JP2014508922A5 - - Google Patents

Claims (32)

1. 光源と、
   前記光源からの光の回折次数を分離する光学系と、
   前記光学系からの前記光の回折次数と、前記光源からの光を受け取るように配置された計測対象の材料からの光とを検知して、前記材料の位相画像を提供する撮像検知器と
   を備える、位相計測システム。
2. 前記光源からの光は、前記材料を透過する又は前記材料の表面で反射される、請求項１に記載の位相計測システム。
3. 前記材料に対してコヒーレンスゲートを配置させるための並進ステージをさらに備える、請求項１又は２に記載の位相計測システム。
4. 低いコヒーレンスの前記光源は、レーザを含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の位相計測システム。
5. 前記光源は、広帯域光源を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の位相計測システム。
6. 前記材料から前記撮像検知器の表面に入射する光に対して特定の角度で前記撮像検知器の前記表面に入射する参照光路をさらに備える、請求項１から５のいずれか一項に記載の位相計測システム。
7. 前記光学系は、回折格子から受けた光の１つの次数を透過する空間フィルタを有する、請求項１から６のいずれか一項に記載の位相計測システム。
8. 前記参照光路は、反射する前記光の回折次数を分離する、請求項６に記載の位相計測システム。
9. 前記撮像検知器に接続されたデータプロセッサと画像データを格納するためのメモリとをさらに備える、請求項１から８のいずれか一項に記載の位相計測システム。
10. 前記材料の定量位相画像を表示するディスプレイをさらに備える、請求項９に記載の位相計測システム。
11. 前記光源と撮像対象の前記材料とを相対運動させるアクチュエータをさらに備え、前記位相計測システムは並進ステージを備える請求項１から１０のいずれか一項に記載の位相計測システム。
12. 前記並進ステージは、入射光軸に対して斜めの角度に前記材料を配向する、請求項１１に記載の位相計測システム。
13. 前記材料は光を反射する、及び／又は前記材料は反射面に位置している、請求項１、３から１２のいずれか一項に記載の位相計測システム。
14. 前記参照光路は、反射器を有する、請求項６に記載の位相計測システム。
15. ビームスプリッタは、参照路と、撮像対象の前記材料を含む撮像光路とに対する光を分離させる、請求項１に記載の位相計測システム。
16. 前記材料の透過画像を提供すべく又は前記材料の反射画像を提供すべく、前記材料に対して配置されるコヒーレンスゲートをさらに備える、請求項１に記載の位相計測システム。
17. コヒーレンスの低い光源に光学的に連結された第１の光路沿いに配置された計測対象の材料に対して、前記光源から光を提供する段階と、
    前記光源に光学的に連結された参照に対して光を提供する段階と、
    前記参照からの光の回折次数を分離する段階と、
    撮像検知器で光を検知する段階と
    を備え、
    検知された前記光は、第１軸沿いに方向づけられた前記材料からの光と、前記第１軸に対して特定の角度で配向された第２軸沿いに方向づけられ、干渉パターンを形成する前記光の回折次数とを含む、
    位相顕微鏡のための方法。
18. 前記光源からの光を前記材料に透過させる段階、又は前記光源からの光を、前記材料の表面で反射させる段階をさらに備える、請求項１７に記載の方法。
19. 並進ステージを利用して前記材料に対してコヒーレンスゲートを配置させる段階をさらに備える、請求項１７又は１８に記載の方法。
20. 前記コヒーレンスの低い光源は、レーザを含む、又は前記光源は広帯域光源を含む、請求項１７から１９のいずれか一項に記載の方法。
21. 参照光路は、前記材料から前記撮像検知器の表面に入射する光に対して特定の角度で前記撮像検知器の前記表面に入射する、請求項１７から２０のいずれか一項に記載の方法。
22. 空間フィルタを利用して、回折格子から受けた光の１つの次数を透過する段階をさらに備える、請求項１７から２１のいずれか一項に記載の方法。
23. 前記撮像検知器から画像データを受け取るデータプロセッサで画像データを処理する段階、ディスプレイに画像データを表示する段階、及び画像データをメモリに格納する段階をさらに備える、請求項１７から２２のいずれか一項に記載の方法。
24. 画像データをヒルベルト変換して位相画像を提供する段階をさらに備える、請求項１７から２３のいずれか一項に記載の方法。
25. 前記材料を、入射光軸に対して特定の角度で配向する段階をさらに備える、請求項１７から２４のいずれか一項に記載の方法。
26. 移動する細胞構造のような生体サンプルを、撮像する段階をさらに備える、請求項１７から２５のいずれか一項に記載の方法。
27. 前記位相計測システムは、入射光に対して特定の角度で傾けることのできる反射器の上に、前記材料が配置されるように、又は前記光源からの光が前記材料を透過して、材料支持表面で反射され、前記材料を通って撮像されるように、軸外し干渉を実行する、請求項１から１６のいずれか一項に記載の位相計測システム。
28. 前記光学系は、前記材料が反射した光に干渉させるために光の第１の回折次数を利用する、請求項１から１６，２７のいずれか一項に記載の位相計測システム。
29. 前記光学系は、フーリエ画像のコンポーネントの第１の回折次数を選択して、フーリエ平面で前記コンポーネントをずらす、及び前記位相計測システムは、画像の逆フーリエ変換を得る、請求項１から１６、２７、２８のいずれか一項に記載の位相計測システム。
30. 前記画像の位相をアンラッピングするデータプロセッサをさらに備える、及び／又は前記画像は、全視野定量位相画像を含む、請求項１から１６、２７から２９のいずれか一項に記載の位相計測システム。
31. 並進ステージに搭載された第１の鏡と、画像からノイズを取り除くようにアクチュエータに連結された第２の鏡とをさらに備える、請求項１から１６、２７から３０のいずれか一項に記載の位相計測システム。
32. 前記画像から共通モード位相ノイズを除去する、及び／又は前記位相計測システムは、前記材料の電力スペクトル密度を決定する、請求項１から１６、２７から３１のいずれか一項に記載の位相計測システム。