JP2015508997A - 改良されたパッチエリアの細胞付着性 - Google Patents
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Abstract
Description
a.本発明に係るチップを提供する工程;
b.細胞付着領域全体が細胞と接触するように、細胞をチップの細胞付着領域に接触させ、それによりチップへの細胞の改良された付着性を提供する工程。
a.細胞付着領域を含み、少なくとも該細胞付着領域において疎水性である上面を有するチッププリカーサー(または前駆体、precursor)を提供する工程;
b.疎水性の上面にアパーチャーを作る工程であって、アパーチャーが細胞付着領域内に位置する工程;
c.第1親水性領域を提供するように、細胞付着領域の一部において、アパーチャーを直接取り囲む少なくとも1つの領域で、上面を改質する(または変更する、modify)工程;
d.必要に応じて、第1の疎水性領域を提供するように、細胞付着領域の一部において、第1の親水性領域の半径方向の外側に位置し、かつ第1の親水性領域を取り囲む少なくとも他の1つの領域で上面を改質する工程。
ある平面において第1の要素が第2の要素を「取り囲む」場合、両方の要素が重なることなく、かつ割り込む(interruption)ことなく、第2の要素全体の周りに第1の要素が完全に延在していることを意味する。ある平面において第1の要素が第2の要素を「直接取り囲む」場合、前記第1の要素と前記第2の要素との間に介在する領域が存在しない、すなわち、第2の要素の全周において、第1の要素が第2の要素と接触していることを意味する。
図1は、本発明に係るチップ10の断面図を示し、細胞(またはセル、cell)120がチップ10上に位置づけられるパッチクランプデバイスである。
a.本発明に係るチップ10を提供する工程;
b.前記細胞付着領域30全体が前記細胞と接触するように、前記細胞を前記チップ10の細胞付着領域30に接触させ、それにより前記チップ10への前記細胞の改良された付着性を提供する工程。
a.細胞付着領域30を含み、少なくとも該細胞付着領域30において疎水性である上面15を有するチッププリカーサー11を提供する工程;
b.前記疎水性の上面15に、前記細胞付着領域30の範囲内に位置するアパーチャー20を作る工程;
c.アパーチャー20を直接取り囲んでいる少なくとも1つの領域で、細胞付着領域の一部において上面15を改質して、第1の親水性領域41を提供する工程;
d.必要に応じて、前記第1の親水性領域41の半径方向の外側に位置し、そして前記第1の親水性領域41を取り囲む少なくとも1つの他の領域で、細胞付着領域30の一部において上面15を改質して、第1の疎水性領域51を提供する工程。
アパーチャーまたはホールは、パルスとして知られるレーザーエネルギーの複数の「加えられたショット(applied shot)」によって作られる。レーザーエネルギーが吸収される深さ、およびそれによって、1つのレーザーパルスによって取り除かれる材料の量は、材料の光学特性およびレーザーの波長に依存する。
好ましくは、工程c.における上面15の改質は、UV照射かまたはレーザー照射のどちらかによる前記上面15への照射により行われる。アパーチャー20を作るのに用いたものと、同じレーザーまたは異なるレーザーを用いることで、これは容易に達成することが出来る。チップ10のある領域のフォトマスクは、所望の領域における選択的な改質を許容する。
上面15の領域は、マイクロリソグラフィーによって改質されてもよい。マイクロリソグラフィーは半導体の製造において用いられる技術であって、フォトマスクから、UV光に感光性があるフォトレジスト材料で被われたシリコンウエハ上にパターンを撮像する。フォトマスクは、UV光波長をほとんど通さない、パターンがある薄いクロム層を底部に有する。UV光はフォトマスクを通りぬけ、またはパターンがあるクロム層によって反射される。ウエハ上のフォトレジストはそれから、フォトマスクのシャドウパターンに露出され、例えばCMOSチップの基本的なデザインを形成する青図(またはブループリント、blueprint)がレジスト内に作られる。
ポリエチレンのアブレーション閾値未満にとどめることによって、ステップアンドリピートのビーム加工を用いることにより、共有結合を破壊するパターンがある表面改質を行うことが出来る。アブレーション閾値未満のエネルギーフルエンスで、レーザービームは表面を横切って移動する。アブレーション閾値は、パルスの数、レーザーの周波数および印加されるエネルギーによって、実験に基づいて決定される。前述したように、193nmのUVレーザーは、例えばベンゼンにおける共有結合を破壊するのに十分な光子エネルギーを有し、より多くのCOOH基を形成することを目的に、周囲空気は破壊されたC−H結合と反応する。レーザーにおいて石英クロムマスクを用いて、光学を多少低減することにより、非常に優れたパターンを材料の表面内に「書き込む」ことができ、最適化されたパラメータを用いると、ドライエッチングまたはアブレーションが起こらない。
DataPhysisc(ドイツ、フィルダーシュタット)の、SCA20ソフトウェアを備えるOCA15 plus ゴニオメーターは、静的接触角及び動的接触角の測定をすることができる。
X線光電子分光法(XPS)測定は、10−9mbar未満の圧力で、非単色のMgKα線(Kα:1253.6eV)を用いて、ESCALAB5分光計(イギリス、イーストグリンテッド、バキュームジェネレーターズ社)によって行われた。結合エネルギーのスケールは、主要なC1s(C−H結合)の特性に対して、285.0eVが参照された。分析チャンバー内の基本圧力は10−10mbar未満であり、測定の間は約5×10−8mbarまで増加した。光電子は、サンプルの表面の法線に対して60°の取り出し角度から検出された。これは、測定の情報深さが5nm以下であることを意味している。
ポリスチレン(PS)、ポリカーボネート(PC)および液晶性ポリマー(LCP、米国、アリゾナ、チャンドラー、Rogers Corp.)の表面改質は、185nmの波長のUVランプを用いて行われた。石英ガラスおよびクロムマスクは、改質された領域と改質されていない領域を提供した。ランプは表面から10cmに位置づけられ、1cm2につき400ミリワットを供給して、少なくとも30分間処理が行われた。
両方のレーザーパルス長と、加工を助力したUVランプ
改質されたポリスチレン表面のC1sおよびO1sの線形状は、−COOH化学基の線形状と非常によく一致する。
Claims (14)
- チップ(10)が上面(15)と前記上面(15)内に位置する中央部のアパーチャー(20)とを有し、
前記上面(15)が前記アパーチャー(20)を取り囲む細胞付着領域(30)を含んでいる、マイクロ流体分析システムに使用するためのチップ(10)であって、
前記細胞付着領域(30)が交互に配置されている2つ以上の親水性領域と疎水性領域(41、42、51、52)とを含み、
第1の親水性領域(41)が前記アパーチャー(20)を直接取り囲み、
第1の疎水性領域(51)が前記第1の親水性領域(41)の半径方向の外側に位置し、かつ前記第1の親水性領域(41)を取り囲む、ことを特徴とするマイクロ流体分析システムに使用するためのチップ(10)。 - 前記細胞付着領域(30)の最も外側の外縁が、前記第1の疎水性領域(51)から構成されていることを特徴とする、請求項1に記載のチップ(10)。
- 前記細胞付着領域(30)が、前記アパーチャー(20)の周りに同心状に、交互に配置された3つ、4つ、5つまたは6つの、親水性領域および疎水性領域(41、42、51、52)を含んでいることを特徴とする、請求項1または2に記載のチップ(10)。
- 前記疎水性領域が、前記細胞付着領域(30)の表面積の少なくとも50%、好ましくは少なくとも75%である合計した表面積を有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載のチップ(10)。
- 前記細胞付着領域(30)が、少なくとも1つの親水性領域(41、42)および少なくとも1つの疎水性領域(51、52)から成ることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のチップ(10)。
- 前記細胞付着領域(30)が円形であり、2〜25μmの半径、好ましくは5〜15μmの半径を有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載のチップ(10)。
- 前記親水性領域(41、42)が、0.8:1〜1:2.0、好ましくは0.9:1〜1:1.5、より好ましくは1:1のC=O結合に対するC−O結合の比を有することを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載のチップ(10)。
- 前記親水性領域(41、42)が、前記細胞付着領域(30)内で、前記上面(15)の選択された領域の表面改質によって作られることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載のチップ(10)。
- 前記第1の親水性領域(41)が、前記アパーチャー(20)内に延在していることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載のチップ(10)。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載のチップ(10)を複数含むこと、を特徴とするチップアセンブリ(100)。
- a.請求項1〜9のいずれか1項に記載のチップ(10)を提供する工程と、
b.細胞付着領域(30)全体が細胞と接触するように、前記細胞を前記チップ(10)の前記細胞付着領域に接触させ、それにより前記チップ(10)への前記細胞の改良された付着性を提供する工程と、
を含むことを特徴とするチップ(10)への細胞の付着性を改良する方法。 - a.細胞付着領域(30)を含み、少なくとも該細胞付着領域(30)において疎水性である上面(15)を有するチッププリカーサー(11)を提供する工程と、
b.前記疎水性の上面(15)に、前記細胞付着領域(30)の範囲内に位置するアパーチャー(20)を作る工程と、
c.前記アパーチャー(20)を直接取り囲んでいる少なくとも1つの領域で、前記細胞付着領域の一部において上面(15)を改質して、第1の親水性領域(41)を提供する工程と、
d.必要に応じて、前記第1の親水性領域(41)の半径方向の外側に位置し、かつ前記第1の親水性領域(41)を取り囲む少なくとも1つの他の領域で、前記細胞付着領域(30)の一部において上面(15)を改質して、第1の疎水性領域(51)を提供する工程と、
を含む、請求項1〜9のいずれか1項に記載のチップ(10)の製造方法。 - 工程c.における改質が、上面(15)への照射により実施されることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
- 工程c.における改質が、上面(15)への化学的堆積により実施されることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
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