必要とする。

現在までアルミノシリケートＳＳＺ−５６の直接合成の試みは成功していなかった。

したがって、アルミノシリケートＳＳＺ−５６を直接調製する方法へのニーズが存在する。

一つの態様では、結晶化条件下で：（１）少なくとも１種のケイ素源；（２）少なくとも１種のアルミニウム源；（３）水酸化物イオン；及び（４）１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムカチオンを接触させることによりアルミノシリケートゼオライトＳＳＺ−５６を調製する方法が提供される。

他の態様では、（ａ）（１）少なくとも１種のケイ素源；（２）少なくとも１種のアルミニウム源；（３）周期表の１族及び２族から選択される元素の少なくとも１種の源；（４）水酸化物イオン；（５）１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムカチオン；及び（６）水を含む反応混合物を調製し、（ｂ）ゼオライトの結晶を形成するのに十分な条件下で反応混合物を維持すること：により、表４のＸ線回折（ＸＲＤ）線を、か焼形態で有するアルミノシリケートゼオライトＳＳＺ−５６の調製方法が提供される。

さらに他の態様では、合成されたままの無水状態で、モル比で以下の組成を有するアルミノシリケートＳＳＺ−５６ゼオライトが提供される。

ここでＱは１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムカチオンであり、Ｍは周期表の１族及び２族からの元素からなる群から選択される。

図１は実施例２の合成されたままのアルミノシリケートＳＳＺ−５６生成物の粉末ＸＲＤパターンを示す。

図２は実施例２のアルミノシリケートＳＳＺ−５６生成物の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像を示す。

図３も実施例２のアルミノシリケートＳＳＺ−５６生成物のＳＥＭ像を示す。

図４は実施例４のか焼アルミノシリケートＳＳＺ−５６生成物の粉末ＸＲＤパターンを示す。

はじめに
以下の用語は明細書全体を通して使用され、特に断りがなければ以下の意味を有するであろう。

「活性源」という用語は少なくとも１種の元素を、反応し得る、ゼオライト構造内に挿入され得る形態で提供することのできる試薬又は前駆体を意味する。「源」及び「活性源」の用語は本明細書では相互に同じ意味で用いることができる。

「周期表」という用語は、ＩＵＰＡＣ元素の周期表の２００７年６月２２日付の版を指し、周期表族の番号付けはＣｈｅｍ．Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ １９８５，６３（５），２６−２７に記載されている通りである。

アルミノシリケートＳＳＺ−５６（Ａ１−ＳＳＺ−５６）を調製するにあたり、１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムカチオンを構造指向剤（「ＳＤＡ」）として用い、これはまた結晶化テンプレートとしても知られている。Ａ１−ＳＳＺ−５６を作成するのに有用なＳＤＡは以下の構造（１）で表される。

ＳＤＡカチオンはアニオンと会合しており、このアニオンはＡ１−ＳＳＺ−５６の形成に害をなさないアニオンであればいずれでもよい。代表的なアニオンは、周期表の１７族の元素（例えば、フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、水酸化物、酢酸塩、硫酸塩、テトラフルオロボレート、カルボン酸塩等を含む。

反応混合物
一般に、アルミノシリケートＳＳＺ−５６は：（ａ）（１）少なくとも１種のケイ素源；（２）少なくとも１種のアルミニウム源；（３）周期表の１族及び２族から選択される元素の少なくとも１種の源；（４）水酸化物イオン；（５）１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムカチオン；及び（６）水を含む反応混合物を調製し、（ｂ）ゼオライトの結晶を形成するのに十分な条件下で反応混合物を維持すること：により調製することができる。

ゼオライトを形成する反応混合物の組成はモル比で以下の表１において同定される。
表１

ここでＱは１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムカチオンであり、Ｍは周期表の１族及び２族からの元素からなる群から選ばれる。

本明細書で有用なケイ素の源としては、ヒュームドシリカ、沈殿シリケート、シリカヒドロゲル、ケイ酸、コロイダルシリカ、テトラアルキルオルトシリケート（例えば、テトラエチルオルトシリケート）、及びシリカ水酸化物が挙げられる。

本明細書で有用なアルミニウムの源としては、アルミン酸塩、アルミナ、及びＡｌＣｌ_３、Ａｌ_２（ＳＯ_４）_３、Ａｌ（ＯＨ）_３のようなアルミニウム化合物、カオリン粘土、及び他のゼオライトが挙げられる。アルミニウムの源として有用な他のゼオライトの例としては、ＬＺ−２１０及びＬＺ−５２ゼオライト（Ｙゼオライトのタイプ）が挙げられる。

上述のように、本明細書に記載した各態様について、反応混合物を、周期表の１族及び２族から選択された元素（本明細書中ではＭという）の少なくとも１種の源を用いて形成することができる。一つの実施態様では、反応混合物は周期表の１族からの元素の源を用いて形成される。他の実施態様では、反応混合物はナトリウム（Ｎａ）の源を用いて形成される。結晶化プロセスに悪影響を与えないＭ含有化合物であればいずれも適している。そのような１族及び２族元素の源としては、その酸化物、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、シュウ酸塩、クエン酸塩、及び酢酸塩が挙げられる。

本明細書に記載した各態様について、ゼオライト反応混合物は複数の源により提供することができる。また、２種以上の反応成分を一つの源により提供することもできる。

反応混合物はバッチ式又は連続式のいずれでも調製することができる。本明細書に記載されたゼオライトの結晶サイズ、モルホロジー、及び結晶化時間は、反応混合物の性質及び結晶条件とともに変動し得る。

結晶化及び合成後処理
実際、アルミノシリケートゼオライトＳＳＺ−５６は、（ａ）本明細書に上述した反応混合物を調製し；（ｂ）反応混合物をゼオライトの結晶を形成するのに十分な結晶化条件下に維持することにより調製される。

反応混合物をゼオライトの結晶が形成されるまで高温に維持する。水熱結晶化は通常加圧下で行われ、通常は、反応混合物が１２５℃と２００℃の間の温度で自己生成圧力に暴露されるようにオートクレーブで行われる。

反応混合物は結晶化工程の間、穏やかな混合又は攪拌に付すことができる。当業者であれば、本明細書に記載されたゼオライトが、非晶質材料のような不純物、ゼオライトとは一致しないフレームワークトポロジーを有する単位格子、及び／又は他の不純物（例えば、有機炭化水素類）を含み得ることが理解されよう。

水熱結晶化工程の間、ゼオライト結晶は反応混合物から自発的に核形成させることができる。種材料としてのゼオライトの結晶の使用は完全な結晶化を起こすのに必要な時間を短縮する点で有利であることができる。また、種結晶を形成することは、望ましくない相以上に核形成及び／又はゼオライトの形成を促進することにより得られる生成物の純度を上げることにつながり得る。種として使用する場合、種結晶は反応混合物に使用されるケイ素源の重量の１％と１０％の間の量で添加する。

一度ゼオライト結晶が形成されたら、濾過のような標準的な機械的分離技術により固体生成物を反応混合物から分離する。結晶を水洗し、次いで乾燥して合成されたままのゼオライト結晶を得る。乾燥工程は雰囲気圧力で又は真空下で行うことができる。

ゼオライトは合成されたままで用いることができるが、典型的には熱処理（か焼）される。「合成されたままの」という用語は、ＳＤＡカチオン及び／又はＭの除去前の、結晶後の形態にあるゼオライトをいう。ＳＤＡは熱処理（例えば、か焼）により、好ましくは酸化的雰囲気（例えば、空気、０ｋＰａより高い酸素分圧の気体）で、ゼオライトからＳＤＡを除去するのに十分であると当業者によって容易に決定できる温度で除去することができる。ＳＤＡはまた、米国特許第６，９６０，３２７号に記載されている光分解技術（例えば、ゼオライトから有機化合物を選択的に除去するのに十分な条件下で可視光よりも短い波長を有する光又は電磁放射にＳＤＡ含有ゼオライト生成物を曝露すること）により除去することもできる。

ゼオライトは引き続いて蒸気、空気、又は不活性気体中で２００℃から８００℃までの範囲の温度で１〜４８時間又はそれ以上の時間、か焼することができる。通常は、イオン交換により外部フレームワークカチオン（例えば、Ｎａ^＋）を除去し、それを水素で、アンモニウムで、又は所望の金属イオンであれば何ででも置き換えることが望ましい。

ゼオライトの特性評価
本明細書に記載された方法で作られたゼオライトは、合成されたままの無水状態で、モル比で、表２に記載の組成を有している。表２中、組成変数Ｑ及びＭは上記の通りである。
表２

本明細書に開示された方法で合成されたゼオライトは、そのＸＲＤパターンにより特性評価することができる。表３の粉末ＸＲＤ線は合成されたままのアルミノシリケートＳＳＺ−５６の代表的なものである。回折パターンのマイナーな変動は格子定数の変化による特定の試料のフレームワーク種のモル比の変動による可能性がある。また、十分に小さい結晶はピークの形状と強度に影響を与え、大きなピークのブロード化をもたらすであろう。回折パターンにおけるマイナーな変動はまた、調製に用いた有機化合物の変動、及び試料ごとのＳｉ／Ａｌモル比の変動の結果である可能性もある。か焼がＸ線回折パターンのマイナーなシフトを引き起こすこともある。これらのマイナーな揺らぎにもかかわらず、基本的な結晶構造は変わらないままである。
表３
合成されたままのＡｌ−ＳＳＺ−５６の特徴的なピーク

^（ａ）±０．２０
^（ｂ）得られた粉末ＸＲＤパターンは、相対強度スケールに基づいており、Ｘ線パターンの最も強い線を１００の値とし、Ｗ＝弱い（＞０〜≦２０）；Ｍ＝中（＞２０〜≦４０）；Ｓ＝強い（＞４０〜≦６０）；ＶＳ＝非常に強い（＞６０〜≦１００）である。

表４のＸ線回折パターン線はか焼したアルミノシリケートＳＳＺ−５６の代表的なものである。
表４
か焼したＡｌ−ＳＳＺ−５６の特徴的なピーク

^（ａ）±０．２０
^（ｂ）得られた粉末ＸＲＤパターンは、相対強度スケールに基づいており、Ｘ線パターンの最も強い線を１００の値とし、Ｗ＝弱い（＞０〜≦２０）；Ｍ＝中（＞２０〜≦４０）；Ｓ＝強い（＞４０〜≦６０）；ＶＳ＝非常に強い（＞６０〜≦１００）である。

本明細書に提示された粉末Ｘ線回折パターンは標準的技術により収集した。放射線はＣｕＫα線である。ピーク高さと、２θの関数（θはブラッグ角である）としての位置は、ピークの相対強度（バックグラウンドについて調整）から読み取り、ｄ、即ち記録された線に対応する面間距離を計算した。

以下の例示的実施例は非制限的であることを意図している。

実施例１
１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムヒドロキシド
Ｉ．１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジンの合成：三口５００ｍＬフラスコに、２０ｇ（０．２３モル）のピペリジン、４９ｇ（０．３５モル）の３，３，５−トリメチルシクロヘキサノン、及び７５ｍＬの無水シクロヘキサンを入れた。得られた溶液に、５５ｇ（０．４６モル）の無水硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ_４）を添加し、混合物を機械的に攪拌し、１４４時間加熱還流させた（反応をＮＭＲでモニターした）。次いで反応混合物を３００ｍＬオートクレーブに移した。オートクレーブを封じ、加熱ジャケット及びオーバーヘッドスターラーを取り付けた。オートクレーブを８０℃に加熱し自己生成的な圧力で一晩攪拌させた。反応混合物を４８時間攪拌し、次いでＮＭＲでチェックした。反応混合物をフリッターガラス漏斗でろ過した。ろ液（シクロヘキサン、エナミン生成物、及び過剰の３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンを含む）を、水素化Ｐａｒｒシェーカー上、６５ｐｓｉの水素圧力下、活性炭（４ｇ）上で１０％Ｐｄの存在下、水素化反応に付した。反応混合物を室温で一晩振盪させた。反応混合物を次いでセライト（Ｃｅｌｉｔｅ（登録商標））の床上にろ過し、ろ液を濃縮してシクロヘキサン溶媒を除去した。得られた油（過剰の３，３，５−トリメチルシクロヘキサノン、水素化エナミン生成物、及び３，３，５−トリメチルシクロヘキシルピペリジンを含む）を３００ｍＬのＨＣｌの３Ｍ水溶液で処理した。混合物を約１５分間氷浴中で攪拌し、次いで３００ｍＬのジエチルエーテルを添加した。有機相を集め、濃縮してジエチルエーテルを除去し、過剰の３，３，５−トリメチルシクロヘキサノンを回収した。水相を、ｐＨが約１０になるまで、氷浴中、ＮａＯＨの５０重量％水溶液を滴下して処理した。混合物を約３０分間０℃で攪拌させた。次いで混合物をジエチルエーテルで抽出した。エーテル抽出物を無水ＭｇＳＯ_４で乾燥し、ろ過し、ロータリーエバポレータで減圧下で濃縮して、３８ｇの黄色がかった油状の刺激臭のある物質を得た。ＮＭＲ解析では少量の不純物（ピペリジン）の存在を示した。その油をさらに精製することなく次の工程（四級化）に直接用いた。

ＩＩ．四級化（１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムヨーダイドの合成）：３００ｍＬオートクレーブに、１３ｇの先に合成した油状生成物、８ｇ（０．０７９モル）の重炭酸カリウム、及び２３ｇ（０．１２４モル）の１−ヨードブタンを入れた。この混合物に、５０ｍＬの無水アセトニトリルを添加した。オートクレーブを封じ、オーバーヘッドスターラーと加熱スリーブを取り付け、８０℃に加熱した。反応混合物を８０℃で、自己生成的圧力下、４８時間攪拌させた。ＮＭＲ解析は反応が不完全であることを示した。次いで、追加の等量（１１．５ｇ）の１−ヨードブタンを添加し、反応を再び８０℃にまで加熱し、さらに２４時間攪拌させた。反応混合物を次いで冷却し、丸底フラスコに移し、ロータリーエバポレータで減圧下で濃縮してアセトニトリルを除去した。得られた残渣物を５００ｍＬのクロロホルムに溶解し、混合物をろ過して無機塩を除去した。所望の有機塩を含むクロロホルム層、未反応アミン及び過剰のヨウ化物をロータリーエバポレータで減圧下濃縮した。得られたスラリー様材料をジエチルエーテルで十分にすすいで未反応アミン、過剰のヨウ化物及び所望の塩以外の有機物を除去した。次いで混合物をろ過した。フィルターケーキを集め、ジエチルエーテルで再度洗い、乾燥して、１８ｇの黄褐色の固体を得た。固体をイソブチルエーテルから再結晶した。再結晶により１６．５ｇのオフホワイトの結晶が得られた。これらの結晶をイソプロピルアルコールに溶解し、次いでジエチルエーテルをゆっくり加えながら沈殿させることにより、もう一度再結晶し、１４．７ｇの白い結晶を得た。ＮＭＲ解析により、生成物は所望の１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムヨーダイドであることが示された。

ＩＩＩ．イオン交換（１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムヒドロキシドの合成）：１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムヨーダイド塩（１２ｇ、３０ミリモル）を１００ｍＬ容積プラスチック容器中３０ｍＬの脱イオン水に溶解した。この溶液に、３７．５ｇのアニオン交換樹脂−ＯＨ（バイオラッドＡＧ（ＢＩＯ−ＲＡＤ ＡＧ）（登録商標）１−Ｘ８）を加え、混合物を数時間熱水浴中で攪拌し、次いで室温で一晩攪拌させた。混合物を次いで約８０℃に暖め、その温度で１時間攪拌し、次いでろ過した。イオン交換樹脂を１５ｍＬの脱イオン水を追加してすすいだ。最初のろ液とすすぎ液を混合して、少量を０．１Ｎ ＨＣｌで滴定したところ、溶液中に２４モルの水酸化物（２４モルの１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムヒドロキシド）の存在、又は０．４３Ｍの水酸化物イオン濃度を示した。

以下のスキーム１はＳＤＡの合成を示す。

実施例２
Ａｌ−ＳＳＺ−５６の合成
２３ｍＬテフロン（登録商標）ライナーに、５．２ｇの実施例１で調製したＳＤＡの水酸化物溶液、及び１．５ｇの１Ｎ ＮａＯＨ水溶液を入れた。次いで脱イオン水を、全溶液重量が７．６ｇになるまで加えた。この溶液に、０．２６ｇのゼオライトＬＺ−５２（ユニオンカーバイド社）を添加し十分に混合した。最後に０．８ｇのＣＡＢ−Ｏ−ＳＩＬ（登録商標）Ｍ−５（キャボット社）をゆっくりと加え、ゲルを十分に混合した。次いでテフロン（登録商標）ライナーをキャップしオートクレーブ中に封じて、１６０℃の対流オーブンの中に置いた。オートクレーブを加熱オーブン中、１５日にわたって４３ｒｐｍで回転ドラムにかけた。反応の進行をＳＥＭでモニターした。結晶化が終われば、オートクレーブをその後取り外し、室温にまで冷却させた。次いで固形物をろ過により除去し脱イオン水で十分に洗った。次いで固形物を室温で、その後１１５℃で２時間オーブンで乾燥させた。得られた生成物の粉末ＸＲＤパターンを図１に示すが、これは生成物がＳＳＺ−５６であることを示した。ＳＥＭ顕微鏡写真は、Ａｌ−ＳＳＺ−５６結晶が針状の形態を有していることを示している（図２及び図３参照）。対照的に、Ｂ−ＳＳＺ−５６結晶は平板状の形態を有していることが報告されており、平板の長さは平板の幅の約２倍、平板の厚さの約１０倍である（Ｓ．Ｅｌｏｍａｒｉら Ｍｉｃｒｏｐｏｒｏｕｓ Ｍｅｓｏｐｏｒｏｕｓ Ｍａｔｅｒ．２００９，１１８，３２５−３３３参照）。

実施例３
Ａｌ−ＳＳＺ−５６の種結晶合成
実施例２を繰り返したが、先の合成から得られた５０ｍｇのＡｌ−ＳＳＺ−５６を反応混合物に種結晶として加えた。反応により８日間で純粋なＡｌ−ＳＳＺ−５６が得られたが、種結晶なしでは１５日であった。

実施例４
Ａｌ−ＳＳＺ−５６のか焼
実施例２の生成物を１℃／分の割合で５９５℃に加熱し、５９５℃で５時間保持した２％酸素／９８％窒素の気流下でマッフル炉内でか焼し、冷却し、次いで粉末ＸＲＤにより分析した。か焼物のＸＲＤパターンを図４に示す。ＸＲＤパターンはその材料がか焼後も安定を維持し有機ＳＤＡを除去したことを示している。

本明細書及び添付の特許請求の範囲の目的のために、断りがなければ、量、パーセンテージ、又は割合を示すすべての数字、並びに本明細書及び特許請求の範囲で使用される他の数値は、「約」という用語により、すべての例で修飾されるものと理解されるべきである。従って、そうでないとの断りがなければ、以下の明細書及び添付の特許請求の範囲で示される数値パラメータは、得ようとする所望の特性に応じて変更しうる概数である。本明細書及び添付の特許請求の範囲で使用されるように、単数形「ａ」、「ａｎ」及び「ｔｈｅ」は明示的にはっきりと一つの参照に制限されるというのでなければ、複数形の参照を包含するものであることは留意されるべきである。本明細書に使用されるものとして、「含む」という用語及びその文法的変形は、非制限的であることを意図しており、リストに品目を列挙されたからといって、その列挙された品目に置き換わる又は追加することのできる他の同様の品目を除外することを意図するものではない。本明細書に使用されるものとして、「含む」という用語はその用語の後に同定される要素又は工程を包含することを意味するが、そのような要素又は工程のいずれもそれらがすべてということではなく、或る実施態様は他の要素又は工程を包含することができる。

特に断りがない限り、個々の成分又は成分の混合物を選択することのできる一つの属の要素、材料又は他の成分を記載することは、列挙された成分及びその混合物のすべての可能性のある下位の属の組み合わせを包含することを意図している。

特許可能な範囲は特許請求の範囲により規定され、当業者に想到される他の実施例を包含する。そのような他の実施例は、それらが特許請求の範囲の文言と相違することのない構造的な要素を有しているのであれば、又はそれらが特許請求の範囲の文言と非実質的な相違しかない等価な構造的要素を含んでいるのであれば、特許請求の範囲内にあると意図される。本明細書と矛盾しない限りは、本明細書中で参照されるすべての引用は参照することにおいて本明細書に取り込まれるものとする。

Claims (7)

1. 結晶化条件下で、（１）少なくとも１種のケイ素源；（２）少なくとも１種のアルミニウム源；（３）水酸化物イオン；及び（４）１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムカチオンを接触させることを含むアルミノシリケートゼオライトＳＳＺ−５６を調製する方法。
2. ゼオライトが、モル比で以下を含む反応混合物から調製される、請求項１記載の方法。
   
   ここでＱは１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムカチオンであり、Ｍは周期表の１族及び２族からの元素からなる群から選ばれる。
3. ゼオライトが、モル比で以下を含む反応混合物から調製される、請求項１記載の方法。
   
   ここでＱは１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムカチオンであり、Ｍは周期表の１族及び２族からの元素からなる群から選ばれる。
4. ゼオライトがそのか焼された形態で、以下の表で実質的に示されるＸ線回折パターンを有する、請求項１記載の方法。
   
5. 合成されたままの無水状態で、モル比で以下のような組成を有するアルミノシリケートＳＳＺ−５６ゼオライト。
   
   ここでＱは１−ブチル−１−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシル）ピペリジニウムカチオンであり、Ｍは周期表の１族及び２族からの元素からなる群から選ばれる。
6. ゼオライトが、合成されたままの無水状態で、モル比で以下のような組成を有する、請求項５記載のアルミノシリケートＳＳＺ−５６ゼオライト。
   
7. ゼオライトがその合成されたままの形態で、以下の表で実質的に示されるＸ線回折パターンを有する、請求項５記載のアルミノシリケートＳＳＺ−５６ゼオライト。