JP2015501921A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2015501921A5
JP2015501921A5 JP2014541253A JP2014541253A JP2015501921A5 JP 2015501921 A5 JP2015501921 A5 JP 2015501921A5 JP 2014541253 A JP2014541253 A JP 2014541253A JP 2014541253 A JP2014541253 A JP 2014541253A JP 2015501921 A5 JP2015501921 A5 JP 2015501921A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
encoder
encoder system
regression
diffractive
optical component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014541253A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5714780B2 (ja
JP2015501921A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/US2012/064086 external-priority patent/WO2013070871A1/en
Publication of JP2015501921A publication Critical patent/JP2015501921A/ja
Publication of JP2015501921A5 publication Critical patent/JP2015501921A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5714780B2 publication Critical patent/JP5714780B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (32)

  1. エンコーダシステムであって、
    回折エンコーダスケールと共に使用するためのエンコーダヘッドを備え、
    前記エンコーダヘッドは、
    1つまたは複数の光学部品であって、
    i)第一の入射ビームを、前記回折エンコーダスケールの法線に対して第一の入射角で前記回折エンコーダスケールへと向かわせ、
    ii)前記回折エンコーダスケールから第一の回帰ビームを、前記回折エンコーダスケールの前記法線に対して第一の回帰角で受け取り、前記第一の回帰角は前記第一の入射角とは異なり、
    iii)前記第一の回帰ビームを、第二の入射ビームとして、前記回折エンコーダスケールの前記法線に対して第二の入射角で前記回折エンコーダスケールに向かうように方向転換させ、
    iv)前記回折エンコーダスケールから戻る第二の回帰ビームを、前記回折エンコーダスケールの前記法線に対して第二の回帰角で受け取り、前記第二の回帰角は前記第二の入射角とは異なるように構成された前記1つまたは複数の光学部品を含み、
    前記第一の入射角と第二の入射角との差が、前記第一の入射角と前記第一の回帰角との差よりも小さく、前記第二の入射角と前記第二の回帰角との差よりも小さい、エンコーダシステム。
  2. 前記1つまたは複数の光学部品が、前記第二の回帰ビームを参照ビームと合成して出力ビームを形成するように構成され、
    前記エンコーダシステムが、前記出力ビームを検出するように位置付けられた検出器を備える、請求項1に記載のエンコーダシステム。
  3. 前記検出器から干渉信号を受け取り、前記干渉信号が前記参照ビームと前記第二の回帰ビームとの間の光路差に応じた位相を含み、前記位相に基づいて、前記回折エンコーダスケールの位置の変化に関する情報を判定するように構成された電子プロセッサをさらに備える、請求項2に記載のエンコーダシステム。
  4. 前記位相がヘテロダイン位相である、請求項3に記載のエンコーダシステム。
  5. 回折エンコーダスケールをさらに備える、請求項1に記載のエンコーダシステム。
  6. 前記回折エンコーダスケールが、一次元または二次元格子を含む、請求項5に記載のエンコーダシステム。
  7. 前記第一の回帰ビームと前記第二の回帰ビームの各々が回折ビームである、請求項1に記載のエンコーダシステム。
  8. 各回折ビームが1次回折ビームである、請求項7に記載のエンコーダシステム。
  9. 前記第一の入射ビームと前記第一の回帰ビームが非共線状で、非平行であり、
    前記第二の入射ビームと前記第二の回帰ビームが非共線状で、非平行である、請求項1に記載のエンコーダシステム。
  10. 前記エンコーダヘッドは、複数の光学部品を含み、
    記複数の光学部品が、光源からソースビームを受け取るように構成されたビーム分離部品を含み、
    前記ビーム分離部品が、前記ソースビームから前記第一の入射ビームと前記参照ビームを所得するように動作可能である、請求項3に記載のエンコーダシステム。
  11. 記複数の光学部品が、
    前記第二の回帰ビームを受け取り、
    前記第二の回帰ビームを前記ビーム分離部品へと方向転換させるように構成された第一の光学部品を含む、請求項10に記載のエンコーダシステム。
  12. 記複数の光学部品が、第二の光学部品を含み、
    前記第一の光学部品が、前記第一の回帰ビームを前記第二の光学部品へと方向転換させるように構成され、
    前記第二の光学部品が、
    前記第一の光学部品から前記第一の回帰ビームを受け取り、前記第一の回帰ビームを第二の入射ビームとして、前記第二の入射角で前記回折エンコーダスケールへと方向転換させるように構成される、請求項11に記載のエンコーダシステム。
  13. 前記第一の光学部品が、格子を含み、
    前記格子が、前記第一の回帰ビームと前記第二の回帰ビームとの両方を回折させるように動作可能である、請求項11に記載のエンコーダシステム。
  14. 記複数の光学部品が、
    第一の再帰性反射体と、
    第一の光学部品とを含み、
    前記第一の光学部品が、前記回折エンコーダスケールから前記第一の回帰ビームと前記第二の回帰ビームとの両方を受け取り、前記第一の回帰ビームと前記第二の回帰ビームを前記第一の再帰性反射体へと方向転換させるように構成され、
    前記第一の再帰性反射体が、前記第一の光学部品から前記第二の回帰ビームを受け取り、前記第二の回帰ビームを前記ビーム分離部品へと方向転換させるように構成される、請求項10に記載のエンコーダシステム。
  15. 記複数の光学部品が、第二の光学部品を含み、
    前記第一の再帰性反射体が、前記第一の光学部品から前記第一の回帰ビームを受け取り、前記第一の回帰ビームを前記第二の光学部品へと方向転換させるように構成される、請求項14に記載のエンコーダシステム。
  16. 前記第二の光学部品が、前記第一の再帰性反射体から前記第一の回帰ビームを受け取り、前記第一の回帰ビームを前記第二の入射ビームとして、第二の角度で被測定物へと方向転換させるように構成される、請求項15に記載のエンコーダシステム。
  17. 記複数の光学部品が、第一の再帰性反射体を含み、
    前記ビーム分離部品と前記第一の再帰性反射体が、
    協働して、前記第一の回帰ビームを受け取り、前記第一の回帰ビームを前記第二の入射ビームとして被測定物へと方向転換させるように構成される、請求項10に記載のエンコーダシステム。
  18. 前記第一の再帰性反射体が、
    前記ビーム分離部品から前記参照ビームを受け取り、
    前記参照ビームを前記ビーム分離部品へと方向転換させるように構成される、請求項17に記載のエンコーダシステム。
  19. 記複数の光学部品が、前記ビーム分離部品と前記第一の再帰性反射体との間に複数のプリズム部品を含み、
    前記複数のプリズム部品が、前記第一の回帰ビームと前記参照ビームとの間の偏差を増大させるように構成される、請求項18に記載のエンコーダシステム。
  20. 前記複数のプリズム部品が、前記参照ビームのビーム経路と前記第一の回帰ビームのビーム経路とに配置される、請求項19に記載のエンコーダシステム。
  21. 前記複数のプリズム部品が、ウェッジプリズムまたは複屈折プリズムを含む、請求項19に記載のエンコーダシステム。
  22. 前記ビーム分離部品から、第一の位置と第二の位置において前記参照ビームを受け取るように配置された参照反射体をさらに備える、請求項17に記載のエンコーダシステム。
  23. 前記参照反射体が、ミラーを含む、請求項22に記載のエンコーダシステム。
  24. 前記参照反射体が、エンコーダ格子の表面を含む、請求項22に記載のエンコーダシステム。
  25. 前記エンコーダシステムは、
    第一の四分の一波長板をさらに備え、
    前記第一の四分の一波長板が、前記参照反射体と前記ビーム分離部品との間に配置される、請求項22に記載のエンコーダシステム。
  26. 前記エンコーダシステムは、
    第二の四分の一波長板をさらに備え、
    前記第二の四分の一波長板が、エンコーダ格子と前記ビーム分離部品との間に配置される、請求項25に記載のエンコーダシステム。
  27. 記複数の光学部品が、
    前記回折エンコーダスケールから前記第二の回帰ビームを受け取り、前記ビーム分離部品から前記参照ビームを受け取り、前記第二の回帰ビームを前記参照ビームと合成して、前記出力ビームを形成するように構成されたビームコンバイナを含む、請求項10に記載のエンコーダシステム。
  28. 記複数の光学部品がプリズムペアと再帰性反射体とを備える、請求項27に記載のエンコーダシステム。
  29. 前記プリズムペアと前記再帰性反射体が、
    協働して、前記第一の回帰ビームを前記第二の入射ビームとして被測定物へと方向転換させるように構成される、請求項28に記載のエンコーダシステム。
  30. 前記1つまたは複数の光学部品が単独の光学部品を含む、請求項3に記載のエンコーダシステム。
  31. システムであって、
    移動可能ステージと、
    請求項1に記載のエンコーダシステムとを備え、
    前記エンコーダシステムまたは被測定物が、前記移動可能ステージに取り付けられる、
    システム。
  32. リソグラフィシステムであって、
    請求項1に記載のエンコーダシステムと、
    移動可能ステージであって、前記エンコーダシステムまたは被測定物の何れかが取り付けられる前記移動可能ステージと、
    前記エンコーダシステムに連結された照明システムであって、前記照明システムは、放射源を含み、前記リソグラフィシステムの動作中に前記放射源が放射を前記エンコーダシステムに向ける、前記照明システムと、
    前記リソグラフィシステムの動作中に前記エンコーダシステムからの出力ビームを検出する検出器と、
    電子プロセッサであって、前記検出器から干渉信号を受け取り、前記干渉信号が光路差に関係する位相を含み、前記位相に基づいて前記回折エンコーダスケールの変位に関する情報を判定するように構成された前記電子プロセッサと、
    前記電子プロセッサに連結され、前記回折エンコーダスケールの前記変位に関する前記情報に基づいて前記移動可能ステージの位置を調節するように構成された位置決めシステムとを備える、リソグラフィシステム。
JP2014541253A 2011-11-09 2012-11-08 ダブルパス干渉方式エンコーダシステム Active JP5714780B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201161557755P 2011-11-09 2011-11-09
US61/557,755 2011-11-09
PCT/US2012/064086 WO2013070871A1 (en) 2011-11-09 2012-11-08 Double pass interferometric encoder system

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015048528A Division JP6224019B2 (ja) 2011-11-09 2015-03-11 ダブルパス干渉方式エンコーダシステムを用いた物体の位置判定方法。

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015501921A JP2015501921A (ja) 2015-01-19
JP2015501921A5 true JP2015501921A5 (ja) 2015-02-26
JP5714780B2 JP5714780B2 (ja) 2015-05-07

Family

ID=48223473

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014541253A Active JP5714780B2 (ja) 2011-11-09 2012-11-08 ダブルパス干渉方式エンコーダシステム
JP2015048528A Active JP6224019B2 (ja) 2011-11-09 2015-03-11 ダブルパス干渉方式エンコーダシステムを用いた物体の位置判定方法。

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015048528A Active JP6224019B2 (ja) 2011-11-09 2015-03-11 ダブルパス干渉方式エンコーダシステムを用いた物体の位置判定方法。

Country Status (7)

Country Link
US (2) US9025161B2 (ja)
EP (1) EP2776792B1 (ja)
JP (2) JP5714780B2 (ja)
KR (1) KR101521146B1 (ja)
CN (2) CN106289336B (ja)
TW (1) TWI476376B (ja)
WO (1) WO2013070871A1 (ja)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5714780B2 (ja) * 2011-11-09 2015-05-07 ザイゴ コーポレーションZygo Corporation ダブルパス干渉方式エンコーダシステム
WO2013073538A1 (ja) 2011-11-17 2013-05-23 株式会社ニコン エンコーダ装置、移動量計測方法、光学装置、並びに露光方法及び装置
WO2013161428A1 (ja) * 2012-04-26 2013-10-31 株式会社ニコン 計測方法及びエンコーダ装置、並びに露光方法及び装置
KR101960403B1 (ko) * 2014-08-28 2019-03-20 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 검사 장치, 검사 방법 및 제조 방법
WO2016030227A1 (en) * 2014-08-29 2016-03-03 Asml Netherlands B.V. Method for controlling a distance between two objects, inspection apparatus and method
US10066974B2 (en) 2014-10-13 2018-09-04 Zygo Corporation Interferometric encoder systems having at least partially overlapping diffracted beams
DE102015203188A1 (de) * 2015-02-23 2016-08-25 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
US9739644B2 (en) * 2015-05-28 2017-08-22 The Boeing Company Interferometric rotary encoder
JP2018526812A (ja) 2015-06-15 2018-09-13 ザイゴ コーポレーションZygo Corporation 変形体の変位測定
CN105606033B (zh) * 2016-03-18 2018-04-20 清华大学深圳研究生院 绝对式光栅尺、其主光栅及其测量方法
US10488228B2 (en) * 2016-04-11 2019-11-26 Nikon Corporation Transparent-block encoder head with isotropic wedged elements
US10591826B2 (en) * 2016-04-11 2020-03-17 Nikon Corporation Encoder head with a birefringent lens element and exposure system utilizing the same
US10162087B2 (en) * 2016-04-11 2018-12-25 Nikon Research Corporation Of America Optical system with a frustrated isotropic block
US10483107B2 (en) * 2016-04-11 2019-11-19 Nikon Corporation Encoder head with birefringent elements for forming imperfect retroreflection and exposure system utilizing the same
CN105758435B (zh) * 2016-04-14 2018-02-09 清华大学深圳研究生院 一种绝对式光栅尺
CN109478027B (zh) * 2016-05-31 2022-03-11 株式会社尼康 标记检测装置和标记检测方法、计测装置、曝光装置和曝光方法以及器件制造方法
DE102016210434A1 (de) * 2016-06-13 2017-12-14 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
JP6643199B2 (ja) * 2016-07-15 2020-02-12 Dmg森精機株式会社 変位検出装置
CN110337580A (zh) * 2016-11-07 2019-10-15 加州理工学院 反射空间外差光谱仪的整体式组件
CN107167081B (zh) * 2017-06-02 2021-06-15 哈尔滨师范大学 一种野外鸟卵测量装置
CN107144298A (zh) * 2017-06-27 2017-09-08 常州瑞丰特科技有限公司 高容差光栅读数头
US10921718B2 (en) * 2017-12-15 2021-02-16 Nikon Corporation Two-dimensional position encoder
JP7208388B2 (ja) * 2018-11-13 2023-01-18 ブラックモア センサーズ アンド アナリティクス エルエルシー 位相エンコーディングlidarにおける内部反射減算のためのレーザー位相追跡方法およびシステム
JP7233305B2 (ja) * 2019-05-30 2023-03-06 Dmg森精機株式会社 光学式変位測定装置
TWI721719B (zh) 2019-12-19 2021-03-11 財團法人工業技術研究院 量測裝置
US11598629B2 (en) * 2020-04-14 2023-03-07 Mitutoyo Corporation Optical displacement sensor
WO2022042947A1 (en) * 2020-08-27 2022-03-03 Asml Netherlands B.V. Compact dual pass interferometer for a plane mirror interferometer
CN112097651B (zh) * 2020-09-11 2022-07-22 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 外差二维光栅位移测量系统及测量方法
US11802796B2 (en) 2020-12-07 2023-10-31 California Institute Of Technology Monolithic assembly of miniature reflective cyclical spatial heterodyne spectrometer interferometry systems
CN114413945A (zh) * 2021-12-20 2022-04-29 四川云盾光电科技有限公司 一种亮度定位的绝对式编码器
US11821791B1 (en) * 2022-06-27 2023-11-21 Viavi Solutions Inc. Techniques for reducing optical ghosts in a gratings-based optical spectrum analyzer (OSA)

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4629886A (en) 1983-03-23 1986-12-16 Yokogawa Hokushin Electric Corporation High resolution digital diffraction grating scale encoder
EP0313681A1 (en) 1987-10-30 1989-05-03 Ibm Deutschland Gmbh Phase-sensitive interferometric mask-wafer alignment
JPH02504553A (ja) * 1987-12-15 1990-12-20 レニショウ パブリック リミテッド カンパニー 光電スケール読取装置
US5035507A (en) 1988-12-21 1991-07-30 Mitutoyo Corporation Grating-interference type displacement meter apparatus
JP2683098B2 (ja) * 1989-05-12 1997-11-26 キヤノン株式会社 エンコーダー
US5104225A (en) * 1991-01-25 1992-04-14 Mitutoyo Corporation Position detector and method of measuring position
JPH05126603A (ja) * 1991-11-05 1993-05-21 Canon Inc 格子干渉測定装置
JP3478567B2 (ja) * 1992-09-25 2003-12-15 キヤノン株式会社 回転情報検出装置
JP3144143B2 (ja) * 1993-04-13 2001-03-12 ソニー・プレシジョン・テクノロジー株式会社 光学式変位測定装置
JP3219349B2 (ja) * 1993-06-30 2001-10-15 キヤノン株式会社 波長コンペンセータ、該波長コンペンセータを用いたレーザ干渉測定装置、該レーザ干渉測定装置を有するステージ装置、該ステージ装置を有する露光システム、および該露光システムを用いたデバイスの製造方法
US5442172A (en) 1994-05-27 1995-08-15 International Business Machines Corporation Wavefront reconstruction optics for use in a disk drive position measurement system
JP2001004411A (ja) * 1999-06-17 2001-01-12 Canon Inc 光学式エンコーダ
JP3695398B2 (ja) 2002-01-30 2005-09-14 富士ゼロックス株式会社 光学式エンコーダ及びエンコーダ用スケール
JP4153234B2 (ja) * 2002-04-26 2008-09-24 ソニーマニュファクチュアリングシステムズ株式会社 受発光複合ユニット及びその製造方法、変位検出装置
US7375823B2 (en) * 2004-04-22 2008-05-20 Zygo Corporation Interferometry systems and methods of using interferometry systems
GB0413710D0 (en) 2004-06-21 2004-07-21 Renishaw Plc Scale reading apparatus
US7317539B2 (en) 2004-08-23 2008-01-08 Asml Netherlands B.V. Polarizing beam splitter device, interferometer module, lithographic apparatus, and device manufacturing method
DE102004053082A1 (de) * 2004-11-03 2006-05-04 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesssystem
JP4722474B2 (ja) * 2004-12-24 2011-07-13 株式会社ミツトヨ 変位検出装置
DE102005029917A1 (de) 2005-06-28 2007-01-04 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesseinrichtung
US7763875B2 (en) 2005-09-07 2010-07-27 Romanov Nikolai L System and method for sensing position utilizing an uncalibrated surface
US7440113B2 (en) * 2005-12-23 2008-10-21 Agilent Technologies, Inc. Littrow interferometer
US7636165B2 (en) 2006-03-21 2009-12-22 Asml Netherlands B.V. Displacement measurement systems lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2008073486A2 (en) * 2006-12-11 2008-06-19 Zygo Corporation Multiple-degree of freedom interferometer with compensation for gas effects
US7894075B2 (en) * 2006-12-11 2011-02-22 Zygo Corporation Multiple-degree of freedom interferometer with compensation for gas effects
US7545507B2 (en) * 2007-03-15 2009-06-09 Agilent Technologies, Inc. Displacement measurement system
US7561280B2 (en) * 2007-03-15 2009-07-14 Agilent Technologies, Inc. Displacement measurement sensor head and system having measurement sub-beams comprising zeroth order and first order diffraction components
US7864336B2 (en) 2008-04-28 2011-01-04 Agilent Technologies, Inc. Compact Littrow encoder
JP5235554B2 (ja) * 2008-08-01 2013-07-10 株式会社森精機製作所 光学式変位測定装置
JP5113000B2 (ja) 2008-09-19 2013-01-09 株式会社ミツトヨ 光電式エンコーダ
US8120781B2 (en) 2008-11-26 2012-02-21 Zygo Corporation Interferometric systems and methods featuring spectral analysis of unevenly sampled data
US8334983B2 (en) 2009-05-22 2012-12-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP3006902B1 (en) * 2010-03-30 2018-04-11 Zygo Corporation Lithography method and lithography system
US8829420B2 (en) 2010-06-09 2014-09-09 Nikon Corporation Two dimensional encoder system and method
JP5856184B2 (ja) 2010-12-16 2016-02-09 ザイゴ コーポレーションZygo Corporation 干渉計エンコーダ・システムでのサイクリック・エラー補償
WO2012106246A2 (en) 2011-02-01 2012-08-09 Zygo Corporation Interferometric heterodyne optical encoder system
JP5714780B2 (ja) * 2011-11-09 2015-05-07 ザイゴ コーポレーションZygo Corporation ダブルパス干渉方式エンコーダシステム
WO2013073538A1 (ja) 2011-11-17 2013-05-23 株式会社ニコン エンコーダ装置、移動量計測方法、光学装置、並びに露光方法及び装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2015501921A5 (ja)
KR101682171B1 (ko) 오프 축 정렬 시스템 및 정렬 방법
US9360347B2 (en) Two-dimensional encoder system and method
JP6076589B2 (ja) 変位検出装置
JP2013517465A5 (ja)
JP2007171206A5 (ja)
JP2008525801A5 (ja)
TW200710370A (en) Heterodyne reflectometer for film thickness monitoring and method for implementing
JPH073344B2 (ja) エンコ−ダ−
JP4852318B2 (ja) 変位検出装置、偏光ビームスプリッタ及び回折格子
JP2008310942A5 (ja)
US8947674B2 (en) Surface profile measuring apparatus and method
JP2014517505A5 (ja)
JP2015232562A5 (ja)
JP5976390B2 (ja) 位置測定装置
JP2006112974A5 (ja)
JP5933190B2 (ja) 光学式距離測定機器
JP2012242389A5 (ja)
JPWO2008010482A1 (ja) 光弾性測定方法およびその装置
WO2011004692A1 (ja) 光干渉計を用いた変位計測装置
JP3152330B2 (ja) 格子干渉型変位検出装置
JP2010014538A (ja) 回折性能測定装置
JP2020051782A (ja) 光学式角度センサ
JP2004061186A (ja) 軟x線干渉計
EP2538169B1 (en) Grazing incidence interferometer