JP2007171206A5 - - Google Patents

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  1. 変位を測定するための装置であって、
    干渉計コアに誘導される光ビームを含み、該干渉計コアは該光ビームを第１の成分のビーム及び第２の成分のビームに分割するようになっており、該第１の成分のビームはリトロー角で回折格子に誘導され、前記干渉計コアによって受光され、前記第２の成分のビームと合成され、該干渉計コアは、合成された前記第１の成分のビーム及び前記第２の成分のビームを検出器に誘導して、該合成された前記第１の成分のビーム及び前記第２の成分のビームについての測定結果を得るものであり、プロセッサは、該測定結果を前記回折格子の変位に変換し、ここで、前記回折格子の測定された変位の光路は、前記回折格子に入射する前記成分のビームに対して直交するように制限されないものである、変位を測定するための装置。
  2. 前記第１の成分のビームは測定ビームであり、前記第２の成分のビームは基準ビームである、請求項１に記載の変位を測定するための装置。
  3. 前記第１の成分のビームは測定ビームであり、前記第２の成分のビームは随伴（companion）測定ビームである、請求項１に記載の変位を測定するための装置。
  4. 前記光ビームは第１の光ビーム及び第２の光ビームに分割され、該第１の光ビームは測定成分及び基準成分を含み、該第２の光ビームは測定成分及び基準成分を含む、請求項１に記載の変位を測定するための装置。
  5. 二重周波数光源が前記光ビームを放射する、請求項１に記載の変位を測定するための装置。
  6. 前記第１の光ビーム及び前記第２の光ビームはそれぞれ、第１の測定ビーム及び第２の測定ビーム、並びに第１の基準ビーム及び第２の基準ビームに分割され、前記干渉計は、前記第１の測定ビーム及び前記第２の測定ビームを前記リトロー角で前記回折格子上に集束させるための再誘導光学系をさらに備える、請求項１に記載の変位を測定するための装置。
  7. 前記ビームスプリッタ及び前記再誘導光学系は前記干渉計コアと一体構造である、請求項９に記載の変位を測定するための装置。
  8. 前記レトロリフレクタは、２度通過する第１の測定ビーム進行路と、２度通過する第２の測定ビーム進行路とを提供するものである、請求項１に記載の変位を測定するための装置。
  9. 前記レトロリフレクタは、２度通過する第１の基準ビーム進行路と、２度通過する第２の基準ビーム進行路とを提供するものである、請求項８に記載の変位を測定するための装置。
  10. 測定ビーム進行路及び基準ビーム進行路は前記干渉計コアの中において同じである、請求項１に記載の変位を測定するための装置。
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