JP2015511398A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015511398A5 JP2015511398A5 JP2014553736A JP2014553736A JP2015511398A5 JP 2015511398 A5 JP2015511398 A5 JP 2015511398A5 JP 2014553736 A JP2014553736 A JP 2014553736A JP 2014553736 A JP2014553736 A JP 2014553736A JP 2015511398 A5 JP2015511398 A5 JP 2015511398A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deformation
- optical element
- temperature control
- channel
- medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims description 14
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide Chemical group O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006011 modification reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
[0052] 図５（ａ）及び図５（ｂ）は、リソグラフィ装置部が光学要素を備える本発明の別の実施形態を示す。この実施形態では、光学要素はミラーである。この実施形態では、ミラーはガラス又はセラミック材料などの熱膨張係数（ＣＴＥ）が小さい材料で形成されたミラー本体ＭＢを含んでもよい。光学要素は金属から形成されてもよい。ミラー本体ＭＢの１つの表面には、従来技術で公知の反射コーティングを施してもよい。ミラー本体は、ミラー本体ＭＢの表面付近へ平行に進展する２つのチャネルＣＨ ＡとＣＨ Ｂとを備える。水でもよいが、好ましくは、ＣＯ２などの二相媒体である温度制御媒体が２つのチャネルＣＨ Ａ及びＣＨ Ｂを通過する。チャネルＣＨ Ａを流れる温度制御媒体の温度がチャネルＣＨ Ｂを流れる温度制御媒体の温度と同じ場合、ミラーは図５（ａ）に示すように平坦なままである。しかしながら、一方のチャネル内の温度制御媒体の温度と他方のチャネル内の温度制御媒体の温度とが異なる場合、ミラーは変形する。例えば、図５（ｂ）は、ＣＨ Ａ内の温度がＣＨ Ｂよりも小さい場合の変形を示す。
[0073] 本発明の幅及び範囲は、上述した例示的な実施形態のいずれによっても限定されず、特許請求の範囲及びその同等物によってのみ規定されるものである。
Claims (15)
- リソグラフィ装置の光学要素であって、前記光学要素が、当該光学要素に温度制御媒体を提供するチャネルを備え、前記媒体が二相媒体であり、前記チャネルがヒートパイプとして機能する、リソグラフィ装置の光学要素。
- 前記二相媒体が二酸化炭素である、請求項１に記載の装置。
- 少なくともいくつかの前記チャネルが前記コンポーネントの表面付近に提供される、請求項１に記載の装置。
- 前記チャネルが、前記コンポーネントの表面に平行に提供される、請求項１に記載の装置。
- 前記チャネルがチャネルグループにグループ化され、各グループが自身の温度制御システムを備える、請求項１又は２に記載の装置。
- 前記装置が変形測定システムを備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
- 前記変形測定システムが、
前記装置のフレームの第１部分に提供された第１電極と、前記装置の第２部分に提供された第２電極と、を備える容量センサを備え、
前記容量センサが、前記電極間の変位を決定して前記装置の変形を決定する、請求項４に記載の装置。 - 前記変形測定システムが、変形を測定する干渉計を備える、請求項４に記載の装置。
- 前記装置が、前記変形測定システムに動作可能に接続された変形コントローラを備え、前記温度制御システムが、チャネルグループ内の前記二相媒体の圧力を調整するように構築されプログラミングされた圧力制御システムであって、前記変形測定システムによる前記測定された変形の関数としての前記チャネルグループの温度を調整する圧力制御システムである、請求項４〜６のいずれか１項に記載の装置。
- 前記温度制御媒体が、画像形成に使用される前記光学要素の領域にのみ提供される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置。
- 前記光学要素がミラーであり、前記温度制御媒体が、それぞれのチャネルに異なる温度で供給されて、前記ミラーの変形を制御する、請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置。
- 光学要素の変形が、画像の光学パラメータを決定することによって間接的に決定され、かつ、前記パラメータ内にエラーが検出された場合に、温度制御システムにフィードバックされて補正調整を実行するための補正信号を生成することによって間接的に決定され得る、請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
- ミラーの変形が、ｎ自由度で制御される１＋ｎ個（ｎは整数）の二相流体圧力制御ループを備える、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の装置。
- 請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光学要素を含む、リソグラフィ装置。
- 前記光学要素の変形が、画像の光学パラメータを決定することによって間接的に決定され、かつ、前記パラメータ内にエラーが検出された場合に、温度制御システムにフィードバックされて補正調整を実行するための補正信号を生成することによって間接的に決定され得る、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201261592243P | 2012-01-30 | 2012-01-30 | |
| US61/592,243 | 2012-01-30 | ||
| US201261652924P | 2012-05-30 | 2012-05-30 | |
| US61/652,924 | 2012-05-30 | ||
| US201261710288P | 2012-10-05 | 2012-10-05 | |
| US61/710,288 | 2012-10-05 | ||
| PCT/EP2013/051480 WO2013113634A2 (en) | 2012-01-30 | 2013-01-25 | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015511398A JP2015511398A (ja) | 2015-04-16 |
| JP2015511398A5 true JP2015511398A5 (ja) | 2016-03-10 |
| JP6140191B2 JP6140191B2 (ja) | 2017-05-31 |
Family
ID=47666109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014553736A Expired - Fee Related JP6140191B2 (ja) | 2012-01-30 | 2013-01-25 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9618859B2 (ja) |
| JP (1) | JP6140191B2 (ja) |
| NL (1) | NL2010185A (ja) |
| WO (1) | WO2013113634A2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104081283A (zh) | 2012-01-30 | 2014-10-01 | Asml荷兰有限公司 | 具有用于测量衬底台的位置的计量系统的光刻装置 |
| DE102014203144A1 (de) * | 2014-02-21 | 2015-08-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe eines optischen Systems, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
| WO2016020170A1 (en) * | 2014-08-06 | 2016-02-11 | Asml Netherlands B.V. | A lithographic apparatus and an object positioning system |
| CN109856921A (zh) * | 2017-11-30 | 2019-06-07 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 光刻装置及其主基板结构与主基板单元 |
| CN109900199B (zh) * | 2019-03-25 | 2021-03-30 | 西安电子科技大学 | 一种用于管道形变检测的弯曲传感器结构及方法 |
| CN110763357A (zh) * | 2019-11-08 | 2020-02-07 | 江苏科技大学 | 一种电容式温度传感器及使用方法 |
| DE102019219179A1 (de) * | 2019-12-09 | 2021-06-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element und Lithographiesystem |
| DE102021200604A1 (de) * | 2021-01-25 | 2022-07-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches system, lithographieanlage und verfahren |
| KR20230131202A (ko) * | 2021-01-28 | 2023-09-12 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 광학 시스템 및 광학 시스템을 동작시키는 방법 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3149472B2 (ja) | 1991-08-30 | 2001-03-26 | 株式会社ニコン | 走査露光装置および物体の移動測定装置 |
| JPH07270122A (ja) | 1994-03-30 | 1995-10-20 | Canon Inc | 変位検出装置、該変位検出装置を備えた露光装置およびデバイスの製造方法 |
| WO1999026278A1 (fr) | 1997-11-14 | 1999-05-27 | Nikon Corporation | Dispositif d'exposition, procede de fabrication associe, et procede d'exposition |
| JPH11243052A (ja) | 1997-11-14 | 1999-09-07 | Nikon Corp | 露光装置 |
| DE10046379A1 (de) | 2000-09-20 | 2002-03-28 | Zeiss Carl | System zur gezielten Deformation von optischen Elementen |
| US20040244963A1 (en) * | 2003-06-05 | 2004-12-09 | Nikon Corporation | Heat pipe with temperature control |
| US20050057102A1 (en) | 2003-09-11 | 2005-03-17 | Nikon Corporation | Holding member, coolant, cooling method and cooling device, linear motor device, stage device, and exposure apparatus |
| US7102729B2 (en) | 2004-02-03 | 2006-09-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, measurement system, and device manufacturing method |
| CN101322077A (zh) * | 2005-11-30 | 2008-12-10 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 局部控制热流以便更精确地调控机器温度 |
| US20080073563A1 (en) * | 2006-07-01 | 2008-03-27 | Nikon Corporation | Exposure apparatus that includes a phase change circulation system for movers |
| US8687166B2 (en) | 2007-05-24 | 2014-04-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus having an encoder position sensor system |
| US7740362B1 (en) * | 2008-02-19 | 2010-06-22 | Jefferson Science Associates | Mirror with thermally controlled radius of curvature |
| JP5713904B2 (ja) | 2008-09-30 | 2015-05-07 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 投影システムおよびリソグラフィ装置 |
| DE102009039400A1 (de) | 2009-08-31 | 2011-03-03 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Reflektives optisches Element zur Verwendung in einem EUV-System |
| US8767174B2 (en) | 2010-02-18 | 2014-07-01 | Nikon Corporation | Temperature-controlled holding devices for planar articles |
| NL2006809A (en) * | 2010-06-23 | 2011-12-27 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and lithographic apparatus cooling method. |
| NL2007155A (en) | 2010-08-25 | 2012-02-28 | Asml Netherlands Bv | Stage apparatus, lithographic apparatus and method of positioning an object table. |
| EP2515170B1 (en) | 2011-04-20 | 2020-02-19 | ASML Netherlands BV | Thermal conditioning system for thermal conditioning a part of a lithographic apparatus and a thermal conditioning method |
| CN104081283A (zh) | 2012-01-30 | 2014-10-01 | Asml荷兰有限公司 | 具有用于测量衬底台的位置的计量系统的光刻装置 |
-
2013
- 2013-01-25 NL NL2010185A patent/NL2010185A/en not_active Application Discontinuation
- 2013-01-25 JP JP2014553736A patent/JP6140191B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2013-01-25 US US14/375,457 patent/US9618859B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2013-01-25 WO PCT/EP2013/051480 patent/WO2013113634A2/en active Application Filing
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2015511398A5 (ja) | ||
| JP7008499B2 (ja) | 校正データ作成装置及び校正データ作成方法、並びに、流量制御装置 | |
| JP5209232B2 (ja) | 熱式流量計 | |
| US8351141B2 (en) | Drive device | |
| US20090025473A1 (en) | Flow Rate Detection Method and Flow Rate Detection Apparatus Using a Heat Signal | |
| JP2009224806A5 (ja) | ||
| JP4859107B2 (ja) | 熱式流量計 | |
| JP2007139672A (ja) | 流体計測装置及び流体計測方法 | |
| JP6594250B2 (ja) | 温度計測装置及び温度計測方法 | |
| JP6579378B2 (ja) | 異常温度検出回路 | |
| CN108303151B (zh) | 流体参数的测量和用于流体参数的测量的传感器装置 | |
| JP2014178669A (ja) | 画像形成装置 | |
| JP6460911B2 (ja) | 熱式マスフローコントローラ及びその傾斜誤差改善方法 | |
| JP5698804B2 (ja) | 温度調節機能を備えた射出成形機の型締装置 | |
| JP6475081B2 (ja) | 熱式流量計及びその傾斜誤差改善方法 | |
| KR101912681B1 (ko) | 외력 보상이 가능한 차압식 유량계 및 차압식 질량 유량 조절계 | |
| JP5178261B2 (ja) | 熱式流量計 | |
| JP5178263B2 (ja) | 熱式流量計およびその初期調整方法と初期調整装置 | |
| KR20070115480A (ko) | 열식 질량유량 계측장치 | |
| JP2015087112A (ja) | 薬液温度計測装置 | |
| JP5178262B2 (ja) | 熱式流量計およびその初期調整方法と初期調整装置 | |
| JP2009229092A (ja) | 熱式流量計およびその初期調整方法 | |
| JP6434238B2 (ja) | 流量計および補正値算出方法 | |
| JP2016217813A (ja) | 熱式流量計及びその傾斜誤差改善方法 | |
| JP2009243958A (ja) | 熱式流量計 |