JP2012018292A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 入射光を光学的に変調して、前記入射光が変調された変調光を射出する反射型光変調素子と、光源から射出された前記入射光を透過させるとともに前記変調光を投射光学素子に向けて反射する反射型偏光板と、を備える投射装置の製造方法であって、
   前記反射型光変調素子と、前記反射型偏光板とを備え、前記反射型光変調素子と前記反射型偏光板とが所定の相対位置に固定されている変調素子ユニットを形成するユニット形成工程と、
   前記投射光学素子に対して前記変調素子ユニットの位置を移動させることによって、前記投射光学素子に対して、前記反射型光変調素子の位置を調整する位置調整工程と、を有し、
   前記位置調整工程では、６軸の調整を実施し、軸まわりの回動方向の位置調整は、前記反射型偏光板による前記反射型光変調素子の虚像における前記反射型光変調素子の中心において互いに交差する３軸のそれぞれの軸まわりの回動方向の位置を調整することを特徴とする投射装置の製造方法。
2. 入射光を光学的に変調して、前記入射光が変調された変調光を射出する反射型光変調素子と、光源から射出された前記入射光を透過させるとともに前記変調光を投射光学素子に向けて反射する反射型偏光板と、を備える投射装置の製造装置であって、
   前記反射型光変調素子と前記反射型偏光板とが所定の位置関係に固定された変調素子ユニットを保持するユニット保持手段と、
   前記投射光学素子に対して、前記ユニット保持手段に保持された前記変調素子ユニットの位置を移動させることによって、前記投射光学素子に対して、前記反射型光変調素子の位置を調整する位置調整手段と、を備えることを特徴とする投射装置の製造装置。
3. 前記位置調整手段は、６軸の調整を実施し、軸まわりの回動方向を調整する際の３本の回動軸は、調整中心において互いに交差しており、
   前記ユニット保持手段は、前記反射型偏光板による前記反射型光変調素子の虚像における前記反射型光変調素子の中心を、前記調整中心に、位置させて前記変調素子ユニットを保持することを特徴とする、請求項２に記載の投射装置の製造装置。
4. 入射光を光学的に変調して、前記入射光が変調された変調光を射出する反射型光変調素子と、
   光源から射出された前記入射光を透過させるとともに前記変調光を投射光学素子に向けて反射する反射型偏光板と、
   前記反射型光変調素子と前記反射型偏光板とが固定されており、固定されることによって、前記反射型光変調素子と前記反射型偏光板との互いの位置関係が所定の位置関係に維持される変調素子枠と、
   前記変調素子枠を前記投射光学素子に対して位置調整可能であると共に、前記変調素子枠に固定された前記反射型光変調素子及び前記反射型偏光板の前記投射光学素子に対する位置を、固定手段によって固定可能に支持する調整支持手段と、を備え、
   前記調整支持手段は、前記固定手段によって固定されていない状態では、前記反射型偏光板による前記反射型光変調素子の虚像における前記反射型光変調素子の中心において互いに直交する３軸まわりに回動可能に前記変調素子枠を支持していることを特徴とする投射装置。
5. 前記調整支持手段は、前記反射型偏光板による前記反射型光変調素子の虚像における前記反射型光変調素子の中心を通って互いに交差する３軸のいずれか１軸が前記調整支持手段を貫通する位置に配設されていることを特徴とする請求項４に記載の投射装置。