CN108212226A - 制备微点阵芯片预制板的方法及其应用 - Google Patents

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Abstract

本发明提供过了制备微点阵芯片预制板的方法及其应用，该方法包括在基底的上表面形成金属膜；基于上述金属膜，形成具有预定图案的金属点阵，金属点阵由多个金属点构成；以及利用表面修饰剂对未被金属点覆盖的基板上表面进行表面修饰处理，以便获得微点阵芯片预制板，其中，经过表面修饰处理的表面与金属点的表面具有相反的亲疏水性。该方法，操作简单、易于控制，成本低廉，且可程序化与批量化操作。特别是，制备获得的芯片预制板可以有效利用表面极性反差来分割、限位和调控负载其上的目标溶液，目标溶液施加到微点阵芯片预制板上后能够自动汇聚成边界清晰的微点，有效克服了现存微点阵生物芯片制作的复杂、成本高、样点爬升或滚动问题。

Description

制备微点阵芯片预制板的方法及其应用
技术领域
本发明涉及制备微点阵芯片预制板的方法及其应用，具体的，涉及制备微点阵芯片预制板的方法，微点阵芯片预制板，在微点阵芯片预制板表面负载靶分子的方法即微点阵芯片。
背景技术
微点阵芯片(如DNA等生物芯片)，主要是通过原位光化学修饰和原位光化学反应延长来制备的(Ref)。该方法能制备高密度点阵，但需要很高的专业技术操作水平和精密的控制系统和超净环境，操作成本高，能动性(如点阵分子更换)差，难以在普通实验室中实施。另一种常规实验室可操作的方案是，利用自动点样仪来点制。其问题是点样仪器昂贵，点制不同类型和结构的分子芯片难度大，耗时长，费用高，亦不利于推广应用。一些简单或低密度的微点阵芯片，可用微量注射器针头或毛细管等手段来点制，但所得点阵的规整性比较差，点与点之间也很容易出现难以预测的交叉反应或交叉污染。其主要原因在于所点溶液，常会因表面张力不同而出现铺展或爬伸，再加微点溶液(纳升级)蒸干迅速，极易留迹于边境乃至邻点，同时导致本点浓度不准。为限制液珠爬升或滚动，可利用氢氟酸刻蚀玻璃基质，结合电化学气相沉积金膜，制作出凹阱结构。该法的问题在于，其操作耗能且专业难度高；另外氢氟酸为危险品，需要专门设备进行刻蚀；更重要的是不能用于制备高密度点阵，否则所得微阱中的气体会排除样液，使之反而更易滚动。
因此，目前制备微点阵芯片的方法仍有待改进。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种操作简单、易于控制、可以实现芯片表面多性质或形状相间形式、适应市场需求、易控快速、可程序化与批量化操作、或者可令样品自我限位的微点阵芯片制作方法。
在本发明的一个方面，本发明提供了一种制备微点阵芯片预制板的方法。根据本发明的实施例，该方法包括：在基底的上表面形成金属膜；基于所述金属膜，形成具有预定图案的金属点阵，所述金属点阵由多个金属点构成；以及利用表面修饰剂对未被所述金属点覆盖的基板上表面进行表面修饰处理，以便获得所述微点阵芯片预制板，其中，经过所述表面修饰处理的表面与所述金属点的表面具有相反的亲疏水性。本发明的该方法，操作简单、易于控制，成本低廉，且可程序化与批量化操作。特别是，制备获得的芯片预制板可以有效利用表面极性反差来分割、限位和调控负载其上的目标溶液，目标溶液施加到微点阵芯片预制板上后能够自动汇聚成边界清晰的微点，有效克服了现存微点阵生物芯片制作的复杂、成本高、样点爬升或滚动问题，同时实现芯片表面多性质或形状相间形式，促进了生物芯片的应用，使其适应市场需求。
根据本发明的实施例，所述基底是由玻璃形成的。
根据本发明的实施例，所述金属膜是由金或银形成的。
根据本发明的实施例，基于所述金属膜，形成具有预定图案的金属点阵进一步包括：在所述金属膜的表面形成光刻胶层；利用掩模，对所述光刻胶层进行曝光和显影处理，以便获得光刻胶图案；对形成有所述光刻胶图案的金属膜进行刻蚀处理，以便形成具有预定图案的金属点阵。
根据本发明的实施例，所述表面修饰剂包括亲水性介质或疏水亲油介质。
根据本发明的实施例，所述疏水亲油介质包括CYTOP、PTEE、PFA中的至少一种。
在本发明的另一方面，本发明提供了一种制备微点阵芯片预制板的方法。根据本发明的实施例，该方法包括：提供表面形成有金膜的玻璃基板，并对所述玻璃基板进行清洁处理，所述清洁处理依次包括超声处理、氮气吹干和烘干处理，其中，所述超声处理依次采用丙酮、乙醇和水进行；在经过清洁处理的金属膜表面旋涂光刻胶并进行烘干处理，以形成光刻胶层；将掩膜置于所述光刻胶层上，并对所述光刻胶层进行曝光和显影处理，以获得光刻胶图案，其中，所述显影处理是利用0.4％的氢氧化钠溶液进行的；利用I2/KI/H2O(1g/4g/40mL)溶液对形成有所述光刻胶图案的金属膜进行刻蚀处理，得到具有预定图案的金属点阵，所述金属点阵由多个金属点构成；在经过刻蚀处理的基板上表面涂CYTOP，并依次进行空气放置、烘干、丙酮清洗、水洗和氮气吹干处理，得到所述微点阵芯片预制板。发明人发现，利用该方法可以快速有效的制备获得微点阵芯片预制板，操作简单、方便、易于控制，且可以实现程序化与批量化操作，制备获得的微点阵芯片预制板可以使得负载到其上的目标溶液可以有效利用表面极性反差来自动汇聚成边界清晰的微点，有效克服了现存微点阵生物芯片制作的复杂、成本高、样点爬升或滚动问题。
在本发明的再一方面，本发明提供了一种微点阵芯片预制板。根据本发明的实施例，该微点阵芯片预制板包括：基板，金属点阵，所述金属点阵形成在所述基板上表面，所述金属点阵由多个金属点构成，并且所述金属点阵具有预定图案；表面改性层，所述表面改性层形成在所述基板未被所述金属点覆盖的表面上，并且所述表面改性层与所述金属点的表面具有相反的亲疏水性。发明人发现，该微点阵芯片预制板可以有效利用表面极性反差来分割、限位和调控负载其上的目标溶液，目标溶液施加到微点阵芯片预制板上后能够自动汇聚成边界清晰的微点，有效克服了现存微点阵生物芯片制作的复杂、成本高、样点爬升或滚动问题。
在本发明的又一方面，本发明提供了一种制备微点阵芯片的方法。根据本发明的实施例，该方法包括：提供微点阵芯片预制板，所述微点阵芯片预制板是前面所述微点阵芯片预制板，或者所述微点阵芯片预制板是根据前面所述的方法制备的；将含有靶分子的溶液施加在所述微点阵芯片预制板的预定金属点上，所述含有靶分子的溶液与所述金属点的表面具有相同或者相似的亲疏水性。发明人发现，在该方法中，利用表面极性反差来分割、限位和调控，施加到微点阵芯片预制板上的含有靶分子的溶液可以自动汇聚成边界清晰的微点，有效克服了现存微点阵生物芯片制作的复杂、成本高、样点爬升或滚动问题。
根据本发明的实施例，所述靶分子包括：生物分子蛋白质，糖，DNA，RNA，细胞和有机小分子中的至少一种。
在本发明的又一方面，本发明提供了一种微点阵芯片。根据本发明的实施例，该微点阵芯片是通过前面所述的方法制备的。本领域技术人员可以理解，该微点阵芯片具有前面描述的微点阵芯片预制板的所有特征和优点，在此不再一一赘述。
本发明至少具有以下有益效果：
1.本发明完全借助光学与化学法，建立了一个成本低、容易实施的点阵式芯片制作方法，操作简单、快速，可程序化或批量生产，既适合于实验室应用，又能进一步开发成工业化或商品化制备技术；
2.本发明的微点阵芯片预制板表面性质(如亲疏水性)不同，直接浸入目标溶液或点样后，目标溶液会自动聚集于金属点上而成样点(自我限位)；
3.本发明的微点阵芯片可直接确定样点位置，不至于因浓度太小而无法找到样点位置，如细胞测定；
4.本发明的制备微点阵芯片的方法中，可点样于不同列阵金属点，快速完成不同浓度或种类的样品点阵；
5.本发明的制备微点阵芯片预制板的方法中，改变微点阵芯片预制板表面修饰的物质，可调控基质与生物的相容性；
6.本发明的微点阵芯片阵预制板，金属点可以与周围化合物(表面改性层)形成小凹槽，点样于槽后，再铺层油，部分油会留在凹槽，覆盖样点，可防止咖啡环；
7.本发明的微点阵芯片阵预制板，基底表面的表面改性层惰性好，相比于未刻蚀前在实际应用中可有效减小杂质吸附；
8.本发明的制备微点阵芯片的方法，可用于制备不同分子的点阵芯片，用于各种分子事件的观察、分析或研究；若所用金属是富电子的金或银等，则可制备表面等离子体共振传感和成像所用的传感芯片；若目标溶液含有能附着在点表面上的吸光或发光成分，则能制备成光学传感芯片。
附图说明
图1显示了根据本发明实施例的制备微点阵芯片预制板的方法的流程示意图。
图2显示了根据本发明实施例的微点阵芯片预制板的结构示意图。
图3显示了根据本发明实施例的制备微点阵芯片预制板的方法的流程示意图。
图4显示了根据本发明实施例的微点阵芯片预制板上自动限域形成微点阵图像的示意图。
图5显示了根据本发明实施例的表面等离子体共振及其成像传感芯片与传统点样的对比图。
图6显示了根据本发明实施例的光学传感芯片的倒置荧光显微镜观察结果图。
图7显示了根据本发明实施例的微点阵芯片的水汽成像图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。
在本发明的一个方面，本发明提供了一种制备微点阵芯片预制板的方法。根据本发明的实施例，参照图1，该方法包括以下步骤：
S100：在基底的上表面形成金属膜。
根据本发明的实施例，所述基底的具体种类不受特别限制，本领域技术人员可以根据需要进行选择。在本发明的一些实施例中，所述基底是由玻璃形成的。由此，成本较低，适用范围较广，使用性能较佳，且易于加工处理。
根据本发明的实施例，形成金属膜的具体材料不受特别限制，只要能够满足实际使用需要即可。在本发明的一些实施例中，金属膜可以是由金或银形成的。由此，制备获得的微点阵芯片预制板表面亲疏水性不同，加载在其上的目标溶液可以自我限位，自动聚集于金属点上而成样点，且可有效用于等离子共振传感。
根据本发明的实施例，金属膜的厚度也不受特别限制。本领域技术人员可以根据需要进行选择。在本发明的一些优选实施例中，金属膜的厚度可以为40-70nm。由此，具有良好的使用性能，不会因厚度过薄而对其使用产生负面影响，也不会因过后而导致材料浪费。
S200：基于所述金属膜，形成具有预定图案的金属点阵，所述金属点阵由多个金属点构成。
根据本发明的实施例，在该步骤中，形成具有预定图案的金属点阵的方法不受特别限制，只要能够对金属膜进行有效加工即可。在本发明的一些实施例中，可以通过光刻蚀工艺对金属膜进行加工，以获得具有预定图案的金属点阵。具体而言，基于所述金属膜，形成具有预定图案的金属点阵可以进一步包括：在所述金属膜的表面形成光刻胶层；利用掩模，对所述光刻胶层进行曝光和显影处理，以便获得光刻胶图案；对形成有所述光刻胶图案的金属膜进行刻蚀处理，以便形成具有预定图案的金属点阵。由此，操作简单方便、工艺成熟、易于控制，而且可以有效制备高密度点阵。
根据本发明的实施例，该步骤中形成的金属点阵可以是多个金属点呈若干行、若干列矩阵式排布，也可以根据实际需要将多个金属点呈规则或不规则的形式进行排布，只需要调整掩膜的图案即可。根据本发明的实施例，金属点的具体形状也不受特别限制，可以根据需要灵活选择，例如，包括但不限于圆形、正方形、矩形、六边形、菱形等等规则或不规则的形状。而且，多个金属点的形状可以不完全相同，例如一行或一列金属点为圆形，与其相邻的一行或一列金属点为正方形，或者相邻两个金属点的一个为矩形，另一个为菱形等。也就是说，在该步骤中，可以根据需要，灵活调整金属点阵的分布情况和金属点的形状，只需调整掩膜的图案即可容易实现。
根据本发明的实施例，金属点的尺寸和密度也没有特别限制，可以视具体情况而定。在本发明的一些实施例中，金属点的尺寸一般在微米级左右，相邻两金属点之间的距离也为微米级，例如两者可以为几百个微米(如500微米)、几十个微米、十几个微米，甚至几个微米。由此，可以制备获得具有合适密度和尺寸的微点阵芯片预制板，规整性好，点与点之间不易产生交叉反应或交叉污染。且该方法制备得到的微点阵芯片预制板可以实现比现有技术更高的点阵密度。
S300：利用表面修饰剂对未被所述金属点覆盖的基板上表面进行表面修饰处理，以便获得所述微点阵芯片预制板，其中，经过所述表面修饰处理的表面与所述金属点的表面具有相反的亲疏水性。
根据本发明的实施例，可以采用的表面修饰剂的具体种类不受特别限制，只要能够使得金属点表面和未被金属点覆盖的基底表面之间亲疏水性质不同即可。在本发明的一些实施例中，表面修饰剂可以包括亲水性介质或疏水亲油介质，也可以说亲水性分子、疏水性分子或聚合物等。由此，在负载目标溶液时，上述亲疏水性质不同的表面可以对通过表面极性反差来分割、限位和调控目标溶液，使得目标溶液后能够自动汇聚成边界清晰的微点，有效克服了现存微点阵生物芯片制作的复杂、成本高、样点爬升或滚动问题。根据本发明的一些实施例，所述疏水亲油介质可以包括CYTOP(透明氟树脂)、PTEE(聚四氟乙烯)、PFA(四氟乙烯—全氟烷氧基乙烯基醚共聚物)中的至少一种。由此，能够有效使得目标溶液自动汇聚成边界清晰的微点。
需要说明的是，本文中所使用的描述方式“经过所述表面修饰处理的表面与所述金属点的表面具有相反的亲疏水性”是指如果经过所述表面修饰处理的表面为亲水性的，则所述金属点的表面为疏水性的，反之，如果经过所述表面修饰处理的表面为疏水性的，则所述金属点的表面为亲水性的。
根据本发明的实施例，该步骤中所述的表面修饰处理可以是利用表面修饰剂在未被所述金属点覆盖的基板上表面进行涂覆，形成表面改性层。本领域技术人员可以理解，具体涂覆的方式和方法没有特别限制，可以为本领域任何已知的涂覆方法。另外，形成的表面改性层的厚度也没有特别限定，在本发明的一些实施例中，可以根据需要灵活控制表面改性层的厚度，进一步的，还可以通过调整表面改性层的厚度，使之形成金属点表面与边界(即未被金属点覆盖的基底表面)极性相反的凸起或凹陷型微点阵芯片预制板。
本发明的上述制备微点阵芯片预制板的方法，操作简单、易于控制，成本低廉，且可程序化与批量化操作。特别是，制备获得的芯片预制板可以有效利用表面极性反差来分割、限位和调控负载其上的目标溶液，目标溶液施加到微点阵芯片预制板上后能够自动汇聚成边界清晰的微点，有效克服了现存微点阵生物芯片制作的复杂、成本高、样点爬升或滚动问题，同时实现芯片表面多性质或形状相间形式，促进了生物芯片的应用，使其适应市场需求。
在本发明的另一方面，本发明提供了一种制备微点阵芯片预制板的方法。根据本发明的实施例，该方法包括：提供表面形成有金膜的玻璃基板，并对所述玻璃基板进行清洁处理，所述清洁处理依次包括超声处理、氮气吹干和烘干处理，其中，所述超声处理依次采用丙酮、乙醇和水进行；在经过清洁处理的金属膜表面旋涂光刻胶并进行烘干处理，以形成光刻胶层；将掩膜置于所述光刻胶层上，并对所述光刻胶层进行曝光和显影处理，以获得光刻胶图案，其中，所述显影处理是利用0.4％的氢氧化钠溶液进行的；利用I2/KI/H2O(1g/4g/40mL)溶液对形成有所述光刻胶图案的金属膜进行刻蚀处理，得到具有预定图案的金属点阵，所述金属点阵由多个金属点构成；在经过刻蚀处理的基板上表面涂CYTOP，并依次进行空气放置、烘干、丙酮清洗、水洗和氮气吹干处理，得到所述微点阵芯片预制板。发明人发现，利用该方法可以快速有效的制备获得微点阵芯片预制板，操作简单、方便、易于控制，且可以实现程序化与批量化操作，制备获得的微点阵芯片预制板可以使得负载到其上的目标溶液可以有效利用表面极性反差来自动汇聚成边界清晰的微点，有效克服了现存微点阵生物芯片制作的复杂、成本高、样点爬升或滚动问题。
在本发明的再一方面，本发明提供了一种微点阵芯片预制板。根据本发明的实施例，参照图2，该微点阵芯片预制板包括：基板10，金属点阵20，所述金属点阵20形成在所述基板10上表面，所述金属点阵20由多个金属点21构成，并且所述金属点阵20具有预定图案；表面改性层30，所述表面改性层形成在所述基板10未被所述金属点21覆盖的表面上，并且所述表面改性层30与所述金属点21的表面具有相反的亲疏水性。发明人发现，该微点阵芯片预制板可以有效利用表面极性反差来分割、限位和调控负载其上的目标溶液，目标溶液施加到微点阵芯片预制板上后能够自动汇聚成边界清晰的微点，有效克服了现存微点阵生物芯片制作的复杂、成本高、样点爬升或滚动问题。
根据本发明的实施例，该微点阵芯片预制板中金属点的厚度、形状、尺寸、分布情况以及表面改性层等与前文制备微点阵芯片预制板的方法中的描述一致。需要说明的是，表面改性层的厚度没有特别限定，可以根据需要灵活控制。具体的，可以通过调整表面改性层的厚度，使之形成金属点表面与边界(即未被金属点覆盖的基底表面)极性相反的平齐(图2A)、凸起(图2B)或凹陷型(图2C)微点阵芯片预制板。
在本发明的又一方面，本发明提供了一种制备微点阵芯片的方法。根据本发明的实施例，该方法包括：提供微点阵芯片预制板，所述微点阵芯片预制板是前面所述微点阵芯片预制板，或者所述微点阵芯片预制板是根据前面所述的方法制备的；将含有靶分子的溶液施加在所述微点阵芯片预制板的预定金属点上，所述含有靶分子的溶液与所述金属点的表面具有相同或者相似的亲疏水性。发明人发现，在该方法中，利用表面极性反差来分割、限位和调控，施加到微点阵芯片预制板上的含有靶分子的溶液可以自动汇聚成边界清晰的微点，有效克服了现存微点阵生物芯片制作的复杂、成本高、样点爬升或滚动问题。
根据本发明的实施例，所述靶分子包括：生物分子蛋白质，糖，DNA，RNA，细胞和其他有机小分子中的至少一种。由此，该微点阵芯片可以用于多种用途。
根据本发明的实施例，根据负载的靶分子的具体种类的不同，制备获得的微点阵芯片可以具有不同的用途。例如，在金属点上点制亲水或疏水的目标分子或探针分子(即靶分子)，可以获得用作表面等离子体共振及其成像分析的传感芯片，在金属点上点制能物理或化学吸附在点表面的吸光或发光目标分子，可以获得光学传感芯片，在金属点上点制亲疏水相间的微点阵芯片，可以获得用于水汽成像或肉眼观测的芯片。
根据本发明的实施例，将含有靶分子的溶液施加在所述微点阵芯片预制板的预定金属点上的具体操作方式没有特别限制，例如可以包括但不限于直接将微点阵芯片预制板进入含有靶分子的溶液中后取出，由于微点阵芯片预制板表面上金属点和边界表面的亲疏水性质不同，含有靶分子的溶液能够自动在亲疏水性质相同或相似的金属点表面汇聚呈边界清晰的样点；或者直接在金属点表面进行点样，由于微点阵芯片预制板表面上的亲疏水间隔，含有靶分子的溶液形成边界清晰的样点，不会产生样点爬升或滚动问题。
在本发明的又一方面，本发明提供了一种微点阵芯片。根据本发明的实施例，该微点阵芯片是通过前面所述的方法制备的。本领域技术人员可以理解，该微点阵芯片具有前面描述的微点阵芯片预制板的所有特征和优点，在此不再一一赘述。
根据本发明的实施例，如前所述，微点阵芯片的具体种类不受特别限制，根据采用的靶分子可以为应用于不同领域的各种微点阵芯片。例如包括但不限于携带生物分子的生物芯片，携带发光分子的光学传感芯片，用作表面等离子体共振及其成像分析的传感芯片、用于水汽成像或肉眼观测的芯片等等。
实施例1
如图3所示，以镀金膜的玻璃芯片为例，微点阵结构芯片预制板的制作步骤如下：①洗涤镀金的芯片(丙酮/乙醇/水各超声1min)，氮气吹干，再80℃烘1min；②旋涂光刻胶(一次性滴管三滴)，转速1470r/min，旋涂60s并于80℃烘干(10min)；③加掩膜于UV灯下曝光23s，再用0.4％的氢氧化钠溶液洗去曝光部分光刻胶(轻摇约90s)；④水洗烘干后放于I2/KI/H2O(1g/4g/40mL)的溶液中刻金7min，形成金微点阵结构；⑤水洗烘干后涂CYTOP(1:10,约10uL)，转速1588r/min，时间60s；⑥空气放置0.5h，再90℃烘2h，然后用丙酮清洗(轻微震荡1min，再超声1s)，水洗，氮气吹干，形成金微点阵与疏水CYTOP边界修饰的芯片预制板。
在所制备的芯片预制板上负载与点阵极性相同或相似的溶液，该溶液能自动汇聚成边界清晰的微点阵。如图4，是芯片浸水后的照片，水滴自动聚集于金微点上，形成灰色小亮点。
在所制备的芯片预制板上点制亲水的目标分子或探针分子，可用作SPR及其成像分析的传感芯片。如图5，A、B分别是基于普通传感膜手动点样的SPRi图和BSA与抗BSA的作用信号图(线1是BSA与antiBSA信号，线2是背景信号)，C、D分别是由此方法所得芯片的SPRi图和BSA与抗BSA的作用图，对比可见，由此方法所得芯片，点阵规整、成像清晰、均匀，样品定位方便、准确，可明显降低背景的吸附。
在所制备的芯片预制板上点制亲水的吸光或发光目标分子，可用于构造光学传感芯片。如图6，在芯片表面金点阵上键合发光分子FITC，构成光学传感芯片，用倒置荧光显微镜观察，a为修饰FITC前的芯片，b为修饰FITC后的芯片，可见FITC被成功固定于金微点上，制备出点阵规整的光学传感芯片。
所述得到的利用调控表面极性及其分布形状来限域制备的微点阵芯片，能用于水汽成像或肉眼观测。如图7，a是芯片成像图，b是芯片水汽成像图。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (10)

1.一种制备微点阵芯片预制板的方法，其特征在于，包括：
在基底的上表面形成金属膜；
基于所述金属膜，形成具有预定图案的金属点阵，所述金属点阵由多个金属点构成；
利用表面修饰剂对未被所述金属点覆盖的基板上表面进行表面修饰处理，以便获得所述微点阵芯片预制板，其中，经过所述表面修饰处理的表面与所述金属点的表面具有相反的亲疏水性。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基底是由玻璃形成的，
任选地，所述金属膜是由金或银形成的。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所述金属膜，形成具有预定图案的金属点阵进一步包括：
在所述金属膜的表面形成光刻胶层；
利用掩模，对所述光刻胶层进行曝光和显影处理，以便获得光刻胶图案；
对形成有所述光刻胶图案的金属膜进行刻蚀处理，以便形成具有预定图案的金属点阵。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述表面修饰剂包括亲水性介质或疏水亲油介质。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述疏水亲油介质包括CYTOP、PTEE、PFA中的至少一种。
6.一种制备微点阵芯片预制板的方法，其特征在于，包括：
提供表面形成有金膜的玻璃基板，并对所述玻璃基板进行清洁处理，所述清洁处理依次包括超声处理、氮气吹干和烘干处理，其中，所述超声处理依次采用丙酮、乙醇和水进行；
在经过清洁处理的金属膜表面旋涂光刻胶并进行烘干处理，以形成光刻胶层；
将掩膜置于所述光刻胶层上，并对所述光刻胶层进行曝光和显影处理，以获得光刻胶图案，其中，所述显影处理是利用0.4％的氢氧化钠溶液进行的；
利用I2/KI/H2O(1g/4g/40mL)溶液对形成有所述光刻胶图案的金属膜进行刻蚀处理，得到具有预定图案的金属点阵，所述金属点阵由多个金属点构成；
在经过刻蚀处理的基板上表面涂CYTOP，并依次进行空气放置、烘干、丙酮清洗、水洗和氮气吹干处理，得到所述微点阵芯片预制板。
7.一种微点阵芯片预制板，其特征在于，包括：
基板，
金属点阵，所述金属点阵形成在所述基板上表面，所述金属点阵由多个金属点构成，并且所述金属点阵具有预定图案；
表面改性层，所述表面改性层形成在所述基板未被所述金属点覆盖的表面上，并且所述表面改性层与所述金属点的表面具有相反的亲疏水性。
8.一种制备微点阵芯片的方法，其特征在于，包括：
提供微点阵芯片预制板，所述微点阵芯片预制板是权利要求7所述的微点阵芯片预制板，或者所述微点阵芯片预制板是根据权利要求1～6任一项所述的方法制备的；
将含有靶分子的溶液施加在所述微点阵芯片预制板的预定金属点上，所述含有靶分子的溶液与所述金属点的表面具有相同或者相似的亲疏水性。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述靶分子包括：生物分子蛋白质，糖，DNA，RNA，细胞和有机小分子中的至少一种。
10.一种微点阵芯片，所述微点阵芯片是通过权利要求8或9所述的方法制备的。
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