JP2015511398A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本出願は、2012年1月30日出願の米国仮出願第61/592,243号、2012年5月30日出願の米国仮出願第61/652,924号及び2012年10月5日出願の米国仮出願第61/710,288号の利益を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
1.基準に対して少なくとも1つの可動アイテムの位置を測定するメトロロジシステムであって、
前記基準に接続されたメトロロジフレームと、
前記可動アイテムに接続されたエンコーダであって、基準格子に対する当該エンコーダの相対位置を測定するように構築され配置され、前記基準格子が前記メトロロジフレームの表面上に直接提供される、エンコーダと、を備えるメトロロジシステム。
2.前記メトロロジフレームが、前記メトロロジフレームに温度制御媒体を提供するチャネルを備える、条項1に記載のメトロロジシステム。
3.前記媒体が二相媒体であり、前記チャネルがヒートパイプとして機能する、条項2に記載のメトロロジシステム。
4.前記二相媒体が二酸化炭素である、条項3に記載のメトロロジシステム。
5.前記チャネルが、前記メトロロジフレームの表面付近に提供される、条項2〜4のいずれか1項に記載のメトロロジシステム。
6.前記チャネルがチャネルグループにグループ化され、各グループが自身の温度制御システムを備える、条項2〜5のいずれか1項に記載のメトロロジシステム。
7.前記メトロロジフレームが、前記メトロロジフレームの変形を測定する変形測定システムを備える、条項1〜6のいずれか1項に記載のメトロロジシステム。
8.前記変形測定システムが、前記メトロロジフレームの第1部分に提供された第1電極と、前記メトロロジフレームの第2部分に提供された第2電極と、を備える容量センサを備え、前記容量センサが前記電極間の変位を決定して前記メトロロジフレームの変形を決定する、条項7に記載のメトロロジシステム。
9.前記変形測定システムが、前記メトロロジフレームの変形を測定する干渉計を備える、条項7に記載のメトロロジシステム。
10.前記装置が、前記変形測定システムに動作可能に接続された変形コントローラを備え、前記温度制御システムがチャネルグループ内の前記二相媒体の圧力を調整するように構築されプログラミングされ、前記変形測定システムによる前記変形測定値の関数としての前記チャネルグループの温度を調整する圧力制御システムである、条項6に従属する、条項7〜9のいずれか1項に記載のメトロロジシステム。
11.前記メトロロジフレームが、アルミニウムなどの金属を含む、条項1〜10のいずれか1項に記載のメトロロジシステム。
12.前記基準格子は前記メトロロジフレームにエッチングされる、条項1〜11のいずれか1項に記載のメトロロジシステム。
13.前記メトロロジフレームが、前記基準格子の最上部に保護層を備える、条項1〜12のいずれか1項に記載のメトロロジシステム。
14.条項1〜13のいずれか1項に記載のメトロロジシステムを備えるリソグラフィ投影装置であって、前記可動アイテムが基板テーブルであり、前記基準位置が投影システムであり、前記メトロロジシステムを用いて前記投影システムに対する前記基板テーブルの位置が測定される、リソグラフィ投影装置。
15.基板テーブルに提供された基板上にメトロロジシステムの投影システムを介してパターニングデバイスからパターンを転写するステップを含むデバイス製造方法であって、前記装置が、前記投影システムの少なくとも一部分に接続されたメトロロジフレームを備えるメトロロジシステムを備え、前記方法が、
前記メトロロジフレームの表面上に直接提供された基準格子を用いてエンコーダによって基板テーブルの位置を測定するステップと、
前記投影システムによって前記基板上に前記パターンを投影して前記デバイスを作成するステップと、を含む、デバイス製造方法。
16.メトロロジシステム製造方法であって、
フレームを提供するステップと、
前記フレーム上に直接基準格子を提供するステップと、
前記メトロロジシステムに基準格子を提供して前記投影システムに対する基板テーブルの位置を測定するように前記フレームを前記メトロロジシステムの基準位置に接続するステップと、を含むメトロロジシステム製造方法。
17.前記方法が、前記フレーム上の前記基準格子上に保護層を提供するステップを含む、条項16に記載の方法。
18.基準に接続されたメトロロジフレームと、
可動アイテムに接続されたエンコーダであって、基準格子に対する当該エンコーダの相対位置を測定するように構築され配置され、前記基準格子が前記メトロロジフレームの表面上に直接提供される、エンコーダと、を備える、メトロロジシステム。
19.前記メトロロジフレームが、温度制御媒体を前記メトロロジフレームに提供するチャネルを備える、条項18に記載のメトロロジシステム。
20.前記媒体が、二相媒体で、前記チャネルがヒートパイプとして機能する、条項19に記載のメトロロジシステム。
21.前記二相媒体が二酸化炭素である、条項20に記載のメトロロジシステム。
22.前記チャネルが、前記メトロロジフレームの表面付近に提供される、条項19に記載のメトロロジシステム。
23.前記チャネルが、チャネルグループにグループ化され、各グループが自身の温度制御システムを備える、条項19に記載のメトロロジシステム。
24.前記メトロロジフレームが、前記メトロロジフレームの変形を測定する変形測定システムを備える、条項18に記載のメトロロジシステム。
25.前記変形測定システムが、
前記メトロロジフレームの第1部分に提供された第1電極と、前記メトロロジフレームの第2部分に提供された第2電極と、を備える容量センサをさらに備え、
前記容量センサが、前記電極間の変位を決定して前記メトロロジフレームの変形を決定する、条項24に記載のメトロロジシステム。
26.前記変形測定システムが、前記メトロロジフレームの変形を測定する干渉計を備える、条項24に記載のメトロロジシステム。
27.前記装置が、前記変形測定システムに動作可能に接続された変形コントローラをさらに備え、
前記温度制御システムが、チャネルグループ内の前記二相媒体の圧力を調整するように構築されプログラミングされ、前記変形測定システムによる前記変形測定値の関数としての前記チャネルグループの温度を調整する圧力制御システムである、条項24に記載のメトロロジシステム。
28.前記メトロロジフレームが金属又はアルミニウムを含む、条項18に記載のメトロロジシステム。
29.前記基準格子が前記メトロロジフレームにエッチングされる、条項18に記載のメトロロジシステム。
30.前記メトロロジフレームが前記基準格子の最上部に保護層を備える、条項18に記載のメトロロジシステム。
31.前記可動アイテムが基板テーブルであり、前記基準位置が投影システムであり、前記メトロロジシステムを用いて前記投影システムに対する前記基板テーブルの位置が測定される、条項18に記載のメトロロジシステム。
32.基板テーブルに提供された基板上にメトロロジシステムの投影システムを介してパターニングデバイスからパターンを転写するデバイス製造方法であって、前記装置が前記投影システムの少なくとも一部分に接続されたメトロロジフレームを備えるメトロロジシステムを備え、前記方法が、
前記メトロロジフレームの表面上に直接提供された基準格子を用いてエンコーダによって前記基板テーブルの位置を測定するステップと、
前記投影システムによって前記基板上に前記パターンを投影して前記デバイスを作成するステップと、を含む、デバイス製造方法。
33.メトロロジシステム製造方法であって、
フレームを提供するステップと、
前記フレーム上に直接基準格子を提供するステップと、
前記メトロロジシステムに基準格子を提供して前記投影システムに対する基板テーブルの位置を測定するように前記フレームを前記メトロロジシステムの基準位置に接続するステップと、を含む、メトロロジシステム製造方法。
34.前記方法が、前記フレーム上の前記基準格子上に保護層を提供するステップを含む、条項33に記載の方法。
Claims (20)
- リソグラフィ装置のコンポーネントであって、前記コンポーネントが、当該コンポーネントに温度制御媒体を提供するチャネルを備える、リソグラフィ装置のコンポーネント。
- 前記媒体が二相媒体であり、前記チャネルがヒートパイプとして機能する、請求項1に記載の装置。
- 前記二相媒体が二酸化炭素である、請求項2に記載の装置。
- 少なくともいくつかの前記チャネルが前記コンポーネントの表面付近に提供される、請求項1に記載の装置。
- 前記チャネルが、前記コンポーネントの表面に平行に提供される、請求項1又は2に記載の装置。
- 前記チャネルがチャネルグループにグループ化され、各グループが自身の温度制御システムを備える、請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。
- 前記装置が変形測定システムを備える、請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
- 前記変形測定システムが、
前記装置のフレームの第1部分に提供された第1電極と、前記装置の第2部分に提供された第2電極と、を備える容量センサを備え、
前記容量センサが、前記電極間の変位を決定して前記装置の変形を決定する、請求項5に記載の装置。 - 前記変形測定システムが、変形を測定する干渉計を備える、請求項5に記載の装置。
- 前記装置が、前記変形測定システムに動作可能に接続された変形コントローラを備え、前記温度制御システムが、チャネルグループ内の前記二相媒体の圧力を調整するように構築されプログラミングされた圧力制御システムであって、前記変形測定システムによる前記変形測定値の関数としての前記チャネルグループの温度を調整する圧力制御システムである、請求項5〜7のいずれか1項に記載の装置。
- 前記コンポーネントが金属から形成される、請求項5〜8のいずれか1項に記載の装置。
- 前記コンポーネントが光学要素である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の装置。
- 前記温度制御媒体が、画像形成に使用される前記光学コンポーネントの領域にのみ提供される、請求項12に記載の装置。
- 前記光学要素がミラーである、請求項10に記載の装置。
- 前記温度制御媒体が、それぞれのチャネルに異なる温度で供給されて、前記ミラーの変形を制御する、請求項11に記載の装置。
- 光学要素の変形が、画像の光学パラメータを決定することによって間接的に決定され、かつ、前記パラメータ内にエラーが検出された場合に、温度制御システムにフィードバックされて補正調整を実行するための補正信号を生成することによって間接的に決定され得る、請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
- ミラーの変形が、n自由度で制御される1+n個(nは整数)の二相流体圧力制御ループを備える、請求項1〜14のいずれか1項に記載の装置。
- 前記コンポーネントに温度制御媒体を提供するチャネルを備えるコンポーネントを含む、リソグラフィ装置。
- 前記コンポーネントが光学要素であり、光学要素の変形が、画像の光学パラメータを決定することによって間接的に決定され、かつ、前記パラメータ内にエラーが検出された場合に、温度制御システムにフィードバックされて補正調整を実行するための補正信号を生成することによって間接的に決定され得る、請求項18に記載のリソグラフィ装置。
- 前記温度制御媒体が、画像形成に使用される前記光学要素の領域にのみ提供される、請求項19に記載のリソグラフィ装置。
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