JP2011053687A - Euvシステムに用いる反射光学素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、EUVシステムで用いる反射光学素子(10)に関するものであり、少なくとも部分的には基板材から製造されるベース体(1)と、当該ベース体内に配置された、冷却媒体(7)が流れる少なくとも1つの冷却チャネル(6)とを備える。本発明では、50W/mKよりも大きい熱伝導率を有する材料を基板材として備え、反射光学素子は、基板材に適用され、研磨加工可能なアモルファス材料を含む研磨層を備える。
【選択図】図1
Description
a)50W/mKよりも大きい熱伝導率を有する基板材を含むベース体(1)を製造するステップであって、少なくとも一つの冷却チャネル(6)がベース体内に形成され、冷却チャネルの少なくとも一つのセクションが当該セクション内で冷却媒体(7)が乱流を生じるように構成された、ステップと、
b)前記光学素子の所望表面形状に近似するように、前記ベース体(1)の表面(8)を形成するステップと、
c)前記ベース体(6)の前記表面(8)に対して、アモルファス材料を含む研磨層(2)を適用するステップと、
d)前記光学素子の前記所望表面形状に更に近づけるために前記研磨層(2)を加工するステップと、
を含む。
Claims (16)
- EUVシステムで用いる反射光学素子(10)であって、
少なくとも部分的には、50W/mKよりも大きい熱伝導率を有する基板材から生成されるベース体(1)と、
前記基板材に適用され、研磨加工可能なアモルファス材料を含む、研磨層(2)と、を備え、
冷却媒体(7)が流れる少なくとも1つの冷却チャネル(6)は、前記ベース体内に配置されており、前記冷却チャネル(6)の少なくとも一つのセクションは、当該セクション内にて前記冷却媒体(7)が乱流を生じるように構成されている、
ことを特徴とする反射光学素子。 - 撹乱素子が少なくとも1つの前記冷却チャネル(6)内の少なくとも1つのセクション内に配置され、又は、前記冷却チャネル(6)の少なくとも1つのセクションが、前記冷却チャネル内において不連続性を有し、これによって、前記セクション内にて前記冷却媒体(7)の乱流が生成されることを特徴とする、請求項1に記載の反射光学素子。
- 前記基板材は、60GPaより大きい弾性係数を有することを特徴とする、請求項1又は2に記載の反射光学素子。
- 前記基板材は、最大でも密度が3.5g/cm3である、ことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 特に、アルミニウム、及び/又は、アルミニウム合金を含む金属基板を、基板材として備えることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 特に、炭化ケイ素及び/又はシリコン含浸炭化ケイ素、及び/又は、窒化ケイ素、及び/又は、ポリシリコンを含むセラミック素材を、基板材として備えることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 特に、炭化ケイ素分散強化アルミニウムを含む、金属複合材基板を、基板材として備えることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 研磨層(2)のアモルファス材料は、アモルファスシリコン、アモルファス一酸化ケイ素、アモルファス二酸化ケイ素、又はニッケルを含むことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 前記反射光学素子(10)は、前記研磨層(2)上に形成された反射層(3)を備えることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 前記反射層(3)は、Mo/Si又はRu/Siの層で形成されることを特徴とする、請求項9に記載の反射光学素子。
- 前記冷却チャネル(6)は、0.5mm2より大きい断面積を有することを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 前記断面積は、40mm2〜100mm2であることを特徴とする、請求項12に記載の反射光学素子。
- 一つの冷却チャネル(6)又は複数の冷却チャネルのセクションは、前記ベース体(1)内にて、相互に平行に、らせん状に、蛇行して、又は、放射状に配置されていることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- EUVシステムで用いる反射光学素子の製造方法であって、
a)50W/mKよりも大きい熱伝導率を有する基板材を含むベース体(1)を製造するステップであって、少なくとも一つの冷却チャネル(6)が前記ベース体(1)ないに形成され、前記冷却チャネル(6)の少なくとも一つのセクションが、該セクション内で冷却媒体(7)が乱流を生じるように構成された、ステップと、
b)前記光学素子の所望表面形状に近似するように、前記ベース体(1)の表面(8)を形成するステップと、
c)前記ベース体(6)の前記表面(8)に対して、アモルファス材料を含む研磨層(2)を適用するステップと、
d)前記光学素子の前記所望表面形状に更に近づけるために前記研磨層(2)を加工するステップと、
を含むことを特徴とする、反射光学素子の製造方法。 - 前記ステップb)において、前記ベース体(1)の前記表面(8)は、表面精度が最大でも25μm、特に、表面精度が最大10μm、及び/又は、粗さが最大でもRa=1μmとなるように、形成されることを特徴とする、請求項14に記載の反射光学素子の製造方法。
- 前記反射層(3)は、後続するステップにて、前記研磨層(2)に適用されることを特徴とする、請求項14又は15に記載の反射光学素子の製造方法。
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