JP2015518183A5

JP2015518183A5 -

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Publication number: JP2015518183A5
Application number: JP2015514406A
Authority: JP
Filing date: 2013-05-13
Publication date: 2016-02-18
Anticipated expiration: 2033-05-13

Claims

個別にパターン化された異方性を有する素子を製造するための装置（３０、４０、６０、７０、９０）であり、
− 基板のための支持体（３７、４７、６４、６５、７４、７５）と、
− 第１の偏光面を有する空間変調されたアライニング光を提供する露光ユニット（１０、２０、３１、４１、６１、７１）と、を備え、
前記露光ユニットが、
− 光源（１１、２２）と、
− 空間光変調器（１２、２１）であって、電子的に制御が可能である空間光変調器と、
− 投影レンズ（１３、２３）と、
を収容する
装置。
第２の偏光面を有するアライニング光を提供する手段（１４、２４、４２、６２、７２）を備える、
請求項１に記載の装置。
前記ＳＬＭ露光ユニット（１０、２０、３１）が、第１の、及び、第２の偏光面を有するアライニング光を提供することができる、
請求項２に記載の装置。
前記偏光面の変化が電子的に制御が可能である、
請求項３に記載の装置。
偏光光を提供する追加的な光源（４２、６２、７２）を備える、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
コーティング、又は、印刷ユニット（３３、３４、４３、４４、７６、７７）を追加的に備える、
請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置。
基板を加熱する手段（３５、４５、７８、７９）を追加的に備える、
請求項１〜６のいずれか１項に記載の装置。
パージユニット（８２）を追加的に備える、
請求項１〜７のいずれか１項に記載の装置。
前記パターン化された異方性を有する素子を製造するための
請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置の使用。
個別にパターン化された異方性を有する素子を高速に製造するための方法であって、
− ＬＣＭＯ層を準備する工程と、
− 第１の偏光面を有するＳＬＭ露光ユニット（１０、２０、３１、４１、６１、７１）の空間変調されたアライニング光に前記ＬＣＭＯ層を暴露する工程と、
を含む方法。
前記ＬＣＭＯ層が、第２の偏光面を有するアライニングに追加的に暴露される、
請求項１０に記載の方法。
前記ＳＬＭ露光ユニット（６１、７１）、及び、基板（６３、７３）の投影エリアが、前記ＳＬＭ露光ユニットの前記アライニング光への前記ＬＣＭＯ層の暴露の間、互いに対して移動し、前記ＬＣＭＯ層に投射されることになるパターンが前記ＳＬＭの各ピクセルを横切ってスクロールするように前記ＳＬＭ（１）がアドレスされる、
請求項１０〜１１のいずれか１項に記載の方法。
前記ＳＬＭ露光ユニットの空間変調されたアライニング光が、前記ＬＣＭＯ層上へ斜めに入射する、
請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の方法。
前記ＬＣＭＯ層が、斜めに入射する偏光、又は、非偏光化学線光に追加的に暴露される、
請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の方法。
３５０nm〜４２０nmの領域内の少なくとも１つの波長が存在し、該波長に対して、前記ＬＣＭＯ層が、２００［１/cm］より大きい、より好ましくは２０００［１/cm］より大きい、最も好ましくは２００００［１/cm］より大きい、吸収係数を有する、
請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の方法。
後続の工程で、従材料が、照射された前記ＬＣＭＯ層上に適用される、
請求項１０〜１５のいずれか１項に記載の方法。
前記従材料が、液晶ポリマー材料である、
請求項１６に記載の方法。
追加的な工程で、非重合材料が、前記従材料から除去される、
請求項１６又は１７のいずれか１項に記載の方法。
光学、及び／又は、電気−光学デバイスでの、請求項１０〜１８の方法のいずれかに従って製造された素子の使用。
光学セキュリティ素子としての、請求項９〜１８の方法のいずれかに従って製造された素子の使用。