JP2015517729A5 - - Google Patents
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- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102012207377A DE102012207377A1 (de) | 2012-05-03 | 2012-05-03 | Beleuchtungsoptik sowie optisches System für die EUV-Projektionslithographie |
| DE102012207377.9 | 2012-05-03 | ||
| US201261642683P | 2012-05-04 | 2012-05-04 | |
| US61/642,683 | 2012-05-04 | ||
| PCT/EP2013/058171 WO2013164207A1 (en) | 2012-05-03 | 2013-04-19 | Illumination optical unit and optical system for euv projection lithography |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015517729A JP2015517729A (ja) | 2015-06-22 |
| JP2015517729A5 true JP2015517729A5 (enExample) | 2016-05-26 |
| JP5979693B2 JP5979693B2 (ja) | 2016-08-24 |
Family
ID=49384467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015509363A Active JP5979693B2 (ja) | 2012-05-03 | 2013-04-19 | Euv投影リソグラフィのための照明光学ユニット及び光学系 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20150042974A1 (enExample) |
| JP (1) | JP5979693B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102092365B1 (enExample) |
| DE (1) | DE102012207377A1 (enExample) |
| TW (2) | TWI633399B (enExample) |
| WO (1) | WO2013164207A1 (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102012207377A1 (de) | 2012-05-03 | 2013-11-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik sowie optisches System für die EUV-Projektionslithographie |
| DE102014203188A1 (de) * | 2014-02-21 | 2015-08-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Beleuchtung eines Objektfeldes einer Projektionsbelichtungsanlage |
| WO2016128253A1 (de) * | 2015-02-11 | 2016-08-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die euv-projektionslithografie |
| US9875534B2 (en) * | 2015-09-04 | 2018-01-23 | Kla-Tencor Corporation | Techniques and systems for model-based critical dimension measurements |
| DE102016222033A1 (de) | 2016-11-10 | 2016-12-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Zuordnung von Feldfacetten zu Pupillenfacetten zur Schaffung von Beleuchtungslicht-Ausleuchtungskanälen in einem Be-leuchtungssystem in einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage |
| EP3453317B1 (en) * | 2017-09-08 | 2021-07-14 | Tobii AB | Pupil radius compensation |
| DE102019214269A1 (de) * | 2019-09-19 | 2021-03-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Facettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102020210829A1 (de) | 2020-08-27 | 2022-03-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Pupillenfacettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage |
| DE102021203961B3 (de) | 2021-04-21 | 2022-08-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Pupillenblende für eine Beleuchtungsoptik eines Metrologiesystems, Beleuchtungsoptik und Metrologiesystem |
| DE102021120952B3 (de) * | 2021-08-11 | 2022-11-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Korrektur eines Telezentriefehlers einer Abbildungsvorrichtung und Maskeninspektionsmikroskop |
| DE102021213827A1 (de) * | 2021-12-06 | 2023-06-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Optimierung einer Pupillen-Blendenform zur Nachbildung von Beleuchtungs- und Abbildungseigenschaften eines optischen Produktionssystems bei der Beleuchtung und Abbildung eines Objekts mittels eines optischen Messsystems |
Family Cites Families (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3259373B2 (ja) | 1992-11-27 | 2002-02-25 | 株式会社日立製作所 | 露光方法及び露光装置 |
| US5680588A (en) * | 1995-06-06 | 1997-10-21 | International Business Machines Corporation | Method and system for optimizing illumination in an optical photolithography projection imaging system |
| US6859515B2 (en) | 1998-05-05 | 2005-02-22 | Carl-Zeiss-Stiftung Trading | Illumination system, particularly for EUV lithography |
| DE10138313A1 (de) | 2001-01-23 | 2002-07-25 | Zeiss Carl | Kollektor für Beleuchtugnssysteme mit einer Wellenlänge < 193 nm |
| US6573975B2 (en) * | 2001-04-04 | 2003-06-03 | Pradeep K. Govil | DUV scanner linewidth control by mask error factor compensation |
| US7042550B2 (en) * | 2002-11-28 | 2006-05-09 | Asml Netherlands B.V. | Device manufacturing method and computer program |
| JP2004252358A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Canon Inc | 反射型投影光学系及び露光装置 |
| EP2189848B1 (en) * | 2004-07-14 | 2012-03-28 | Carl Zeiss SMT GmbH | Catadioptric projection objective |
| JP4701030B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2011-06-15 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光パラメータを設定する設定方法、露光方法、デバイス製造方法及びプログラム |
| DE102006059024A1 (de) * | 2006-12-14 | 2008-06-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, Beleuchtungsoptik für eine derartige Projektionsbelichtungsanlage, Verfahren zum Betrieb einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils sowie durch das Verfahren hergestelltes mikrostrukturiertes Bauteil |
| US8937706B2 (en) * | 2007-03-30 | 2015-01-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
| DE102007019570A1 (de) | 2007-04-25 | 2008-10-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Spiegelanordnung, Kontaktierungsanordnung und optisches System |
| JP2009043933A (ja) | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Canon Inc | 露光装置、調整方法、露光方法及びデバイス製造方法 |
| US20090097001A1 (en) * | 2007-10-15 | 2009-04-16 | Qimonda Ag | Non-Telecentric Lithography Apparatus and Method of Manufacturing Integrated Circuits |
| DE102008000990B3 (de) | 2008-04-04 | 2009-11-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Vorrichtung zur mikrolithographischen Projektionsbelichtung und Verfahren zum Prüfen einer derartigen Vorrichtung |
| DE102008001511A1 (de) * | 2008-04-30 | 2009-11-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithografie sowie Beleuchtungssystem und Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Beleuchtungsoptik |
| DE102008042438B4 (de) * | 2008-09-29 | 2010-11-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens zwei Arbeitszuständen |
| JP6041304B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2016-12-07 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | Euvマイクロリソグラフィ用の照明光学系、この種の照明光学系用のeuv減衰器、及びこの種の照明光学系を有する照明系及び投影露光装置 |
| DE102010003167A1 (de) | 2009-05-29 | 2010-10-14 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zum Betreiben einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Beleuchtungseinrichtung |
| CN102472974B (zh) * | 2009-07-17 | 2014-05-07 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 微光刻投射曝光设备以及测量有关包含在其中的光学表面的参数的方法 |
| DE102009054540B4 (de) | 2009-12-11 | 2011-11-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithographie |
| CN102695988B (zh) | 2009-12-23 | 2015-09-02 | Asml荷兰有限公司 | 光刻设备以及器件制造方法 |
| DE102010029765A1 (de) | 2010-06-08 | 2011-12-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie |
| JP5830089B2 (ja) * | 2010-06-15 | 2015-12-09 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | Euvリソグラフィ用のマスク、euvリソグラフィシステム、及びマスクの結像を最適化する方法 |
| DE102010041746A1 (de) * | 2010-09-30 | 2012-04-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage der EUV-Mikrolithographie und Verfahren zur mikrolithographischen Belichtung |
| DE102012207377A1 (de) | 2012-05-03 | 2013-11-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik sowie optisches System für die EUV-Projektionslithographie |
-
2012
- 2012-05-03 DE DE102012207377A patent/DE102012207377A1/de not_active Ceased
-
2013
- 2013-04-19 KR KR1020147033758A patent/KR102092365B1/ko active Active
- 2013-04-19 JP JP2015509363A patent/JP5979693B2/ja active Active
- 2013-04-19 WO PCT/EP2013/058171 patent/WO2013164207A1/en not_active Ceased
- 2013-05-02 TW TW106136162A patent/TWI633399B/zh active
- 2013-05-02 TW TW102115781A patent/TWI607286B/zh active
-
2014
- 2014-10-09 US US14/510,725 patent/US20150042974A1/en not_active Abandoned
-
2019
- 2019-10-10 US US16/598,408 patent/US10976668B2/en active Active
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