JP4023917B2 - 光学式変位測定装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、工作機械や半導体製造装置等の可動部分の相対移動位置を検出する光学式変位測定装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、工作機械や半導体製造装置等の可動部分の相対移動位置を検出する装置として、回折格子を用いた光学式の変位測定装置が知られている。
【０００３】
例えば、特開昭６０−９８３０２号公報に提案されている従来の光学式変位測定装置を、図１９及び図２０に示す。図１９は、この従来の光学式変位測定装置１００を模式的に示す斜視図であり、図２０は、この従来の光学式変位測定装置１００を模式的に示す側面図である。
【０００４】
従来の光学式変位測定装置１００は、工作機械等の可動部分の移動にともない図中矢印Ｘ１及びＸ２方向に直線移動する回折格子１０１と、可干渉光であるレーザ光を出射する可干渉光源１０２と、可干渉光源１０２から出射されたレーザ光を２本のビームに分割するとともに回折格子１０１からの２つの回折光を重ね合わせ干渉させるハーフミラー１０３と、回折格子１０１を透過した回折光を反射する２つのミラー１０４ａ，１０４ｂと、干渉した２つの回折光を受光して干渉信号を生成するフォトディテクタ１０５とを備えている。
【０００５】
可干渉光源１０２から出射されたレーザ光は、ハーフミラー１０３により２本のビームに分割される。この２本のビームは、それぞれ回折格子１０１に照射され、この回折格子１０１を透過した回折光がそれぞれミラー１０４ａ，１０４ｂに照射される。ミラー１０４ａ，１０４ｂに反射された回折光は、回折格子１０１に再度照射され、この回折格子１０１を透過した回折光が同一の光路をたどりハーフミラー１０３に戻される。ハーフミラー１０３に戻された回折光は、２本が重ね合わせられて干渉し、フォトディテクタ１０５に照射される。
【０００６】
このような従来の光学式変位測定装置１００では、回折格子１０１が図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に移動する。光学式変位測定装置１００では、この回折格子１０１の移動に応じて、この回折格子１０１によって生じる２つの回折光に位相差が生じる。そのため、この光学式変位測定装置１００では、フォトディテクタ１０５により得られる干渉信号から２本の回折光の位相差を検出することにより、工作機械等の可動部分の移動位置を測定することができる。
【０００７】
また、特開昭６０−９８３０２号公報に提案されている他の従来の光学式変位測定装置を、図２１及び図２２に示す。図２１は、従来の光学式変位測定装置１１０を模式的に示す斜視図であり、図２２は、従来の光学式変位測定装置１１０を模式的に示す側面図である。
【０００８】
従来の光学式変位測定装置１１０は、工作機械等の可動部分の移動にともない図中矢印Ｘ１及びＸ２方向に直線移動する回折格子１１１と、可干渉光であるレーザ光を出射する可干渉光源１１２と、可干渉光源１１２から出射されたレーザ光を２本のビームに分割するとともに回折格子１１１からの２つの回折光を重ね合わせて干渉させるハーフミラー１１３と、ハーフミラー１１３により分割された２本のビームを回折格子１１１上の同一位置に照射する２つの第１のミラー１１４ａ，１１４ｂと、回折格子１１１を透過した回折光を反射する２つの第２のミラー１１５ａ，１１５ｂと、干渉した２つの回折光を受光して干渉信号を生成するフォトディテクタ１１６とを備えている。
【０００９】
可干渉光源１１２から出射されたレーザ光は、ハーフミラー１１３により２本のビームに分割される。この２本のビームは、それぞれ第１のミラー１１４ａ，１１４ｂに反射されて、回折格子１１１上の同一の位置に照射される。回折格子１１１に照射された２本のビームは、この回折格子１１１をそれぞれ透過し、その回折光がそれぞれ第２のミラー１１５ａ，１１５ｂに照射される。第２のミラー１１５ａ，１１５ｂに反射された回折光は、回折格子１１１に再度照射され、この回折格子１１１を透過した回折光が同一の光路をたどりハーフミラー１１３に戻される。ハーフミラー１１３に戻された回折光は、２本が重ね合わせられて干渉し、フォトディテクタ１１６に照射される。
【００１０】
このような従来の光学式変位測定装置１１０では、回折格子１１１が図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に移動する。光学式変位測定装置１１０では、この回折格子１１１の移動に応じて、この回折格子１１１によって生じる２つの回折光に位相差が生じる。そのため、この光学式変位測定装置１１０では、フォトディテクタ１１６により得られる干渉信号から２本の回折光の位相差を検出することにより、工作機械等の可動部分の移動位置を測定することができる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、近年、工作機械や産業用ロボットの高精度化にともない、例えば、数１０ｎｍから数ｎｍといった高い分解能で位置検出ができる光学式変位測定装置が求められるようになってきた。
【００１２】
光学式変位測定装置で高い分解能を得るためには大きな干渉信号を検出する必要があり、そのため、干渉させる２つの回折光を非常に高い精度で重ね合わせなければならない。
【００１３】
しかしながら、上述した従来の光学式変位測定装置１００，１１０では、回折格子１０１，１１１が本来の移動方向以外に移動したり、傾いたりしたり、また、回折格子１０１，１１１にうねり等があると、ハーフミラー１０３，１１３により重ね合わされた回折光がずれ、急激に干渉信号が小さくなり位置検出をすることが困難となってしまっていた。例えば、回折格子１０１，１１１が、図１９〜図２２中、矢印Ａ１及び矢印Ａ２方向への回転移動や、矢印Ｂ１及び矢印Ｂ２方向への回転移動をした場合に、位置検出をすることが困難となっていた。
【００１４】
また、上述した従来の光学式変位測定装置１００を変形した光学式変位測定装置として、図２３に示すような、可干渉光源１０２から出射するレーザ光をミラー１０４ａ，１０４ｂに結像させる第１のレンズ１０６と、ハーフミラー１０３により重ね合わされ干渉した２つの回折光をフォトディテクタ１０５の受光面に結像させる第２のレンズ１０７とを備えた光学式変位測定装置１２０がある。
【００１５】
しかしながら、この光学式変位測定装置１２０であっても、回折格子１０１が本来の移動方向以外に移動したり、傾いたりしたり、また、回折格子１０１にうねり等があると、ハーフミラー１０３により重ね合わされた回折光がずれ、急激に干渉信号が小さくなり位置検出をすることが困難となってしまう。
【００１６】
例えば、この光学式変位測定装置１２０では、矢印Ａ１及び矢印Ａ２方向に３０秒から１分、矢印Ｂ１及び矢印Ｂ２方向に１０分程度の角度変化で、約２０パーセントの干渉信号の変化が生じてしまう。また、反射型の回折格子を用いた場合には、矢印Ｂ１及び矢印Ｂ２方向の許容角度は、この数十分の１となり、さらに位置検出をすることが困難となってしまう。
【００１７】
ここで、特開平２−１６７４２７号公報に提案されている従来の光学式変位測定装置を図２４に示す。
【００１８】
この図２４に示す光学式変位測定装置１３０は、工作機械等の可動部分の移動にともない図中矢印Ｘ１及び矢印Ｘ２方向に直線移動する回折格子１３１と、レーザ光を出射するレーザダイオード１３２と、レーザダイオード１３２から出射されたレーザ光を２本のビームに分割するハーフミラー１３３と、回折格子１３１を透過した２本の回折光を受光する第１と第２の受光素子１３４，１３５と、２本の回折光を集光する２つのレンズ１３６，１３７とを備えている。
【００１９】
この光学式変位測定装置１３０では、回折格子１３１の回折面或いは屈折面に焦点がくるように、第１と第２のレンズ１３６，１３７を配置している。このため、第１と第２の受光素子１３４，１３５に照射される回折光が常に平行となり、例えば、回折格子１３１が傾いたり、この回折格子１３１にうねりがあった場合であっても、干渉信号の変動が小さくなる。
【００２０】
しかしながら、この光学式変位測定装置１３０では、保持されるのは２つの回折光の平行であり、例えば、回折格子１３１が傾いた場合、図２５に示すように、均一な干渉が保たれているのはあくまで２つのビームの重なった図中斜線で示す部分である。従って、この２つのビームが重なった部分以外は、回折光は干渉せず、干渉信号が小さくなる。また、２つの回折光が完全な平行ビームではなく、何らかの収差を含む場合には、ビームが重なった部分も均一な干渉が保たれず、干渉信号が小さくなる。
【００２１】
本発明は、このような実情を鑑みてなされたものであり、高い分解能での位置検出が可能な光学式変位測定装置を提供することを目的とする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するために、本発明に係る光学式変位測定装置は、可干渉光が照射され、この可干渉光に対して格子ベクトルに平行な方向に相対移動し、この可干渉光を回折する回折格子と、可干渉光を発光する発光手段と、上記発光手段により発光された可干渉光を２つの可干渉光に分割して、上記回折格子に対して各可干渉光を照射する照射光学系と、上記各可干渉光が上記回折格子により回折されて得られる２つの回折光を干渉させる干渉光学系と、干渉した２つの回折光を受光して干渉信号を検出する受光手段と、上記受光手段が検出した干渉信号から上記２つの回折光の位相差を求めて、上記回折格子の相対移動位置を検出する位置検出手段とを備え、上記照射光学系は、上記回折格子に対して照射される２つの可干渉光を、この回折格子の格子面に結像させる第１の結像手段を有し、上記干渉光学系は、上記受光手段が受光する干渉された２つの回折光を、この受光手段の受光面に結像させる第２の結像手段を有することを特徴とする。
【００２３】
この光学式変位測定装置では、例えば図１に示すように、発光手段２が発光した可干渉光Ｌａを、第１の結像手段４が回折格子１の格子面に結像する。回折格子１の格子面に結像された可干渉光Ｌａがこの回折格子１によって回折し、反射或いは透過した回折光Ｌｂが生じる。第２の結像手段５は、この回折光Ｌｂを受光手段３の受光面に結像する。
【００２４】
この光学式変位測定装置では、回折格子１の格子面に可干渉光Ｌａが結像されているとともに受光手段３の受光面に回折光Ｌｂが結像されているため、第２の結像手段５の開口範囲内を通過する回折光Ｌｂの光路長が常に等しくなる。従って、回折光Ｌｂの光軸がずれた場合であっても受光手段３の受光面の結像位置は変化せず、光路長に変化が生じない。
【００２５】
【発明の実施の形態】
まず、本発明を適用した第１の実施の形態の光学式変位測定装置について説明する。
【００２６】
本発明の第１の実施の形態の光学式変位測定装置１０は、図２に示すように、工作機械等の可動部分に取り付けられ直線移動する回折格子１１と、レーザ光等の可干渉光Ｌａを出射する可干渉光源１２と、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が干渉した干渉光を受光して干渉信号を生成する受光素子１３と、受光素子１３からの干渉信号に基づき回折格子１１の移動位置を検出する位置検出部１４と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを回折格子１１に照射する照射光学系１５と、回折格子１１からの２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させて受光素子１３に照射する受光光学系１６とを備えている。
【００２７】
回折格子１１は、図３に示すように、例えば薄板状の形状を有しており、その表面に狭いスリットや溝等の格子が所定間隔毎に刻まれている。このような回折格子１１に入射された光は、表面に刻まれたスリット等により回折する。回折により生じる回折光は、格子の間隔と光の波長で定まる方向に発生する。
【００２８】
ここで、発明の実施の形態を説明するにあたり、格子が形成されている回折格子１１の面を、格子面１１ａと呼ぶ。なお、回折格子１１が透過型の場合には、可干渉光が入射される面と回折光が発生する面とをともに格子面１１ａと呼ぶ。また、回折格子１１の格子が形成された方向（図３中矢印Ｃ１，Ｃ２方向）、すなわち、格子の透過率や反射率、溝の深さ等の変化の方向を表す格子ベクトルに対して垂直な方向であって且つ格子面１１ａに平行な方向を、格子方向と呼ぶ。格子が形成された方向に垂直な方向であり且つ格子面１１ａに平行な方向（図３中矢印Ｄ１，Ｄ２方向）、すなわち、回折格子１１の格子ベクトルに対して平行な方向を、格子ベクトル方向と呼ぶ。また、格子面１１ａに垂直な方向（図３中矢印Ｅ１，Ｅ２方向）、すなわち、格子方向に垂直な方向であり且つ格子ベクトル方向に垂直な方向を、法線ベクトル方向と呼ぶ。なお、これら回折格子１１の各方向については、本発明の第１の実施の形態のみならず、他の実施の形態においても同様に呼ぶものとする。
【００２９】
この回折格子１１は、工作機械等の可動部分に取り付けられ、この可動部分の移動にともなって、図２中矢印Ｘ１，Ｘ２方向、すなわち、格子ベクトル方向に移動する。
【００３０】
なお、本発明では、回折格子の種類は限定されず、機械的に溝等が形成されたもののみならず、例えば、感光性樹脂に干渉縞を焼き付けて作成したものであってもよい。
【００３１】
可干渉光源１２は、レーザ光等の可干渉光を発光する素子である。この可干渉光源１２は、例えば、可干渉距離が数百μｍ程度のレーザ光を発光するマルチモードの半導体レーザ等からなるものである。
【００３２】
受光素子１３は、受光面１３ａに対して照射された光を、その光量に応じた電気信号に変換する光電変換素子であり、例えば、フォトディテクタ等からなるものである。この受光素子１３は、受光面１３ａに対して照射される干渉光を受光して、その光量に応じた干渉信号を生成する。
【００３３】
位置検出部１４は、受光素子１３が生成した干渉信号に基づき、２つの回折光の位相差を求め、回折格子１１の相対移動位置を示す位置信号を出力する。
【００３４】
照射光学系１５は、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを回折格子１１の格子面１１ａ上に結像させる第１の結像素子２１と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを２つの可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分離するハーフミラー２２と、ハーフミラー２２により分離された一方の可干渉光Ｌａ１を反射する反射器２３と、ハーフミラー２２により分離された他方の可干渉光Ｌａ２を反射する反射器２４とを有している。
【００３５】
第１の結像素子２１は、所定の開口数を有するレンズ等の光学素子からなるものである。第１の結像素子２１には、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａが入射される。第１の結像素子２１は、入射された可干渉光Ｌａを所定のビーム径で回折格子１１の格子面１１ａに結像させる。結像されたビーム径は、回折格子１１が回折光を発生させるのに十分な格子数を含む大きさが望ましい。また、そのビーム径は、格子面１１ａ上のゴミや傷の影響を受けないような大きさが望ましい。例えば、そのビーム径は、第１の結像素子２１の開口数等を変えることにより調整することができ、例えば、数十μｍ以上とするのが望ましい。また、結像点は、必ずしもビーム径が最小となる点とする必要はなく、ビームの像内での光路長の差が最小となる点が格子面１１ａ上に位置するようにしてもよい。
【００３６】
ハーフミラー２２には、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａが第１の結像素子２１を介して入射される。このハーフミラー２２は、入射された可干渉光Ｌａの一部を透過して可干渉光Ｌａ１を生成し、入射された可干渉光Ｌａの一部を反射して可干渉光Ｌａ２を生成する。
【００３７】
反射器２３は、ハーフミラー２２を透過した可干渉光Ｌａ１を反射して、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。また、反射器２４は、ハーフミラー２２により反射された可干渉光Ｌａ２を反射して、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。反射器２３及び反射器２４は、可干渉光Ｌａ１及び可干渉光Ｌａ２を、格子面１１上の同一の位置に照射する。
【００３８】
一方、受光光学系１６は、可干渉光Ｌａ１により生じる回折光Ｌｂ１を反射する反射器２５と、可干渉光Ｌａ２により生じる回折光Ｌｂ２を反射する反射器２６と、反射器２５により反射された回折光Ｌｂ１と反射器２６により反射された回折光Ｌｂ２とを重ね合わせて干渉させるハーフミラー２７と、ハーフミラー２７により重ね合わされた２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光素子１３の受光面１３ａ上に結像させる第２の結像素子２８とを有している。
【００３９】
反射器２５には、可干渉光Ｌａ１が回折格子１１に照射されることにより生じる回折光Ｌｂ１が照射される。反射器２５は、この回折光Ｌｂ１を反射して、ハーフミラー２７に照射する。反射器２６は、可干渉光Ｌａ２が回折格子１１に照射されることにより生じる回折光Ｌｂ２が照射される。反射器２６は、この回折光Ｌｂ２を反射して、ハーフミラー２７に照射する。
【００４０】
ハーフミラー２７は、反射器２５により反射された回折光Ｌｂ１を透過し、反射器２６により反射された回折光Ｌｂ２を反射することにより、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２とを重ね合わせて干渉させる。
【００４１】
第２の結像素子２８は、所定の開口数を有するレンズ等の光学素子からなる。第２の結像素子２８には、ハーフミラー２７により重ね合わされた２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が入射する。第２の結像素子２８は、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を、所定のビーム径で受光素子１３の受光面１３ａに結像させる。その結像点は、必ずしもビーム径が最小となる点とする必要はなく、ビームの像内での光路長の差が最小となる点が受光面１３ａ上に位置するようにしてもよい。
【００４２】
以上のような構成の光学式変位測定装置１０では、可動部分の移動に応じて回折格子１１が格子ベクトル方向に移動することにより、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２に位相差が生じる。この光学式変位測定装置１０では、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させて干渉信号を検出し、この干渉信号から２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の位相差を求めて、回折格子１１の移動位置を検出する。
【００４３】
ここで、例えば、図４に示すように、回折格子１１の格子ベクトル方向の一端が法線ベクトル方向の一方向（例えば、図４中矢印Ｘ３方向）に移動し、他端が法線ベクトルの他方向（例えば、図４中矢印Ｘ４方向）に移動して、格子面１１ａが傾いたとする。この場合、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２の回折角が変化する。そのため、ハーフミラー２７で重ね合わされた後の２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光軸が一致しない。
【００４４】
ところが、この光学式変位測定装置１０では、可干渉光源１２が発光した可干渉光Ｌａを、第１の結像素子２１が回折格子１１の格子面１１ａに結像しているとともに、第２の結像素子２８が２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光素子１３の受光面１３ａに結像している。そのため、光学式変位測定装置１０では、第２の結像素子２８の開口範囲内を通過する２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光路長が等しくなる。従って、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光軸がずれた場合であっても、受光面１３ａの結像位置は変化せず、光路長の変化が生じない。
【００４５】
このことにより、本発明の第１の実施の形態の光学式変位測定装置１０では、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が互いにずれることなく重なり合わされる。そのため、回折格子１１が、格子ベクトルに平行な方向以外に移動等した場合、例えば、回折格子１１が傾いたり、回折格子１１にうねり等があった場合であっても、受光素子１３が検出する干渉信号が低下しない。従って、この光学式変位測定装置１０では、移動する可動部分の移動位置を、高分解能かつ高精度に検出することができる。また、この光学式変位測定装置１０では、工作機械等の可動部分への取り付け位置の自由度が増し、また、この可動部分に振動やぶれ等があっても安定して位置検出できる。
【００４６】
また、光学式変位測定装置１０では、回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が受光面１３ａの同一位置に結像されているので、ビームのケラレが生じず、高精度に位置検出ができる。
【００４７】
また、この光学式変位測定装置１０では、第１の結像素子２１又は第２の結像素子２８の開口を大きくすることにより、回折格子１１と照射光学系１５或いは受光光学系１６との間隔を大きくすることができ、また、小型の受光素子１３を用いることができ、また、設計が簡易となる。
【００４８】
また、光学式変位測定装置１０では、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２との光路長を等しくし、また、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２との光路長を等しくすることにより、波長の変動に起因する測定誤差が生じなくなる。そのため、この光学式変位測定装置１０では、各光路長の調整を行うために、光路長の差を干渉縞の変調率の変化として検出することが可能な可干渉性を有する可干渉光を発光する可干渉光源１２を用いても良い。例えば、可干渉距離が数百μｍ程度の短いマルチモードの半導体レーザを可干渉光源１２に用いれば、干渉縞の変調率が最大となるようにハーフミラー２２，２７の位置を調整することで、例えば、各光路長の差を数１０μｍ以下に抑えることができる。
【００４９】
つぎに、本発明を適用した第２の実施の形態の光学式変位測定装置について説明する。なお、この第２の実施の形態の光学式変位測定装置を説明するにあたり、上記第１の光学式変位測定装置と同一の構成要素については、図面中に同一の符号を付けて、その詳細な説明を省略する。また、第３の実施の形態以降についても、それまでの実施の形態と同一の構成要素については、図面中に同一の符号を付けて、その詳細な説明を省略する。
【００５０】
本発明の第２の実施の形態の光学式変位測定装置３０は、図５に示すように、工作機械等の可動部分に取り付けられ直線移動する回折格子１１と、レーザ光等の可干渉光Ｌａを出射する可干渉光源１２と、干渉した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光して干渉信号を生成する受光素子１３と、受光素子１３からの干渉信号に基づき回折格子１１の移動位置を検出する位置検出部１４と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを回折格子１１に照射する照射光学系３１と、回折格子１１からの２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させて受光素子１３に照射する受光光学系３２とを備えている。
【００５１】
照射光学系３１は、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを回折格子１１の格子面１１ａ上に結像させる第１の結像素子２１と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを２本の可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分離するハーフミラー２２とを有している。
【００５２】
この照射光学系３１には、第１の実施の形態の光学式変位測定装置１０で設けられていた反射器が設けられていない。従って、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とが、ハーフミラー２２から直接回折格子１１の格子面１１ａに対して照射されている。そのため、回折格子１１の格子面１１ａ上の可干渉光Ｌａ１の入射点と、回折格子１１の格子面１１ａ上の可干渉光Ｌａ２の入射点との位置が異なっている。
【００５３】
受光光学系３２には、可干渉光Ｌａ１により生じる回折光Ｌｂ１と可干渉光Ｌａ２により生じる回折光Ｌｂ２とを重ね合わせて干渉させるハーフミラー２７と、ハーフミラー２７により重ね合わされた２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光素子１３の受光面１３ａ上に結像させる第２の結像素子２８とを有している。
【００５４】
ハーフミラー２７には、可干渉光Ｌａ１が回折格子１１に照射されることにより生じる回折光Ｌｂ１と、可干渉光Ｌａ２が回折格子１１に照射されることにより生じる回折光Ｌｂ２とが入射される。回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２とは、それぞれ格子面１１ａ上の異なる位置からハーフミラー２７に入射する。ハーフミラー２７は、回折光Ｌｂ１を透過し、回折光Ｌｂ２を反射することにより、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２とを重ね合わせて干渉させる。
【００５５】
以上のような構成の光学式変位測定装置３０では、可動部分の移動に応じて回折格子１１が格子ベクトル方向に移動することにより、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２に位相差が生じる。この光学式変位測定装置３０では、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させて干渉信号を検出し、この干渉信号から２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の位相差を求めて、回折格子１１の移動位置を検出する。
【００５６】
ここで、例えば、図６に示すように、回折格子１１の格子ベクトル方向の一端が法線ベクトル方向の一方向（図６中矢印Ｘ３方向）に移動し、他端が法線ベクトルの他方向（図６中矢印Ｘ４方向）に移動して、格子面１１ａが傾いたとする。この場合、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２の回折角が変化する。そのため、ハーフミラー２７で重ね合わされた後の２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光軸が一致しない。
【００５７】
ところが、この光学式変位測定装置３０では、可干渉光源１２が発光した可干渉光Ｌａを、第１の結像素子２１が回折格子１１の格子面１１ａに結像しているとともに、第２の結像素子２８が２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光素子１３の受光面１３ａに結像している。そのため、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２の回折格子１１に対する入射位置が近接していれば、第２の結像素子２８の開口範囲内を通過する２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光路長がほぼ等しくなる。従って、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光軸がずれた場合であっても、受光面１３ａの結像位置はほとんど変化せず、光路長の変化が少ない。
【００５８】
また、回折格子１１が図２０で示した矢印Ａ１，Ａ２方向に傾いた場合には、第２の結像素子２８の開口範囲内を通過する２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光路長は等しく、受光面１３ａの結像位置は変化しない。
【００５９】
このことにより本発明の第２の実施の形態の光学式変位測定装置３０では、その構成を簡便にすることができるとともに、移動する可動部分の移動位置を、高分解能かつ高精度に検出することができる。
【００６０】
さらに、この光学式変位測定装置３０では、回折格子１１の格子面１１ａ上の可干渉光Ｌａ１の入射点と可干渉光Ｌａ２の入射点との位置が異なっている。このため、光学式変位測定装置３０では、干渉させる回折光Ｌｂ以外の例えば０次回折光や反射光等が照射光学系３１や受光光学系３２に混入しない。従って、測定ノイズを少なくすることができ、また、移動する可動部分の移動位置を高分解能かつ高精度に検出することができる。
【００６１】
つぎに、反射型の回折格子１１を用いて本発明を適用した第３の実施の形態の光学式変位測定装置について説明する。
【００６２】
図７に、この第３の実施の形態の光学式変位測定装置の模式的な斜視図を示す。
【００６３】
ここで、回折格子１１の格子面１１ａ上の格子ベクトル方向に平行な１つの仮想的な直線を直線ｎとする。また、直線ｎを含み法線ベクトルに平行な仮想的な面を、基準面ｍ１とする。また、直線ｎを含み基準面ｍ１とのなす角がγとなっている仮想的な面を、傾斜面ｍ２とする。また、直線ｎを含み基準面ｍ１とのなす角がδとなっている仮想的な面を、傾斜面ｍ３とする。また、傾斜面ｍ２と傾斜面ｍ３は、回折格子１１の格子面１１ａに対し、同一面側にあるものとする。
【００６４】
図８に、この傾斜面ｍ２上に配置された構成要素を傾斜面ｍ２に対して垂直な方向から見た側面図を示す。図９に、回折格子１１に入射される可干渉光及びこの回折格子１１により回折される回折光を格子ベクトル方向から見た側面図を示す。図１０に、傾斜面ｍ３上に配置された構成要素をこの傾斜面ｍ３に対して垂直な方向から見た側面図を示す。
【００６５】
本発明の第３の実施の形態の光学式変位測定装置は、反射型の回折格子１１を備え、工作機械等の可動部分の位置検出を行う装置である。
【００６６】
光学式変位測定装置４０は、図７及び図８に示すように、可干渉光Ｌａを出射する可干渉光源１２と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを２つの可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分割して回折格子１１に照射する照射光学系４１とを備えている。
【００６７】
照射光学系４１は、干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを回折格子１１の格子面１１ａ上に結像させる第１の結像素子２１と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを２つの可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分離するハーフミラー２２と、ハーフミラー２２により分離された一方の可干渉光Ｌａ１を反射する反射器２３と、ハーフミラー２２により分離された他方の可干渉光Ｌａ２を反射する反射器２４とを有している。
【００６８】
この照射光学系４１は、通過する可干渉光Ｌａ（Ｌａ１，Ｌａ２）の光路が傾斜面ｍ２上に形成されるように、各部材が配置されている。そのため、可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２は、図９に示すように、格子ベクトル方向から見た入射角がγとなっている。
【００６９】
反射器２３は、ハーフミラー２２を透過した可干渉光Ｌａ１を反射して、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。また、反射器２４は、ハーフミラー２２により反射された可干渉光Ｌａ２を反射して、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。
【００７０】
反射器２３及び反射器２４は、傾斜面ｍ２上における入射角がαとなるように、可干渉光Ｌａ１及び可干渉光Ｌａ２を、格子面１１ａ上の所定の位置に照射している。なお、反射器２３及び反射器２４は、その反射面が、互いが向き合うように配置されている。そのため、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とは、格子ベクトル方向の入射方向が、互いに逆方向となっている。また、反射器２３及び反射器２４は、格子ベクトル方向に所定量離した位置に、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とを入射している。可干渉光Ｌａ１の入射点と可干渉光Ｌａ２の入射点との間の距離は、ｌとなっている。
【００７１】
光学式変位測定装置４０では、このような可干渉光Ｌａ１が回折格子１１に照射されることによりこの可干渉光Ｌａ１が回折し、この入射点から反射した回折光Ｌｂ１が生じる。また、このような可干渉光Ｌａ２が回折格子１１に照射されることによりこの可干渉光Ｌａ２が回折し、この入射点から反射した回折光Ｌｂ２が生じる。回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２の回折角は、格子ベクトル方向からみた場合、図９に示すように、δとなっている。すなわち、傾斜面ｍ３に沿って回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が生じる。また、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２の傾斜面ｍ３上における回折角は、βとなっている。なお、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２とは、格子ベクトル方向における出射方向が互いに逆方向となっている。
【００７２】
また、光学式変位測定装置４０は、図７及び図１０に示すように、干渉した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光して干渉信号を生成する受光素子１３と、回折光Ｌｂ１及び回折光Ｌｂ２を干渉させて受光素子１３に照射する受光光学系４２とを備えている。
【００７３】
受光光学系４２は、可干渉光Ｌａ１により生じる回折光Ｌｂ１を反射する反射器２５と、可干渉光Ｌａ２により生じる回折光Ｌｂ２を反射する反射器２６と、反射器２５により反射された回折光Ｌｂ１と反射器２６により反射された回折光Ｌｂ２とを重ね合わせて干渉させるハーフミラー２７と、ハーフミラー２７により重ね合わされた２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光素子１３の受光面１３ａ上に結像させる第２の結像素子２８とを有している。
【００７４】
受光光学系４２は、上述したように２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の格子ベクトル方向から見た回折角がδとなっているため、通過する回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光路が傾斜面ｍ３上に形成されるように、各部材が配置されている。また、受光光学系４２の反射器２５と反射器２６とは、傾斜面ｍ３上における回折角βで回折された回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を反射可能な位置に配置されている。
【００７５】
また、光学式変位測定装置４０は、受光素子１３からの干渉信号に基づき回折格子１１の移動位置を検出する図示しない位置検出部を備えている。
【００７６】
このような構成の光学式変位測定装置４０では、可動部分の移動に応じて回折格子１１が格子ベクトル方向に移動することにより、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２に位相差が生じる。この光学式変位測定装置４０では、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させて干渉信号を検出し、この干渉信号から２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の位相差を求めて、回折格子１１の移動位置を検出する。
【００７７】
以上のように光学式変位測定装置４０では、基準面ｍ１に対して、所定の傾斜角をもった傾斜面ｍ２上に照射光学系４１を配置し、傾斜面ｍ３上に受光光学系４２を配置することにより、可干渉光と回折光とが形成する光路を分離することができ、装置の設計の自由度が増す。また、格子面１１ａからの０次回折光や反射光を、照射光学系４１や受光光学系４２に混入させることなく、回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させることができ、高精度に位置測定をすることができる。
【００７８】
なお、０次回折光や反射光を照射光学系４１や受光光学系４２に混入させないための条件は、以下の通りである。
【００７９】
入射角αと回折角βとが等しい場合には、０次回折光が受光素子１３に照射されない程度に入射点間の距離ｌを離して、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とを入射する。可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とは、回折格子１１に対して格子ベクトル方向に離して入射しても良いが、例えば、図１１に示すように、格子方向に所定量離した位置に、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とを入射してもよい。この場合、回折格子１１の格子ベクトル方向（図１１中矢印Ｘ３方向）の一端が法線ベクトル方向の一方向に移動し、他端が法線ベクトルの他方向（図１１中矢印Ｘ４方向）に移動して、格子面１１ａが傾いたとしても、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の受光素子１３の受光面１３ａ上の結像位置はずれない。
【００８０】
また、入射角αと回折角βとが異なる場合には、可干渉光Ｌａ１の入射点と可干渉光Ｌａ２の入射点とを同一の位置としてもよい。
【００８１】
可干渉光の入射角α，γ、回折光の回折角β，δの関係は、以下の式（１）、式（２）に示すようになる。
【００８２】
Ｓｉｎα＋Ｓｉｎβ＝ｍλ/ｄ ・・・（１）
ｄ：回折格子のピッチ
λ：光の波長
ｍ：回折次数
Ｓｉｎγ/Ｓｉｎδ ＝Ｃｏｓβ/Ｃｏｓα ・・・（２）
従って、α＝βの場合にはγ＝δとなり、α≠βの場合にはγ≠δとなる。
【００８３】
つぎに、透過型の回折格子１１を用いて本発明を適用した第４の実施の形態の光学式変位測定装置について説明する。
【００８４】
図１２に、この第４の実施の形態の光学式変位測定装置の模式的な斜視図を示す。
【００８５】
ここで、直線ｎ、基準面ｍ１、傾斜面ｍ２の関係は、上記第３の実施の形態と同様である。また、直線ｎを含み基準面ｍ１とのなす角がδとなっており、傾斜面ｍ２に対して格子面１１ａを挟んで反対側にある仮想的な面を傾斜面ｍ３′とする。
【００８６】
図１３に、傾斜面ｍ２上に配置された構成要素を、傾斜面ｍ２及び傾斜面ｍ３′に対して垂直な方向から見た側面図を示す。図１４に、回折格子１１に入射される可干渉光及びこの回折格子１１により回折される回折光を格子ベクトル方向から見た側面図を示す。
【００８７】
本発明の第４の実施の形態の光学式変位測定装置は、透過型の回折格子１１を備え、工作機械等の可動部分の位置検出を行う装置である。
【００８８】
光学式変位測定装置５０は、図１２及び図１３に示すように、可干渉光Ｌａを出射する可干渉光源１２と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを２つの可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分割して回折格子１１に照射する照射光学系４１とを備えている。
【００８９】
この照射光学系４１は、通過する可干渉光Ｌａ（Ｌａ１，Ｌａ２）の光路が傾斜面ｍ２上に形成されるように、各部材が配置されている。そのため、可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２は、図１４に示すように、格子ベクトル方向から見た入射角がγとなっている。
【００９０】
反射器２３は、ハーフミラー２２を透過した可干渉光Ｌａ１を反射して、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。また、反射器２４は、ハーフミラー２２により反射された可干渉光Ｌａ２を反射して、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。反射器２３及び反射器２４は、傾斜面ｍ２上における入射角がαとなるように、可干渉光Ｌａ１及び可干渉光Ｌａ２を、格子面１１ａ上の所定の位置に照射している。可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とは、格子ベクトル方向の入射方向が、互いに逆方向となっている。可干渉光Ｌａ１の入射点と可干渉光Ｌａ２の入射点との間は、格子ベクトル方向に所定量離れており、その距離はｌとなっている。
【００９１】
光学式変位測定装置５０では、このような可干渉光Ｌａ１が回折格子１１に照射されることによりこの可干渉光Ｌａ１が回折し、この入射点を透過した回折光Ｌｂ１が生じる。また、このような可干渉光Ｌａ２が回折格子１１に照射されることによりこの可干渉光Ｌａ２が回折し、この入射点を透過した回折光Ｌｂ２が生じる。回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２の回折角は、格子ベクトル方向からみた場合、図１４に示すように、δとなっている。すなわち、傾斜面ｍ３′に沿って回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が生じる。また、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２の傾斜面ｍ３′上における回折角は、βとなっている。なお、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２とは、格子ベクトル方向における出射方向が互いに逆方向となっている。
【００９２】
また、光学式変位測定装置５０は、図１２及び図１３に示すように、干渉した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光して干渉信号を生成する受光素子１３と、回折光Ｌｂ１及び回折光Ｌｂ２を干渉させて受光素子１３に照射する受光光学系４２とを備えている。
【００９３】
受光光学系４２は、上述したように２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の格子ベクトル方向から見た回折角がδとなっているため、通過する回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光路が傾斜面ｍ３′上に形成されるように、各部材が配置されている。また、受光光学系４２の反射器２５と反射器２６とは、傾斜面ｍ３′上における回折角βで回折された回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を反射可能な位置に配置されている。
【００９４】
また、光学式変位測定装置５０は、受光素子１３からの干渉信号に基づき回折格子１１の移動位置を検出する図示しない位置検出部を備えている。
【００９５】
このような構成の光学式変位測定装置５０では、可動部分の移動に応じて回折格子１１が格子ベクトル方向に移動することにより、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２に位相差が生じる。この光学式変位測定装置５０では、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させて干渉信号を検出し、この干渉信号から２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の位相差を求めて、回折格子１１の移動位置を検出する。
【００９６】
以上のように光学式変位測定装置５０では、基準面ｍ１に対して、所定の傾斜角をもった傾斜面ｍ２上に照射光学系４１を配置し、傾斜面ｍ３′上に受光光学系４２を配置することにより、可干渉光と回折光とが形成する光路を分離することができ、装置の設計の自由度が増す。また、格子面１１ａからの０次回折光や反射光を、照射光学系４１や受光光学系４２に混入させることなく、回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させることができ、高精度に位置測定をすることができる。
【００９７】
なお、０次回折光や反射光を照射光学系４１や受光光学系４２に混入させないための入射角α，γ及び回折角β，δの関係は、上記第３の実施の形態と同様である。
【００９８】
つぎに、本発明を適用した第５の実施の形態の光学式変位測定装置について、図１５を用いて説明する。なお、この第５の実施の形態は、上記第３の実施の形態及び第４の実施の形態の構成要素を一部変形したものであり、以下、上記第３の実施の形態及び第４の実施の形態の構成要素のうち変形していない構成要素についてはその詳細な説明を省略する。
【００９９】
第５の実施の形態の光学式変位測定装置６０は、照射光学系４１のハーフミラー２２として、偏光ビームスプリッタを用いている。以下、この第５の実施の形態の説明において、ハーフミラー２２を偏光ビームスプリッタ２２として言い換えて説明する。
【０１００】
また、この光学式変位測定装置６０は、受光光学系４２のハーフミラー２７及び第２の結像素子２８に変えて、図１５に示すように、第１の偏光ビームスプリッタ６１と、１／４波長板６２と、第３の結像素子６３と、無偏光ビームスプリッタ６４と、第２の偏光ビームスプリッタ６５と、第３の偏光ビームスプリッタ６６とを用いている。
【０１０１】
また、この光学式変位測定装置６０は、受光素子１３に変えて、第１の受光素子６７ａ，６７ｂと、第２の受光素子６８ａ，６８ｂを用いている。
【０１０２】
可干渉光源１２から出射される可干渉光Ｌａは、照射光学系４１の偏光ビームスプリッタ２２に対して、偏光方向が４５度傾けて入射される。この照射光学系４１の偏光ビームスプリッタ２２は、入射された可干渉光Ｌａを、偏光方向が直交する２つの可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分割する。照射光学系４１の偏光ビームスプリッタ２２を透過した可干渉光Ｌａ１はＰ偏光の光となり、反射した可干渉光Ｌａ２はＳ偏光の光となる。
【０１０３】
受光光学系４２の第１の偏光ビームスプリッタ６１には、回折格子１１で回折された回折光Ｌｂ１と、回折格子１１で回折された回折光Ｌｂ２とが入射される。回折光Ｌｂ１はＰ偏光の光となり、回折光Ｌｂ２はＳ偏光の光となっている。この偏光ビームスプリッタ６１は、回折光Ｌｂ１を透過し、回折光Ｌｂ２を反射することによって、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を重ね合わせ、干渉させる。
【０１０４】
干渉した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、１／４波長板６２を通過する。１／４波長板６２は、各回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の偏光方向に対して、光学軸が４５度傾いた位置に配置されている。そのため、各回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、この１／４波長板６２を通過することにより、互いに逆回りの円偏光の光となる。
【０１０５】
互いに逆回りの円偏光の光とされた回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、第３の結像素子６３を通過する。
【０１０６】
第３の結像素子６３は、所定の開口数を有するレンズ等の光学素子からなるものである。第３の結像素子６３は、回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を、所定のビーム径で第１の受光素子６７ａ，６７ｂ及び第２の受光素子６８ａ，６８ｂの受光面に結像させる。その結像点は、必ずしもビーム径が最小となる点とする必要はなく、ビームの像内での光路長の差が最小となる点が受光面上に位置するようにしてもよい。
【０１０７】
この第３の結像素子６３を通過した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、無偏光ビームスプリッタ６４で２つのビームに分割される。
【０１０８】
分割された一方のビームは、第２の偏光ビームスプリッタ６５によりさらに偏光方向が直交する２つのビームに分割され、それぞれ、第１の受光素子６７ａ，６７ｂに照射される。また、分割された他方のビームは、第２の偏光ビームスプリッタ６５に対して４５度傾いた第３の偏光ビームスプリッタ６６によりさらに偏光方向が直交する２つのビームに分割され、それぞれ、第２の受光素子６８ａ，６８ｂに照射される。
【０１０９】
ここで、互いに逆方向に回転する円偏光の光を重ね合わせた光は、２つの光の位相差にしたがって回転する直線偏光の光とみなすことができる。そのため、１／４波長板６２を通過した回折光は、回折格子１１の移動にともない回転する直線偏光の光となる。また、この直線偏光の光を偏光板等の偏光素子で互いにω度異なる偏光方向の成分を取り出した場合、その取り出した光の強度を検出した信号は、互いに２ω度位相が異なる信号となる。そのため、第１の受光素子６７ａ，６７ｂは、第２の偏光ビームスプリッタ６５により取り出された互いに９０度異なる偏光方向の光を検出するので、検出した信号の位相が互いに１８０度異なっている。従って、第１の受光素子６７ａ，６７ｂにより検出した信号の差を取ることにより、直流成分を除去した信号を検出することができる。また、これは、第２の受光素子６８ａ，６８ｂに関しても同様である。
【０１１０】
また、第３の偏光ビームスプリッタ６６により取り出される光は、第２の偏光ビームスプリッタ６５により取り出される光に対して、角度が４５度異なっている。そのため、第２の受光素子６８ａ，６８ｂから得られる信号は、第１の受光素子６７ａ，６７ｂから得られる信号に対して、９０度位相が異なっている。すなわち、第１の受光素子６７ａと第１の受光素子６７ｂとの検出信号の差動信号と、第２の受光素子６８ａと第２の受光素子６８ｂとの検出信号の差動信号とが、互いに９０度位相が異なっている。従って、この光学式変位測定装置６０では、互いに９０度位相が異なる回折格子１１の移動位置を示す位置信号に基づき、回折格子１１の移動方向を特定することができる。
【０１１１】
以上のように、この第５の実施の形態の光学式変位測定装置６０では、回折格子１１の透過率、反射率、回折効率等の影響による直流変動を、検出する干渉信号から除去することができる。また、この光学式変位測定装置６０では、回折格子１１の移動方向を特定することができる。
【０１１２】
つぎに、本発明を適用した第６の実施の形態の光学式変位測定装置について、図１６を用いて説明する。なお、この第６の実施の形態は、上記第５の実施の形態の構成要素を一部変形したものであり、以下、上記第５の実施の形態の構成要素のうち変形をしていない構成要素についてはその詳細な説明を省略する。
【０１１３】
第６の実施の形態の光学式変位測定装置７０は、照射光学系４１のハーフミラー２２に、無偏光ビームスプリッタを用いている。以下、この第６の実施の形態の説明において、ハーフミラー２２を無偏光ビームスプリッタ２２として言い換えて説明する。
【０１１４】
また、この光学式変位測定装置７０は、図１６に示すように、第１の偏光ビームスプリッタ６１に入射される一方の回折光を偏光方向を９０度回転させる１／２波長板７１を備えている。
【０１１５】
可干渉光源１２から出射される可干渉光Ｌａは、照射光学系４１の無偏光ビームスプリッタ２２に対してＳ偏光入射される。この照射光学系４１の無偏光ビームスプリッタ２２は、入射された可干渉光Ｌａを、偏光方向が同一の２つの可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分割する。
【０１１６】
回折格子１１で回折された回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２は、回折された時点では、その偏光方向が同一となっている。一方の回折光Ｌｂ１は、偏光方向を９０度回転させる１／２波長板７１を通過して、第１の偏光ビームスプリッタ６１に入射する。他方の回折光Ｌｂ２は、そのままの偏光方向で受光光学系４２の第１の偏光ビームスプリッタ６１に入射する。
【０１１７】
このため、受光光学系４２の第１の偏光ビームスプリッタ６１には、偏光方向が９０度異なった２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が入射されることとなる。回折光Ｌｂ１はＰ偏光となり、回折光Ｌｂ２はＳ偏光となっている。この偏光ビームスプリッタ６１は、回折光Ｌｂ１を透過し、回折光Ｌｂ２を反射することによって、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を重ね合わせ、干渉させる。なお、無偏光ビームスプリッタ２２にＰ偏光の可干渉光Ｌａを入射した場合には、１／２波長板７１を回折光Ｌｂ２側に設ければよい。
【０１１８】
干渉した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、１／４波長板６２を通過する。１／４波長板６２は、各回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の偏光方向に対して、光学軸が４５度傾けられている。そのため、各回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、この１／４波長板６２を通過することにより、互いに逆回りの円偏光の光となる。
【０１１９】
互いに逆回りの円偏光の光とされた回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、第３の結像素子６３を通過する。第３の結像素子６３は、回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を、所定のビーム径で第１の受光素子６７ａ，６７ｂ及び第２の受光素子６８ａ，６８ｂの受光面に結像させる。
【０１２０】
この第３の結像素子６３を通過した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、無偏光ビームスプリッタ６４で２つのビームに分割される。
【０１２１】
一方のビームは、第２の偏光ビームスプリッタ６５によりさらに偏光方向が直交する２つに分割され、それぞれ、第１の受光素子６７ａ，６７ｂに照射される。また、他方のビームは、第２の偏光ビームスプリッタ６５に対して４５度傾いた第３の偏光ビームスプリッタ６６によりさらに偏光方向が直交する２つに分割され、それぞれ、第２の受光素子６８ａ，６８ｂに照射される。
【０１２２】
以上のように、この第６の実施の形態の光学式変位測定装置７０では、回折格子１１の透過率、反射率、回折効率等の影響による直流変動を、検出する干渉信号から除去することができる。また、この光学式変位測定装置７０では、回折格子１１の移動方向を特定することができる。
【０１２３】
つぎに、本発明を適用した第７の実施の形態の光学式変位測定装置について、図１７を用いて説明する。なお、この第７の実施の形態は、上記第６の実施の形態の構成要素を一部変形したものであり、以下、上記第６の実施の形態の構成要素のうち変形をしていない構成要素についてはその詳細な説明を省略する。
【０１２４】
第７の実施の形態の光学式変位測定装置８０は、照射光学系４１のハーフミラー２２に、無偏光ビームスプリッタを用いている。以下、この第７の実施の形態の説明において、ハーフミラー２２を偏光ビームスプリッタ２２として言い換えて説明する。
【０１２５】
また、この光学式変位測定装置８０は、図１７に示すように、受光光学系４２の１／２波長板７１、偏光ビームスプリッタ６１、１／４波長板６２、第３の結像素子６３に変えて、第１の１／４波長板８１と、第２の１／４波長板８２と、第４の結像素子８３と、第５の結像素子８４とを用いている。
【０１２６】
可干渉光源１２から出射される可干渉光Ｌａは、照射光学系４１の無偏光ビームスプリッタ２２に対して入射される。この照射光学系４１の無偏光ビームスプリッタ２２は、入射された可干渉光Ｌａを、偏光方向が同一の可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分割する。
【０１２７】
回折格子１１で回折された回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２は、回折された時点では、その偏光方向が同一となっている。一方の回折光Ｌｂ１は、そのままの偏光方向で受光光学系４２の第１の１／４波長板８１を通過する。ここで、この第１の１／４波長板８１は、入射される回折光Ｌｂ１の偏光方向に対して光学軸が４５度傾けて配置されている。従って、この一方の回折光Ｌｂ１は、所定の回転方向の円偏光の光となる。
【０１２８】
円偏光の光とされた回折光Ｌｂ１は、第４の結像素子８３を通過する。第４の結像素子８３は、所定の開口数を有するレンズ等の光学素子からなるものである。第４の結像素子８３は、回折光Ｌｂ１を、所定のビーム径で第１の受光素子６７ａ，６７ｂ及び第２の受光素子６８ａ，６８ｂの受光面に結像させる。その結像点は、必ずしもビーム径が最小となる点とする必要はなく、ビームの像内での光路長の差が最小となる点が受光面上に位置するようにしてもよい。
【０１２９】
また、他方の回折光Ｌｂ２は、そのままの偏光方向で受光光学系４２の第２の１／４波長板８２を通過する。ここで、この第２の１／４波長板８２は、入射される回折光Ｌｂ２の偏光方向に対して光学軸が４５度傾けて配置されている。また、この第２の１／４波長板８２は、通過する他方の回折光Ｌｂ２が一方の回折光Ｌｂ１に対して逆回りの円偏光となるように、光学軸が傾けて配置されている。
【０１３０】
円偏光の光とされた回折光Ｌｂ２は、第５の結像素子８４を通過する。第５の結像素子８４は、所定の開口数を有するレンズ等の光学素子からなるものである。第５の結像素子８４は、回折光Ｌｂ２を、所定のビーム径で第１の受光素子６７ａ，６７ｂ及び第２の受光素子６８ａ，６８ｂの受光面に結像させる。その結像点は、必ずしもビーム径が最小となる点とする必要はなく、ビームの像内での光路長の差が最小となる点が受光面上に位置するようにしてもよい。
【０１３１】
互いに逆回りの円偏光の光とされた回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、第４の結像素子８３及び第５の結像素子８４を通過して、無偏光ビームスプリッタ６４に入射する。
【０１３２】
無偏光ビームスプリッタ６４は、入射された２つの回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２とを重ね合わせて干渉させるとともに、２つのビームに分割する。
【０１３３】
分割された一方のビームは、第２の偏光ビームスプリッタ６５によりさらに偏光方向が直交する２つのビームに分割され、それぞれ、第１の受光素子６７ａ，６７ｂに照射される。また、分割された他方のビームは、第２の偏光ビームスプリッタ６５に対して４５度傾いた第３の偏光ビームスプリッタ６６によりさらに偏光方向が直交する２つのビームに分割され、それぞれ、第２の受光素子６８ａ，６８ｂに照射される。
【０１３４】
以上のように、この第７の実施の形態の光学式変位測定装置８０では、回折格子１１の透過率、反射率、回折効率等の影響による直流変動を、検出する干渉信号から除去することができる。また、この光学式変位測定装置８０では、回折格子１１の移動方向を特定することができる。
【０１３５】
以上本発明を適用した第１〜第７の実施の形態の光学式変位測定装置を説明した。各実施の形態の光学式変位測定装置では、格子が所定の間隔で平行に設けられた回折格子１１を用いているが、本発明では、このような格子が平行に設けられた回折格子を用いなくても良い。例えば、図１８に示すように、放射状に格子が設けられた回折格子を用いてもよい。このような放射状に格子が設けられた回折格子を用いることにより、回転移動をする工作機械の可動部分等の位置検出を行うことができる。また、本発明では、明暗を記録した振幅型の回折格子、屈折率変化や形状変化を記録した位相型の回折格子を用いても良く、その回折格子のタイプは限られない。
【０１３６】
また、各実施の形態の光学式変位測定装置では、回折格子１１を工作機械等の可動部分に取り付けて、この回折格子１１が可動部分の移動に応じて移動する場合について説明したが、本発明では、照射光学系及び干渉光学系と、回折格子１１とが相対的に移動すれば良い。例えば、本発明では、回折格子が固定されていて、照射光学系及び干渉光学系が工作機械等の可動部分の移動に応じて移動しても良い。
【０１３７】
また、各実施の形態の光学式変位測定装置に用いられているハーフミラーやビームスプリッタ及び結像素子等は、薄膜を用いた素子やレンズ等のみに限られず、例えば、回折光学素子を用いても良い。
【０１３８】
なお、各実施の形態の光学式変位測定装置において、第１の結像素子２１は、回折格子１１の格子面１１ａに対して可干渉光Ｌａを結像できる位置に配置されていればよいため、その配置の位置や個数を限定するものではない。例えば、ハーフミラー（偏光ビームスプリッタ或いは偏光ビームスプリッタ）２２により分割された後の可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２を結像するように、結像素子を配置しても良い。
【０１３９】
また、各実施の形態の光学式変位測定装置において、第２の結像素子２８、第３の結像素子６３、第４の結像素子８３、第５の結像素子８４は、受光素子１３又は受光素子６７，６８の受光面に対して回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を結像できる位置に配置されていればよいため、その配置の位置や個数を限定するものではない。例えば、ハーフミラー２７や偏光ビームスプリッタ６１により重ね合わせる前の回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を結像するように結像素子を配置しても良し、無偏光ビームスプリッタ６４により分割された後の回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を結像するように結像素子を配置しても良い。
【０１４０】
【発明の効果】
本発明に係る光学式変位測定装置では、受光手段の受光面に回折光が結像されているため、第２の結像手段を通過する回折光の光路長が等しくなる。従って、回折光の光軸がずれた場合であっても受光手段の受光面の結像位置は変化せず、光路長に変化が生じない。
【０１４１】
このことにより、本発明に係る光学式変位測定装置では、２つの回折光が互いにずれることなく重なり合わされ、干渉する。そのため、回折格子が、格子ベクトルに平行な方向以外に移動等した場合、例えば、回折格子が傾いたり、回折格子にうねり等があった場合であっても、検出する干渉信号が低下しない。従って、この光学式変位測定装置では、移動する可動部分の移動位置を、高分解能かつ高精度に検出することができる。
【０１４２】
また、この光学式変位測定装置では、測定対象となる工作機械等の可動部分への取り付け位置の自由度が増し、また、この可動部分に振動やぶれ等があっても安定して測定ができる。また、この光学式変位測定装置では、第１の結像手段又は第２の結像手段の開口数を大きくすることにより、回折格子と照射光学系或いは干渉光学系との間隔を大きくすることができ、小型の受光手段を用いることができ、また、設計が簡易となり、その自由度が増す。
【０１４３】
また、この光学式変位測定装置では、干渉させる回折光以外の回折光が、照射光学系や干渉光学系に混入しないのでノイズを少なくすることができ、移動する可動部分の移動位置を、高分解能かつ高精度に検出することができる。
【０１４４】
また、この光学式変位測定装置では、偏光ビームスプリッタを用いることにより、回折格子の透過率、反射率、回折効率等の影響による直流変動を、検出する干渉信号から除去することができ、移動する可動部分の移動位置を、高分解能かつ高精度に検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光学式変位測定装置を説明する為の図である。
【図２】本発明を適用した第１の実施の形態の光学式変位測定装置を説明する為の図である。
【図３】本発明の第１〜第７の実施の形態の光学式変位測定装置に用いられる回折格子の斜視図である。
【図４】上記本発明の第１の実施の形態の光学式変位測定装置の回折格子が傾いた場合について説明する為の図である。
【図５】本発明を適用した第２の実施の形態の光学式変位測定装置を説明する為の図である。
【図６】上記本発明の第２の実施の形態の光学式変位測定装置の回折格子が傾いた場合について説明する為の図である。
【図７】本発明の第３の実施の形態の光学式変位測定装置の斜視図である。
【図８】上記本発明の第３の実施の形態の光学式変位測定装置の傾斜面ｍ２上に配置された構成要素を、この傾斜面ｍ２に対して垂直な方向から見た側面図を示す。
【図９】上記本発明の第３の実施の形態の光学式変位測定装置の回折格子に入射される可干渉光及びこの回折格子により回折される回折光を格子ベクトル方向から見た側面図を示す。
【図１０】 上記本発明の第３の実施の形態の光学式変位測定装置の傾斜面ｍ３上に配置された構成要素を、この傾斜面ｍ３に対して垂直な方向から見た側面図を示す。
【図１１】上記回折格子に入射される可干渉光の入射点を説明する為の図である。
【図１２】本発明の第４の実施の形態の光学式変位測定装置の斜視図である。
【図１３】上記本発明の第４の実施の形態の光学式変位測定装置の傾斜面ｍ２及び傾斜面ｍ３′上に配置された構成要素を、この傾斜面ｍ２及び傾斜面ｍ３′に対して垂直な方向から見た側面図を示す。
【図１４】上記本発明の第４の実施の形態の光学式変位測定装置の回折格子に入射される可干渉光及びこの回折格子により回折される回折光を格子ベクトル方向から見た側面図を示す。
【図１５】本発明の第５の実施の形態の受光光学系の要部斜視図である。
【図１６】本発明の第６の実施の形態の受光光学系の要部斜視図である。
【図１７】本発明の第７の実施の形態の受光光学系の要部斜視図である。
【図１８】本発明の第１〜第７の実施の形態の光学式変位測定装置に用いられる他の回折格子を説明する為の図である。
【図１９】従来の光学式変位測定装置の斜視図である。
【図２０】従来の光学式変位測定装置の側面図である。
【図２１】従来の他の光学式変位測定装置の斜視図である。
【図２２】従来の他の光学式変位測定装置の側面図である。
【図２３】上記従来の光学式変位測定装置を変形例を説明する為の図である。
【図２４】従来の更に他の光学式変位測定装置を説明する為の図である。
【図２５】上記従来の更に他の光学式変位測定装置の受光素子に照射される回折光を説明する為の図である。
【符号の説明】
１，１１ 回折格子、２ 発光手段、３ 受光手段、４ 第１の結像手段、５第２の結像手段、１０，３０，４０，５０，６０，７０，８０ 光学式変位測定装置、１２ 可干渉光源、１３，６７，６８ 受光素子、２１，２８，６３，８３，８４ 結像素子、１４ 位置検出部
【発明の属する技術分野】
本発明は、工作機械や半導体製造装置等の可動部分の相対移動位置を検出する光学式変位測定装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、工作機械や半導体製造装置等の可動部分の相対移動位置を検出する装置として、回折格子を用いた光学式の変位測定装置が知られている。
【０００３】
例えば、特開昭６０−９８３０２号公報に提案されている従来の光学式変位測定装置を、図１９及び図２０に示す。図１９は、この従来の光学式変位測定装置１００を模式的に示す斜視図であり、図２０は、この従来の光学式変位測定装置１００を模式的に示す側面図である。
【０００４】
従来の光学式変位測定装置１００は、工作機械等の可動部分の移動にともない図中矢印Ｘ１及びＸ２方向に直線移動する回折格子１０１と、可干渉光であるレーザ光を出射する可干渉光源１０２と、可干渉光源１０２から出射されたレーザ光を２本のビームに分割するとともに回折格子１０１からの２つの回折光を重ね合わせ干渉させるハーフミラー１０３と、回折格子１０１を透過した回折光を反射する２つのミラー１０４ａ，１０４ｂと、干渉した２つの回折光を受光して干渉信号を生成するフォトディテクタ１０５とを備えている。
【０００５】
可干渉光源１０２から出射されたレーザ光は、ハーフミラー１０３により２本のビームに分割される。この２本のビームは、それぞれ回折格子１０１に照射され、この回折格子１０１を透過した回折光がそれぞれミラー１０４ａ，１０４ｂに照射される。ミラー１０４ａ，１０４ｂに反射された回折光は、回折格子１０１に再度照射され、この回折格子１０１を透過した回折光が同一の光路をたどりハーフミラー１０３に戻される。ハーフミラー１０３に戻された回折光は、２本が重ね合わせられて干渉し、フォトディテクタ１０５に照射される。
【０００６】
このような従来の光学式変位測定装置１００では、回折格子１０１が図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に移動する。光学式変位測定装置１００では、この回折格子１０１の移動に応じて、この回折格子１０１によって生じる２つの回折光に位相差が生じる。そのため、この光学式変位測定装置１００では、フォトディテクタ１０５により得られる干渉信号から２本の回折光の位相差を検出することにより、工作機械等の可動部分の移動位置を測定することができる。
【０００７】
また、特開昭６０−９８３０２号公報に提案されている他の従来の光学式変位測定装置を、図２１及び図２２に示す。図２１は、従来の光学式変位測定装置１１０を模式的に示す斜視図であり、図２２は、従来の光学式変位測定装置１１０を模式的に示す側面図である。
【０００８】
従来の光学式変位測定装置１１０は、工作機械等の可動部分の移動にともない図中矢印Ｘ１及びＸ２方向に直線移動する回折格子１１１と、可干渉光であるレーザ光を出射する可干渉光源１１２と、可干渉光源１１２から出射されたレーザ光を２本のビームに分割するとともに回折格子１１１からの２つの回折光を重ね合わせて干渉させるハーフミラー１１３と、ハーフミラー１１３により分割された２本のビームを回折格子１１１上の同一位置に照射する２つの第１のミラー１１４ａ，１１４ｂと、回折格子１１１を透過した回折光を反射する２つの第２のミラー１１５ａ，１１５ｂと、干渉した２つの回折光を受光して干渉信号を生成するフォトディテクタ１１６とを備えている。
【０００９】
可干渉光源１１２から出射されたレーザ光は、ハーフミラー１１３により２本のビームに分割される。この２本のビームは、それぞれ第１のミラー１１４ａ，１１４ｂに反射されて、回折格子１１１上の同一の位置に照射される。回折格子１１１に照射された２本のビームは、この回折格子１１１をそれぞれ透過し、その回折光がそれぞれ第２のミラー１１５ａ，１１５ｂに照射される。第２のミラー１１５ａ，１１５ｂに反射された回折光は、回折格子１１１に再度照射され、この回折格子１１１を透過した回折光が同一の光路をたどりハーフミラー１１３に戻される。ハーフミラー１１３に戻された回折光は、２本が重ね合わせられて干渉し、フォトディテクタ１１６に照射される。
【００１０】
このような従来の光学式変位測定装置１１０では、回折格子１１１が図中矢印Ｘ１，Ｘ２方向に移動する。光学式変位測定装置１１０では、この回折格子１１１の移動に応じて、この回折格子１１１によって生じる２つの回折光に位相差が生じる。そのため、この光学式変位測定装置１１０では、フォトディテクタ１１６により得られる干渉信号から２本の回折光の位相差を検出することにより、工作機械等の可動部分の移動位置を測定することができる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、近年、工作機械や産業用ロボットの高精度化にともない、例えば、数１０ｎｍから数ｎｍといった高い分解能で位置検出ができる光学式変位測定装置が求められるようになってきた。
【００１２】
光学式変位測定装置で高い分解能を得るためには大きな干渉信号を検出する必要があり、そのため、干渉させる２つの回折光を非常に高い精度で重ね合わせなければならない。
【００１３】
しかしながら、上述した従来の光学式変位測定装置１００，１１０では、回折格子１０１，１１１が本来の移動方向以外に移動したり、傾いたりしたり、また、回折格子１０１，１１１にうねり等があると、ハーフミラー１０３，１１３により重ね合わされた回折光がずれ、急激に干渉信号が小さくなり位置検出をすることが困難となってしまっていた。例えば、回折格子１０１，１１１が、図１９〜図２２中、矢印Ａ１及び矢印Ａ２方向への回転移動や、矢印Ｂ１及び矢印Ｂ２方向への回転移動をした場合に、位置検出をすることが困難となっていた。
【００１４】
また、上述した従来の光学式変位測定装置１００を変形した光学式変位測定装置として、図２３に示すような、可干渉光源１０２から出射するレーザ光をミラー１０４ａ，１０４ｂに結像させる第１のレンズ１０６と、ハーフミラー１０３により重ね合わされ干渉した２つの回折光をフォトディテクタ１０５の受光面に結像させる第２のレンズ１０７とを備えた光学式変位測定装置１２０がある。
【００１５】
しかしながら、この光学式変位測定装置１２０であっても、回折格子１０１が本来の移動方向以外に移動したり、傾いたりしたり、また、回折格子１０１にうねり等があると、ハーフミラー１０３により重ね合わされた回折光がずれ、急激に干渉信号が小さくなり位置検出をすることが困難となってしまう。
【００１６】
例えば、この光学式変位測定装置１２０では、矢印Ａ１及び矢印Ａ２方向に３０秒から１分、矢印Ｂ１及び矢印Ｂ２方向に１０分程度の角度変化で、約２０パーセントの干渉信号の変化が生じてしまう。また、反射型の回折格子を用いた場合には、矢印Ｂ１及び矢印Ｂ２方向の許容角度は、この数十分の１となり、さらに位置検出をすることが困難となってしまう。
【００１７】
ここで、特開平２−１６７４２７号公報に提案されている従来の光学式変位測定装置を図２４に示す。
【００１８】
この図２４に示す光学式変位測定装置１３０は、工作機械等の可動部分の移動にともない図中矢印Ｘ１及び矢印Ｘ２方向に直線移動する回折格子１３１と、レーザ光を出射するレーザダイオード１３２と、レーザダイオード１３２から出射されたレーザ光を２本のビームに分割するハーフミラー１３３と、回折格子１３１を透過した２本の回折光を受光する第１と第２の受光素子１３４，１３５と、２本の回折光を集光する２つのレンズ１３６，１３７とを備えている。
【００１９】
この光学式変位測定装置１３０では、回折格子１３１の回折面或いは屈折面に焦点がくるように、第１と第２のレンズ１３６，１３７を配置している。このため、第１と第２の受光素子１３４，１３５に照射される回折光が常に平行となり、例えば、回折格子１３１が傾いたり、この回折格子１３１にうねりがあった場合であっても、干渉信号の変動が小さくなる。
【００２０】
しかしながら、この光学式変位測定装置１３０では、保持されるのは２つの回折光の平行であり、例えば、回折格子１３１が傾いた場合、図２５に示すように、均一な干渉が保たれているのはあくまで２つのビームの重なった図中斜線で示す部分である。従って、この２つのビームが重なった部分以外は、回折光は干渉せず、干渉信号が小さくなる。また、２つの回折光が完全な平行ビームではなく、何らかの収差を含む場合には、ビームが重なった部分も均一な干渉が保たれず、干渉信号が小さくなる。
【００２１】
本発明は、このような実情を鑑みてなされたものであり、高い分解能での位置検出が可能な光学式変位測定装置を提供することを目的とする。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
上述の課題を解決するために、本発明に係る光学式変位測定装置は、可干渉光が照射され、この可干渉光に対して格子ベクトルに平行な方向に相対移動し、この可干渉光を回折する回折格子と、可干渉光を発光する発光手段と、上記発光手段により発光された可干渉光を２つの可干渉光に分割して、上記回折格子に対して各可干渉光を照射する照射光学系と、上記各可干渉光が上記回折格子により回折されて得られる２つの回折光を干渉させる干渉光学系と、干渉した２つの回折光を受光して干渉信号を検出する受光手段と、上記受光手段が検出した干渉信号から上記２つの回折光の位相差を求めて、上記回折格子の相対移動位置を検出する位置検出手段とを備え、上記照射光学系は、上記回折格子に対して照射される２つの可干渉光を、この回折格子の格子面に結像させる第１の結像手段を有し、上記干渉光学系は、上記受光手段が受光する干渉された２つの回折光を、この受光手段の受光面に結像させる第２の結像手段を有することを特徴とする。
【００２３】
この光学式変位測定装置では、例えば図１に示すように、発光手段２が発光した可干渉光Ｌａを、第１の結像手段４が回折格子１の格子面に結像する。回折格子１の格子面に結像された可干渉光Ｌａがこの回折格子１によって回折し、反射或いは透過した回折光Ｌｂが生じる。第２の結像手段５は、この回折光Ｌｂを受光手段３の受光面に結像する。
【００２４】
この光学式変位測定装置では、回折格子１の格子面に可干渉光Ｌａが結像されているとともに受光手段３の受光面に回折光Ｌｂが結像されているため、第２の結像手段５の開口範囲内を通過する回折光Ｌｂの光路長が常に等しくなる。従って、回折光Ｌｂの光軸がずれた場合であっても受光手段３の受光面の結像位置は変化せず、光路長に変化が生じない。
【００２５】
【発明の実施の形態】
まず、本発明を適用した第１の実施の形態の光学式変位測定装置について説明する。
【００２６】
本発明の第１の実施の形態の光学式変位測定装置１０は、図２に示すように、工作機械等の可動部分に取り付けられ直線移動する回折格子１１と、レーザ光等の可干渉光Ｌａを出射する可干渉光源１２と、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が干渉した干渉光を受光して干渉信号を生成する受光素子１３と、受光素子１３からの干渉信号に基づき回折格子１１の移動位置を検出する位置検出部１４と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを回折格子１１に照射する照射光学系１５と、回折格子１１からの２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させて受光素子１３に照射する受光光学系１６とを備えている。
【００２７】
回折格子１１は、図３に示すように、例えば薄板状の形状を有しており、その表面に狭いスリットや溝等の格子が所定間隔毎に刻まれている。このような回折格子１１に入射された光は、表面に刻まれたスリット等により回折する。回折により生じる回折光は、格子の間隔と光の波長で定まる方向に発生する。
【００２８】
ここで、発明の実施の形態を説明するにあたり、格子が形成されている回折格子１１の面を、格子面１１ａと呼ぶ。なお、回折格子１１が透過型の場合には、可干渉光が入射される面と回折光が発生する面とをともに格子面１１ａと呼ぶ。また、回折格子１１の格子が形成された方向（図３中矢印Ｃ１，Ｃ２方向）、すなわち、格子の透過率や反射率、溝の深さ等の変化の方向を表す格子ベクトルに対して垂直な方向であって且つ格子面１１ａに平行な方向を、格子方向と呼ぶ。格子が形成された方向に垂直な方向であり且つ格子面１１ａに平行な方向（図３中矢印Ｄ１，Ｄ２方向）、すなわち、回折格子１１の格子ベクトルに対して平行な方向を、格子ベクトル方向と呼ぶ。また、格子面１１ａに垂直な方向（図３中矢印Ｅ１，Ｅ２方向）、すなわち、格子方向に垂直な方向であり且つ格子ベクトル方向に垂直な方向を、法線ベクトル方向と呼ぶ。なお、これら回折格子１１の各方向については、本発明の第１の実施の形態のみならず、他の実施の形態においても同様に呼ぶものとする。
【００２９】
この回折格子１１は、工作機械等の可動部分に取り付けられ、この可動部分の移動にともなって、図２中矢印Ｘ１，Ｘ２方向、すなわち、格子ベクトル方向に移動する。
【００３０】
なお、本発明では、回折格子の種類は限定されず、機械的に溝等が形成されたもののみならず、例えば、感光性樹脂に干渉縞を焼き付けて作成したものであってもよい。
【００３１】
可干渉光源１２は、レーザ光等の可干渉光を発光する素子である。この可干渉光源１２は、例えば、可干渉距離が数百μｍ程度のレーザ光を発光するマルチモードの半導体レーザ等からなるものである。
【００３２】
受光素子１３は、受光面１３ａに対して照射された光を、その光量に応じた電気信号に変換する光電変換素子であり、例えば、フォトディテクタ等からなるものである。この受光素子１３は、受光面１３ａに対して照射される干渉光を受光して、その光量に応じた干渉信号を生成する。
【００３３】
位置検出部１４は、受光素子１３が生成した干渉信号に基づき、２つの回折光の位相差を求め、回折格子１１の相対移動位置を示す位置信号を出力する。
【００３４】
照射光学系１５は、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを回折格子１１の格子面１１ａ上に結像させる第１の結像素子２１と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを２つの可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分離するハーフミラー２２と、ハーフミラー２２により分離された一方の可干渉光Ｌａ１を反射する反射器２３と、ハーフミラー２２により分離された他方の可干渉光Ｌａ２を反射する反射器２４とを有している。
【００３５】
第１の結像素子２１は、所定の開口数を有するレンズ等の光学素子からなるものである。第１の結像素子２１には、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａが入射される。第１の結像素子２１は、入射された可干渉光Ｌａを所定のビーム径で回折格子１１の格子面１１ａに結像させる。結像されたビーム径は、回折格子１１が回折光を発生させるのに十分な格子数を含む大きさが望ましい。また、そのビーム径は、格子面１１ａ上のゴミや傷の影響を受けないような大きさが望ましい。例えば、そのビーム径は、第１の結像素子２１の開口数等を変えることにより調整することができ、例えば、数十μｍ以上とするのが望ましい。また、結像点は、必ずしもビーム径が最小となる点とする必要はなく、ビームの像内での光路長の差が最小となる点が格子面１１ａ上に位置するようにしてもよい。
【００３６】
ハーフミラー２２には、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａが第１の結像素子２１を介して入射される。このハーフミラー２２は、入射された可干渉光Ｌａの一部を透過して可干渉光Ｌａ１を生成し、入射された可干渉光Ｌａの一部を反射して可干渉光Ｌａ２を生成する。
【００３７】
反射器２３は、ハーフミラー２２を透過した可干渉光Ｌａ１を反射して、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。また、反射器２４は、ハーフミラー２２により反射された可干渉光Ｌａ２を反射して、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。反射器２３及び反射器２４は、可干渉光Ｌａ１及び可干渉光Ｌａ２を、格子面１１上の同一の位置に照射する。
【００３８】
一方、受光光学系１６は、可干渉光Ｌａ１により生じる回折光Ｌｂ１を反射する反射器２５と、可干渉光Ｌａ２により生じる回折光Ｌｂ２を反射する反射器２６と、反射器２５により反射された回折光Ｌｂ１と反射器２６により反射された回折光Ｌｂ２とを重ね合わせて干渉させるハーフミラー２７と、ハーフミラー２７により重ね合わされた２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光素子１３の受光面１３ａ上に結像させる第２の結像素子２８とを有している。
【００３９】
反射器２５には、可干渉光Ｌａ１が回折格子１１に照射されることにより生じる回折光Ｌｂ１が照射される。反射器２５は、この回折光Ｌｂ１を反射して、ハーフミラー２７に照射する。反射器２６は、可干渉光Ｌａ２が回折格子１１に照射されることにより生じる回折光Ｌｂ２が照射される。反射器２６は、この回折光Ｌｂ２を反射して、ハーフミラー２７に照射する。
【００４０】
ハーフミラー２７は、反射器２５により反射された回折光Ｌｂ１を透過し、反射器２６により反射された回折光Ｌｂ２を反射することにより、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２とを重ね合わせて干渉させる。
【００４１】
第２の結像素子２８は、所定の開口数を有するレンズ等の光学素子からなる。第２の結像素子２８には、ハーフミラー２７により重ね合わされた２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が入射する。第２の結像素子２８は、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を、所定のビーム径で受光素子１３の受光面１３ａに結像させる。その結像点は、必ずしもビーム径が最小となる点とする必要はなく、ビームの像内での光路長の差が最小となる点が受光面１３ａ上に位置するようにしてもよい。
【００４２】
以上のような構成の光学式変位測定装置１０では、可動部分の移動に応じて回折格子１１が格子ベクトル方向に移動することにより、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２に位相差が生じる。この光学式変位測定装置１０では、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させて干渉信号を検出し、この干渉信号から２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の位相差を求めて、回折格子１１の移動位置を検出する。
【００４３】
ここで、例えば、図４に示すように、回折格子１１の格子ベクトル方向の一端が法線ベクトル方向の一方向（例えば、図４中矢印Ｘ３方向）に移動し、他端が法線ベクトルの他方向（例えば、図４中矢印Ｘ４方向）に移動して、格子面１１ａが傾いたとする。この場合、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２の回折角が変化する。そのため、ハーフミラー２７で重ね合わされた後の２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光軸が一致しない。
【００４４】
ところが、この光学式変位測定装置１０では、可干渉光源１２が発光した可干渉光Ｌａを、第１の結像素子２１が回折格子１１の格子面１１ａに結像しているとともに、第２の結像素子２８が２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光素子１３の受光面１３ａに結像している。そのため、光学式変位測定装置１０では、第２の結像素子２８の開口範囲内を通過する２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光路長が等しくなる。従って、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光軸がずれた場合であっても、受光面１３ａの結像位置は変化せず、光路長の変化が生じない。
【００４５】
このことにより、本発明の第１の実施の形態の光学式変位測定装置１０では、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が互いにずれることなく重なり合わされる。そのため、回折格子１１が、格子ベクトルに平行な方向以外に移動等した場合、例えば、回折格子１１が傾いたり、回折格子１１にうねり等があった場合であっても、受光素子１３が検出する干渉信号が低下しない。従って、この光学式変位測定装置１０では、移動する可動部分の移動位置を、高分解能かつ高精度に検出することができる。また、この光学式変位測定装置１０では、工作機械等の可動部分への取り付け位置の自由度が増し、また、この可動部分に振動やぶれ等があっても安定して位置検出できる。
【００４６】
また、光学式変位測定装置１０では、回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が受光面１３ａの同一位置に結像されているので、ビームのケラレが生じず、高精度に位置検出ができる。
【００４７】
また、この光学式変位測定装置１０では、第１の結像素子２１又は第２の結像素子２８の開口を大きくすることにより、回折格子１１と照射光学系１５或いは受光光学系１６との間隔を大きくすることができ、また、小型の受光素子１３を用いることができ、また、設計が簡易となる。
【００４８】
また、光学式変位測定装置１０では、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２との光路長を等しくし、また、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２との光路長を等しくすることにより、波長の変動に起因する測定誤差が生じなくなる。そのため、この光学式変位測定装置１０では、各光路長の調整を行うために、光路長の差を干渉縞の変調率の変化として検出することが可能な可干渉性を有する可干渉光を発光する可干渉光源１２を用いても良い。例えば、可干渉距離が数百μｍ程度の短いマルチモードの半導体レーザを可干渉光源１２に用いれば、干渉縞の変調率が最大となるようにハーフミラー２２，２７の位置を調整することで、例えば、各光路長の差を数１０μｍ以下に抑えることができる。
【００４９】
つぎに、本発明を適用した第２の実施の形態の光学式変位測定装置について説明する。なお、この第２の実施の形態の光学式変位測定装置を説明するにあたり、上記第１の光学式変位測定装置と同一の構成要素については、図面中に同一の符号を付けて、その詳細な説明を省略する。また、第３の実施の形態以降についても、それまでの実施の形態と同一の構成要素については、図面中に同一の符号を付けて、その詳細な説明を省略する。
【００５０】
本発明の第２の実施の形態の光学式変位測定装置３０は、図５に示すように、工作機械等の可動部分に取り付けられ直線移動する回折格子１１と、レーザ光等の可干渉光Ｌａを出射する可干渉光源１２と、干渉した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光して干渉信号を生成する受光素子１３と、受光素子１３からの干渉信号に基づき回折格子１１の移動位置を検出する位置検出部１４と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを回折格子１１に照射する照射光学系３１と、回折格子１１からの２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させて受光素子１３に照射する受光光学系３２とを備えている。
【００５１】
照射光学系３１は、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを回折格子１１の格子面１１ａ上に結像させる第１の結像素子２１と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを２本の可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分離するハーフミラー２２とを有している。
【００５２】
この照射光学系３１には、第１の実施の形態の光学式変位測定装置１０で設けられていた反射器が設けられていない。従って、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とが、ハーフミラー２２から直接回折格子１１の格子面１１ａに対して照射されている。そのため、回折格子１１の格子面１１ａ上の可干渉光Ｌａ１の入射点と、回折格子１１の格子面１１ａ上の可干渉光Ｌａ２の入射点との位置が異なっている。
【００５３】
受光光学系３２には、可干渉光Ｌａ１により生じる回折光Ｌｂ１と可干渉光Ｌａ２により生じる回折光Ｌｂ２とを重ね合わせて干渉させるハーフミラー２７と、ハーフミラー２７により重ね合わされた２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光素子１３の受光面１３ａ上に結像させる第２の結像素子２８とを有している。
【００５４】
ハーフミラー２７には、可干渉光Ｌａ１が回折格子１１に照射されることにより生じる回折光Ｌｂ１と、可干渉光Ｌａ２が回折格子１１に照射されることにより生じる回折光Ｌｂ２とが入射される。回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２とは、それぞれ格子面１１ａ上の異なる位置からハーフミラー２７に入射する。ハーフミラー２７は、回折光Ｌｂ１を透過し、回折光Ｌｂ２を反射することにより、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２とを重ね合わせて干渉させる。
【００５５】
以上のような構成の光学式変位測定装置３０では、可動部分の移動に応じて回折格子１１が格子ベクトル方向に移動することにより、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２に位相差が生じる。この光学式変位測定装置３０では、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させて干渉信号を検出し、この干渉信号から２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の位相差を求めて、回折格子１１の移動位置を検出する。
【００５６】
ここで、例えば、図６に示すように、回折格子１１の格子ベクトル方向の一端が法線ベクトル方向の一方向（図６中矢印Ｘ３方向）に移動し、他端が法線ベクトルの他方向（図６中矢印Ｘ４方向）に移動して、格子面１１ａが傾いたとする。この場合、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２の回折角が変化する。そのため、ハーフミラー２７で重ね合わされた後の２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光軸が一致しない。
【００５７】
ところが、この光学式変位測定装置３０では、可干渉光源１２が発光した可干渉光Ｌａを、第１の結像素子２１が回折格子１１の格子面１１ａに結像しているとともに、第２の結像素子２８が２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光素子１３の受光面１３ａに結像している。そのため、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２の回折格子１１に対する入射位置が近接していれば、第２の結像素子２８の開口範囲内を通過する２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光路長がほぼ等しくなる。従って、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光軸がずれた場合であっても、受光面１３ａの結像位置はほとんど変化せず、光路長の変化が少ない。
【００５８】
また、回折格子１１が図２０で示した矢印Ａ１，Ａ２方向に傾いた場合には、第２の結像素子２８の開口範囲内を通過する２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光路長は等しく、受光面１３ａの結像位置は変化しない。
【００５９】
このことにより本発明の第２の実施の形態の光学式変位測定装置３０では、その構成を簡便にすることができるとともに、移動する可動部分の移動位置を、高分解能かつ高精度に検出することができる。
【００６０】
さらに、この光学式変位測定装置３０では、回折格子１１の格子面１１ａ上の可干渉光Ｌａ１の入射点と可干渉光Ｌａ２の入射点との位置が異なっている。このため、光学式変位測定装置３０では、干渉させる回折光Ｌｂ以外の例えば０次回折光や反射光等が照射光学系３１や受光光学系３２に混入しない。従って、測定ノイズを少なくすることができ、また、移動する可動部分の移動位置を高分解能かつ高精度に検出することができる。
【００６１】
つぎに、反射型の回折格子１１を用いて本発明を適用した第３の実施の形態の光学式変位測定装置について説明する。
【００６２】
図７に、この第３の実施の形態の光学式変位測定装置の模式的な斜視図を示す。
【００６３】
ここで、回折格子１１の格子面１１ａ上の格子ベクトル方向に平行な１つの仮想的な直線を直線ｎとする。また、直線ｎを含み法線ベクトルに平行な仮想的な面を、基準面ｍ１とする。また、直線ｎを含み基準面ｍ１とのなす角がγとなっている仮想的な面を、傾斜面ｍ２とする。また、直線ｎを含み基準面ｍ１とのなす角がδとなっている仮想的な面を、傾斜面ｍ３とする。また、傾斜面ｍ２と傾斜面ｍ３は、回折格子１１の格子面１１ａに対し、同一面側にあるものとする。
【００６４】
図８に、この傾斜面ｍ２上に配置された構成要素を傾斜面ｍ２に対して垂直な方向から見た側面図を示す。図９に、回折格子１１に入射される可干渉光及びこの回折格子１１により回折される回折光を格子ベクトル方向から見た側面図を示す。図１０に、傾斜面ｍ３上に配置された構成要素をこの傾斜面ｍ３に対して垂直な方向から見た側面図を示す。
【００６５】
本発明の第３の実施の形態の光学式変位測定装置は、反射型の回折格子１１を備え、工作機械等の可動部分の位置検出を行う装置である。
【００６６】
光学式変位測定装置４０は、図７及び図８に示すように、可干渉光Ｌａを出射する可干渉光源１２と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを２つの可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分割して回折格子１１に照射する照射光学系４１とを備えている。
【００６７】
照射光学系４１は、干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを回折格子１１の格子面１１ａ上に結像させる第１の結像素子２１と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを２つの可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分離するハーフミラー２２と、ハーフミラー２２により分離された一方の可干渉光Ｌａ１を反射する反射器２３と、ハーフミラー２２により分離された他方の可干渉光Ｌａ２を反射する反射器２４とを有している。
【００６８】
この照射光学系４１は、通過する可干渉光Ｌａ（Ｌａ１，Ｌａ２）の光路が傾斜面ｍ２上に形成されるように、各部材が配置されている。そのため、可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２は、図９に示すように、格子ベクトル方向から見た入射角がγとなっている。
【００６９】
反射器２３は、ハーフミラー２２を透過した可干渉光Ｌａ１を反射して、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。また、反射器２４は、ハーフミラー２２により反射された可干渉光Ｌａ２を反射して、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。
【００７０】
反射器２３及び反射器２４は、傾斜面ｍ２上における入射角がαとなるように、可干渉光Ｌａ１及び可干渉光Ｌａ２を、格子面１１ａ上の所定の位置に照射している。なお、反射器２３及び反射器２４は、その反射面が、互いが向き合うように配置されている。そのため、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とは、格子ベクトル方向の入射方向が、互いに逆方向となっている。また、反射器２３及び反射器２４は、格子ベクトル方向に所定量離した位置に、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とを入射している。可干渉光Ｌａ１の入射点と可干渉光Ｌａ２の入射点との間の距離は、ｌとなっている。
【００７１】
光学式変位測定装置４０では、このような可干渉光Ｌａ１が回折格子１１に照射されることによりこの可干渉光Ｌａ１が回折し、この入射点から反射した回折光Ｌｂ１が生じる。また、このような可干渉光Ｌａ２が回折格子１１に照射されることによりこの可干渉光Ｌａ２が回折し、この入射点から反射した回折光Ｌｂ２が生じる。回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２の回折角は、格子ベクトル方向からみた場合、図９に示すように、δとなっている。すなわち、傾斜面ｍ３に沿って回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が生じる。また、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２の傾斜面ｍ３上における回折角は、βとなっている。なお、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２とは、格子ベクトル方向における出射方向が互いに逆方向となっている。
【００７２】
また、光学式変位測定装置４０は、図７及び図１０に示すように、干渉した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光して干渉信号を生成する受光素子１３と、回折光Ｌｂ１及び回折光Ｌｂ２を干渉させて受光素子１３に照射する受光光学系４２とを備えている。
【００７３】
受光光学系４２は、可干渉光Ｌａ１により生じる回折光Ｌｂ１を反射する反射器２５と、可干渉光Ｌａ２により生じる回折光Ｌｂ２を反射する反射器２６と、反射器２５により反射された回折光Ｌｂ１と反射器２６により反射された回折光Ｌｂ２とを重ね合わせて干渉させるハーフミラー２７と、ハーフミラー２７により重ね合わされた２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光素子１３の受光面１３ａ上に結像させる第２の結像素子２８とを有している。
【００７４】
受光光学系４２は、上述したように２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の格子ベクトル方向から見た回折角がδとなっているため、通過する回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光路が傾斜面ｍ３上に形成されるように、各部材が配置されている。また、受光光学系４２の反射器２５と反射器２６とは、傾斜面ｍ３上における回折角βで回折された回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を反射可能な位置に配置されている。
【００７５】
また、光学式変位測定装置４０は、受光素子１３からの干渉信号に基づき回折格子１１の移動位置を検出する図示しない位置検出部を備えている。
【００７６】
このような構成の光学式変位測定装置４０では、可動部分の移動に応じて回折格子１１が格子ベクトル方向に移動することにより、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２に位相差が生じる。この光学式変位測定装置４０では、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させて干渉信号を検出し、この干渉信号から２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の位相差を求めて、回折格子１１の移動位置を検出する。
【００７７】
以上のように光学式変位測定装置４０では、基準面ｍ１に対して、所定の傾斜角をもった傾斜面ｍ２上に照射光学系４１を配置し、傾斜面ｍ３上に受光光学系４２を配置することにより、可干渉光と回折光とが形成する光路を分離することができ、装置の設計の自由度が増す。また、格子面１１ａからの０次回折光や反射光を、照射光学系４１や受光光学系４２に混入させることなく、回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させることができ、高精度に位置測定をすることができる。
【００７８】
なお、０次回折光や反射光を照射光学系４１や受光光学系４２に混入させないための条件は、以下の通りである。
【００７９】
入射角αと回折角βとが等しい場合には、０次回折光が受光素子１３に照射されない程度に入射点間の距離ｌを離して、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とを入射する。可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とは、回折格子１１に対して格子ベクトル方向に離して入射しても良いが、例えば、図１１に示すように、格子方向に所定量離した位置に、可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とを入射してもよい。この場合、回折格子１１の格子ベクトル方向（図１１中矢印Ｘ３方向）の一端が法線ベクトル方向の一方向に移動し、他端が法線ベクトルの他方向（図１１中矢印Ｘ４方向）に移動して、格子面１１ａが傾いたとしても、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の受光素子１３の受光面１３ａ上の結像位置はずれない。
【００８０】
また、入射角αと回折角βとが異なる場合には、可干渉光Ｌａ１の入射点と可干渉光Ｌａ２の入射点とを同一の位置としてもよい。
【００８１】
可干渉光の入射角α，γ、回折光の回折角β，δの関係は、以下の式（１）、式（２）に示すようになる。
【００８２】
Ｓｉｎα＋Ｓｉｎβ＝ｍλ/ｄ ・・・（１）
ｄ：回折格子のピッチ
λ：光の波長
ｍ：回折次数
Ｓｉｎγ/Ｓｉｎδ ＝Ｃｏｓβ/Ｃｏｓα ・・・（２）
従って、α＝βの場合にはγ＝δとなり、α≠βの場合にはγ≠δとなる。
【００８３】
つぎに、透過型の回折格子１１を用いて本発明を適用した第４の実施の形態の光学式変位測定装置について説明する。
【００８４】
図１２に、この第４の実施の形態の光学式変位測定装置の模式的な斜視図を示す。
【００８５】
ここで、直線ｎ、基準面ｍ１、傾斜面ｍ２の関係は、上記第３の実施の形態と同様である。また、直線ｎを含み基準面ｍ１とのなす角がδとなっており、傾斜面ｍ２に対して格子面１１ａを挟んで反対側にある仮想的な面を傾斜面ｍ３′とする。
【００８６】
図１３に、傾斜面ｍ２上に配置された構成要素を、傾斜面ｍ２及び傾斜面ｍ３′に対して垂直な方向から見た側面図を示す。図１４に、回折格子１１に入射される可干渉光及びこの回折格子１１により回折される回折光を格子ベクトル方向から見た側面図を示す。
【００８７】
本発明の第４の実施の形態の光学式変位測定装置は、透過型の回折格子１１を備え、工作機械等の可動部分の位置検出を行う装置である。
【００８８】
光学式変位測定装置５０は、図１２及び図１３に示すように、可干渉光Ｌａを出射する可干渉光源１２と、可干渉光源１２から出射された可干渉光Ｌａを２つの可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分割して回折格子１１に照射する照射光学系４１とを備えている。
【００８９】
この照射光学系４１は、通過する可干渉光Ｌａ（Ｌａ１，Ｌａ２）の光路が傾斜面ｍ２上に形成されるように、各部材が配置されている。そのため、可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２は、図１４に示すように、格子ベクトル方向から見た入射角がγとなっている。
【００９０】
反射器２３は、ハーフミラー２２を透過した可干渉光Ｌａ１を反射して、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。また、反射器２４は、ハーフミラー２２により反射された可干渉光Ｌａ２を反射して、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。反射器２３及び反射器２４は、傾斜面ｍ２上における入射角がαとなるように、可干渉光Ｌａ１及び可干渉光Ｌａ２を、格子面１１ａ上の所定の位置に照射している。可干渉光Ｌａ１と可干渉光Ｌａ２とは、格子ベクトル方向の入射方向が、互いに逆方向となっている。可干渉光Ｌａ１の入射点と可干渉光Ｌａ２の入射点との間は、格子ベクトル方向に所定量離れており、その距離はｌとなっている。
【００９１】
光学式変位測定装置５０では、このような可干渉光Ｌａ１が回折格子１１に照射されることによりこの可干渉光Ｌａ１が回折し、この入射点を透過した回折光Ｌｂ１が生じる。また、このような可干渉光Ｌａ２が回折格子１１に照射されることによりこの可干渉光Ｌａ２が回折し、この入射点を透過した回折光Ｌｂ２が生じる。回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２の回折角は、格子ベクトル方向からみた場合、図１４に示すように、δとなっている。すなわち、傾斜面ｍ３′に沿って回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が生じる。また、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２の傾斜面ｍ３′上における回折角は、βとなっている。なお、回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２とは、格子ベクトル方向における出射方向が互いに逆方向となっている。
【００９２】
また、光学式変位測定装置５０は、図１２及び図１３に示すように、干渉した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を受光して干渉信号を生成する受光素子１３と、回折光Ｌｂ１及び回折光Ｌｂ２を干渉させて受光素子１３に照射する受光光学系４２とを備えている。
【００９３】
受光光学系４２は、上述したように２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の格子ベクトル方向から見た回折角がδとなっているため、通過する回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の光路が傾斜面ｍ３′上に形成されるように、各部材が配置されている。また、受光光学系４２の反射器２５と反射器２６とは、傾斜面ｍ３′上における回折角βで回折された回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を反射可能な位置に配置されている。
【００９４】
また、光学式変位測定装置５０は、受光素子１３からの干渉信号に基づき回折格子１１の移動位置を検出する図示しない位置検出部を備えている。
【００９５】
このような構成の光学式変位測定装置５０では、可動部分の移動に応じて回折格子１１が格子ベクトル方向に移動することにより、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２に位相差が生じる。この光学式変位測定装置５０では、この２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させて干渉信号を検出し、この干渉信号から２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の位相差を求めて、回折格子１１の移動位置を検出する。
【００９６】
以上のように光学式変位測定装置５０では、基準面ｍ１に対して、所定の傾斜角をもった傾斜面ｍ２上に照射光学系４１を配置し、傾斜面ｍ３′上に受光光学系４２を配置することにより、可干渉光と回折光とが形成する光路を分離することができ、装置の設計の自由度が増す。また、格子面１１ａからの０次回折光や反射光を、照射光学系４１や受光光学系４２に混入させることなく、回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を干渉させることができ、高精度に位置測定をすることができる。
【００９７】
なお、０次回折光や反射光を照射光学系４１や受光光学系４２に混入させないための入射角α，γ及び回折角β，δの関係は、上記第３の実施の形態と同様である。
【００９８】
つぎに、本発明を適用した第５の実施の形態の光学式変位測定装置について、図１５を用いて説明する。なお、この第５の実施の形態は、上記第３の実施の形態及び第４の実施の形態の構成要素を一部変形したものであり、以下、上記第３の実施の形態及び第４の実施の形態の構成要素のうち変形していない構成要素についてはその詳細な説明を省略する。
【００９９】
第５の実施の形態の光学式変位測定装置６０は、照射光学系４１のハーフミラー２２として、偏光ビームスプリッタを用いている。以下、この第５の実施の形態の説明において、ハーフミラー２２を偏光ビームスプリッタ２２として言い換えて説明する。
【０１００】
また、この光学式変位測定装置６０は、受光光学系４２のハーフミラー２７及び第２の結像素子２８に変えて、図１５に示すように、第１の偏光ビームスプリッタ６１と、１／４波長板６２と、第３の結像素子６３と、無偏光ビームスプリッタ６４と、第２の偏光ビームスプリッタ６５と、第３の偏光ビームスプリッタ６６とを用いている。
【０１０１】
また、この光学式変位測定装置６０は、受光素子１３に変えて、第１の受光素子６７ａ，６７ｂと、第２の受光素子６８ａ，６８ｂを用いている。
【０１０２】
可干渉光源１２から出射される可干渉光Ｌａは、照射光学系４１の偏光ビームスプリッタ２２に対して、偏光方向が４５度傾けて入射される。この照射光学系４１の偏光ビームスプリッタ２２は、入射された可干渉光Ｌａを、偏光方向が直交する２つの可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分割する。照射光学系４１の偏光ビームスプリッタ２２を透過した可干渉光Ｌａ１はＰ偏光の光となり、反射した可干渉光Ｌａ２はＳ偏光の光となる。
【０１０３】
受光光学系４２の第１の偏光ビームスプリッタ６１には、回折格子１１で回折された回折光Ｌｂ１と、回折格子１１で回折された回折光Ｌｂ２とが入射される。回折光Ｌｂ１はＰ偏光の光となり、回折光Ｌｂ２はＳ偏光の光となっている。この偏光ビームスプリッタ６１は、回折光Ｌｂ１を透過し、回折光Ｌｂ２を反射することによって、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を重ね合わせ、干渉させる。
【０１０４】
干渉した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、１／４波長板６２を通過する。１／４波長板６２は、各回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の偏光方向に対して、光学軸が４５度傾いた位置に配置されている。そのため、各回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、この１／４波長板６２を通過することにより、互いに逆回りの円偏光の光となる。
【０１０５】
互いに逆回りの円偏光の光とされた回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、第３の結像素子６３を通過する。
【０１０６】
第３の結像素子６３は、所定の開口数を有するレンズ等の光学素子からなるものである。第３の結像素子６３は、回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を、所定のビーム径で第１の受光素子６７ａ，６７ｂ及び第２の受光素子６８ａ，６８ｂの受光面に結像させる。その結像点は、必ずしもビーム径が最小となる点とする必要はなく、ビームの像内での光路長の差が最小となる点が受光面上に位置するようにしてもよい。
【０１０７】
この第３の結像素子６３を通過した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、無偏光ビームスプリッタ６４で２つのビームに分割される。
【０１０８】
分割された一方のビームは、第２の偏光ビームスプリッタ６５によりさらに偏光方向が直交する２つのビームに分割され、それぞれ、第１の受光素子６７ａ，６７ｂに照射される。また、分割された他方のビームは、第２の偏光ビームスプリッタ６５に対して４５度傾いた第３の偏光ビームスプリッタ６６によりさらに偏光方向が直交する２つのビームに分割され、それぞれ、第２の受光素子６８ａ，６８ｂに照射される。
【０１０９】
ここで、互いに逆方向に回転する円偏光の光を重ね合わせた光は、２つの光の位相差にしたがって回転する直線偏光の光とみなすことができる。そのため、１／４波長板６２を通過した回折光は、回折格子１１の移動にともない回転する直線偏光の光となる。また、この直線偏光の光を偏光板等の偏光素子で互いにω度異なる偏光方向の成分を取り出した場合、その取り出した光の強度を検出した信号は、互いに２ω度位相が異なる信号となる。そのため、第１の受光素子６７ａ，６７ｂは、第２の偏光ビームスプリッタ６５により取り出された互いに９０度異なる偏光方向の光を検出するので、検出した信号の位相が互いに１８０度異なっている。従って、第１の受光素子６７ａ，６７ｂにより検出した信号の差を取ることにより、直流成分を除去した信号を検出することができる。また、これは、第２の受光素子６８ａ，６８ｂに関しても同様である。
【０１１０】
また、第３の偏光ビームスプリッタ６６により取り出される光は、第２の偏光ビームスプリッタ６５により取り出される光に対して、角度が４５度異なっている。そのため、第２の受光素子６８ａ，６８ｂから得られる信号は、第１の受光素子６７ａ，６７ｂから得られる信号に対して、９０度位相が異なっている。すなわち、第１の受光素子６７ａと第１の受光素子６７ｂとの検出信号の差動信号と、第２の受光素子６８ａと第２の受光素子６８ｂとの検出信号の差動信号とが、互いに９０度位相が異なっている。従って、この光学式変位測定装置６０では、互いに９０度位相が異なる回折格子１１の移動位置を示す位置信号に基づき、回折格子１１の移動方向を特定することができる。
【０１１１】
以上のように、この第５の実施の形態の光学式変位測定装置６０では、回折格子１１の透過率、反射率、回折効率等の影響による直流変動を、検出する干渉信号から除去することができる。また、この光学式変位測定装置６０では、回折格子１１の移動方向を特定することができる。
【０１１２】
つぎに、本発明を適用した第６の実施の形態の光学式変位測定装置について、図１６を用いて説明する。なお、この第６の実施の形態は、上記第５の実施の形態の構成要素を一部変形したものであり、以下、上記第５の実施の形態の構成要素のうち変形をしていない構成要素についてはその詳細な説明を省略する。
【０１１３】
第６の実施の形態の光学式変位測定装置７０は、照射光学系４１のハーフミラー２２に、無偏光ビームスプリッタを用いている。以下、この第６の実施の形態の説明において、ハーフミラー２２を無偏光ビームスプリッタ２２として言い換えて説明する。
【０１１４】
また、この光学式変位測定装置７０は、図１６に示すように、第１の偏光ビームスプリッタ６１に入射される一方の回折光を偏光方向を９０度回転させる１／２波長板７１を備えている。
【０１１５】
可干渉光源１２から出射される可干渉光Ｌａは、照射光学系４１の無偏光ビームスプリッタ２２に対してＳ偏光入射される。この照射光学系４１の無偏光ビームスプリッタ２２は、入射された可干渉光Ｌａを、偏光方向が同一の２つの可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分割する。
【０１１６】
回折格子１１で回折された回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２は、回折された時点では、その偏光方向が同一となっている。一方の回折光Ｌｂ１は、偏光方向を９０度回転させる１／２波長板７１を通過して、第１の偏光ビームスプリッタ６１に入射する。他方の回折光Ｌｂ２は、そのままの偏光方向で受光光学系４２の第１の偏光ビームスプリッタ６１に入射する。
【０１１７】
このため、受光光学系４２の第１の偏光ビームスプリッタ６１には、偏光方向が９０度異なった２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２が入射されることとなる。回折光Ｌｂ１はＰ偏光となり、回折光Ｌｂ２はＳ偏光となっている。この偏光ビームスプリッタ６１は、回折光Ｌｂ１を透過し、回折光Ｌｂ２を反射することによって、２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を重ね合わせ、干渉させる。なお、無偏光ビームスプリッタ２２にＰ偏光の可干渉光Ｌａを入射した場合には、１／２波長板７１を回折光Ｌｂ２側に設ければよい。
【０１１８】
干渉した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、１／４波長板６２を通過する。１／４波長板６２は、各回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２の偏光方向に対して、光学軸が４５度傾けられている。そのため、各回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、この１／４波長板６２を通過することにより、互いに逆回りの円偏光の光となる。
【０１１９】
互いに逆回りの円偏光の光とされた回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、第３の結像素子６３を通過する。第３の結像素子６３は、回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を、所定のビーム径で第１の受光素子６７ａ，６７ｂ及び第２の受光素子６８ａ，６８ｂの受光面に結像させる。
【０１２０】
この第３の結像素子６３を通過した２つの回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、無偏光ビームスプリッタ６４で２つのビームに分割される。
【０１２１】
一方のビームは、第２の偏光ビームスプリッタ６５によりさらに偏光方向が直交する２つに分割され、それぞれ、第１の受光素子６７ａ，６７ｂに照射される。また、他方のビームは、第２の偏光ビームスプリッタ６５に対して４５度傾いた第３の偏光ビームスプリッタ６６によりさらに偏光方向が直交する２つに分割され、それぞれ、第２の受光素子６８ａ，６８ｂに照射される。
【０１２２】
以上のように、この第６の実施の形態の光学式変位測定装置７０では、回折格子１１の透過率、反射率、回折効率等の影響による直流変動を、検出する干渉信号から除去することができる。また、この光学式変位測定装置７０では、回折格子１１の移動方向を特定することができる。
【０１２３】
つぎに、本発明を適用した第７の実施の形態の光学式変位測定装置について、図１７を用いて説明する。なお、この第７の実施の形態は、上記第６の実施の形態の構成要素を一部変形したものであり、以下、上記第６の実施の形態の構成要素のうち変形をしていない構成要素についてはその詳細な説明を省略する。
【０１２４】
第７の実施の形態の光学式変位測定装置８０は、照射光学系４１のハーフミラー２２に、無偏光ビームスプリッタを用いている。以下、この第７の実施の形態の説明において、ハーフミラー２２を偏光ビームスプリッタ２２として言い換えて説明する。
【０１２５】
また、この光学式変位測定装置８０は、図１７に示すように、受光光学系４２の１／２波長板７１、偏光ビームスプリッタ６１、１／４波長板６２、第３の結像素子６３に変えて、第１の１／４波長板８１と、第２の１／４波長板８２と、第４の結像素子８３と、第５の結像素子８４とを用いている。
【０１２６】
可干渉光源１２から出射される可干渉光Ｌａは、照射光学系４１の無偏光ビームスプリッタ２２に対して入射される。この照射光学系４１の無偏光ビームスプリッタ２２は、入射された可干渉光Ｌａを、偏光方向が同一の可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２に分割する。
【０１２７】
回折格子１１で回折された回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２は、回折された時点では、その偏光方向が同一となっている。一方の回折光Ｌｂ１は、そのままの偏光方向で受光光学系４２の第１の１／４波長板８１を通過する。ここで、この第１の１／４波長板８１は、入射される回折光Ｌｂ１の偏光方向に対して光学軸が４５度傾けて配置されている。従って、この一方の回折光Ｌｂ１は、所定の回転方向の円偏光の光となる。
【０１２８】
円偏光の光とされた回折光Ｌｂ１は、第４の結像素子８３を通過する。第４の結像素子８３は、所定の開口数を有するレンズ等の光学素子からなるものである。第４の結像素子８３は、回折光Ｌｂ１を、所定のビーム径で第１の受光素子６７ａ，６７ｂ及び第２の受光素子６８ａ，６８ｂの受光面に結像させる。その結像点は、必ずしもビーム径が最小となる点とする必要はなく、ビームの像内での光路長の差が最小となる点が受光面上に位置するようにしてもよい。
【０１２９】
また、他方の回折光Ｌｂ２は、そのままの偏光方向で受光光学系４２の第２の１／４波長板８２を通過する。ここで、この第２の１／４波長板８２は、入射される回折光Ｌｂ２の偏光方向に対して光学軸が４５度傾けて配置されている。また、この第２の１／４波長板８２は、通過する他方の回折光Ｌｂ２が一方の回折光Ｌｂ１に対して逆回りの円偏光となるように、光学軸が傾けて配置されている。
【０１３０】
円偏光の光とされた回折光Ｌｂ２は、第５の結像素子８４を通過する。第５の結像素子８４は、所定の開口数を有するレンズ等の光学素子からなるものである。第５の結像素子８４は、回折光Ｌｂ２を、所定のビーム径で第１の受光素子６７ａ，６７ｂ及び第２の受光素子６８ａ，６８ｂの受光面に結像させる。その結像点は、必ずしもビーム径が最小となる点とする必要はなく、ビームの像内での光路長の差が最小となる点が受光面上に位置するようにしてもよい。
【０１３１】
互いに逆回りの円偏光の光とされた回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２は、第４の結像素子８３及び第５の結像素子８４を通過して、無偏光ビームスプリッタ６４に入射する。
【０１３２】
無偏光ビームスプリッタ６４は、入射された２つの回折光Ｌｂ１と回折光Ｌｂ２とを重ね合わせて干渉させるとともに、２つのビームに分割する。
【０１３３】
分割された一方のビームは、第２の偏光ビームスプリッタ６５によりさらに偏光方向が直交する２つのビームに分割され、それぞれ、第１の受光素子６７ａ，６７ｂに照射される。また、分割された他方のビームは、第２の偏光ビームスプリッタ６５に対して４５度傾いた第３の偏光ビームスプリッタ６６によりさらに偏光方向が直交する２つのビームに分割され、それぞれ、第２の受光素子６８ａ，６８ｂに照射される。
【０１３４】
以上のように、この第７の実施の形態の光学式変位測定装置８０では、回折格子１１の透過率、反射率、回折効率等の影響による直流変動を、検出する干渉信号から除去することができる。また、この光学式変位測定装置８０では、回折格子１１の移動方向を特定することができる。
【０１３５】
以上本発明を適用した第１〜第７の実施の形態の光学式変位測定装置を説明した。各実施の形態の光学式変位測定装置では、格子が所定の間隔で平行に設けられた回折格子１１を用いているが、本発明では、このような格子が平行に設けられた回折格子を用いなくても良い。例えば、図１８に示すように、放射状に格子が設けられた回折格子を用いてもよい。このような放射状に格子が設けられた回折格子を用いることにより、回転移動をする工作機械の可動部分等の位置検出を行うことができる。また、本発明では、明暗を記録した振幅型の回折格子、屈折率変化や形状変化を記録した位相型の回折格子を用いても良く、その回折格子のタイプは限られない。
【０１３６】
また、各実施の形態の光学式変位測定装置では、回折格子１１を工作機械等の可動部分に取り付けて、この回折格子１１が可動部分の移動に応じて移動する場合について説明したが、本発明では、照射光学系及び干渉光学系と、回折格子１１とが相対的に移動すれば良い。例えば、本発明では、回折格子が固定されていて、照射光学系及び干渉光学系が工作機械等の可動部分の移動に応じて移動しても良い。
【０１３７】
また、各実施の形態の光学式変位測定装置に用いられているハーフミラーやビームスプリッタ及び結像素子等は、薄膜を用いた素子やレンズ等のみに限られず、例えば、回折光学素子を用いても良い。
【０１３８】
なお、各実施の形態の光学式変位測定装置において、第１の結像素子２１は、回折格子１１の格子面１１ａに対して可干渉光Ｌａを結像できる位置に配置されていればよいため、その配置の位置や個数を限定するものではない。例えば、ハーフミラー（偏光ビームスプリッタ或いは偏光ビームスプリッタ）２２により分割された後の可干渉光Ｌａ１，Ｌａ２を結像するように、結像素子を配置しても良い。
【０１３９】
また、各実施の形態の光学式変位測定装置において、第２の結像素子２８、第３の結像素子６３、第４の結像素子８３、第５の結像素子８４は、受光素子１３又は受光素子６７，６８の受光面に対して回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を結像できる位置に配置されていればよいため、その配置の位置や個数を限定するものではない。例えば、ハーフミラー２７や偏光ビームスプリッタ６１により重ね合わせる前の回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を結像するように結像素子を配置しても良し、無偏光ビームスプリッタ６４により分割された後の回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を結像するように結像素子を配置しても良い。
【０１４０】
【発明の効果】
本発明に係る光学式変位測定装置では、受光手段の受光面に回折光が結像されているため、第２の結像手段を通過する回折光の光路長が等しくなる。従って、回折光の光軸がずれた場合であっても受光手段の受光面の結像位置は変化せず、光路長に変化が生じない。
【０１４１】
このことにより、本発明に係る光学式変位測定装置では、２つの回折光が互いにずれることなく重なり合わされ、干渉する。そのため、回折格子が、格子ベクトルに平行な方向以外に移動等した場合、例えば、回折格子が傾いたり、回折格子にうねり等があった場合であっても、検出する干渉信号が低下しない。従って、この光学式変位測定装置では、移動する可動部分の移動位置を、高分解能かつ高精度に検出することができる。
【０１４２】
また、この光学式変位測定装置では、測定対象となる工作機械等の可動部分への取り付け位置の自由度が増し、また、この可動部分に振動やぶれ等があっても安定して測定ができる。また、この光学式変位測定装置では、第１の結像手段又は第２の結像手段の開口数を大きくすることにより、回折格子と照射光学系或いは干渉光学系との間隔を大きくすることができ、小型の受光手段を用いることができ、また、設計が簡易となり、その自由度が増す。
【０１４３】
また、この光学式変位測定装置では、干渉させる回折光以外の回折光が、照射光学系や干渉光学系に混入しないのでノイズを少なくすることができ、移動する可動部分の移動位置を、高分解能かつ高精度に検出することができる。
【０１４４】
また、この光学式変位測定装置では、偏光ビームスプリッタを用いることにより、回折格子の透過率、反射率、回折効率等の影響による直流変動を、検出する干渉信号から除去することができ、移動する可動部分の移動位置を、高分解能かつ高精度に検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光学式変位測定装置を説明する為の図である。
【図２】本発明を適用した第１の実施の形態の光学式変位測定装置を説明する為の図である。
【図３】本発明の第１〜第７の実施の形態の光学式変位測定装置に用いられる回折格子の斜視図である。
【図４】上記本発明の第１の実施の形態の光学式変位測定装置の回折格子が傾いた場合について説明する為の図である。
【図５】本発明を適用した第２の実施の形態の光学式変位測定装置を説明する為の図である。
【図６】上記本発明の第２の実施の形態の光学式変位測定装置の回折格子が傾いた場合について説明する為の図である。
【図７】本発明の第３の実施の形態の光学式変位測定装置の斜視図である。
【図８】上記本発明の第３の実施の形態の光学式変位測定装置の傾斜面ｍ２上に配置された構成要素を、この傾斜面ｍ２に対して垂直な方向から見た側面図を示す。
【図９】上記本発明の第３の実施の形態の光学式変位測定装置の回折格子に入射される可干渉光及びこの回折格子により回折される回折光を格子ベクトル方向から見た側面図を示す。
【図１０】 上記本発明の第３の実施の形態の光学式変位測定装置の傾斜面ｍ３上に配置された構成要素を、この傾斜面ｍ３に対して垂直な方向から見た側面図を示す。
【図１１】上記回折格子に入射される可干渉光の入射点を説明する為の図である。
【図１２】本発明の第４の実施の形態の光学式変位測定装置の斜視図である。
【図１３】上記本発明の第４の実施の形態の光学式変位測定装置の傾斜面ｍ２及び傾斜面ｍ３′上に配置された構成要素を、この傾斜面ｍ２及び傾斜面ｍ３′に対して垂直な方向から見た側面図を示す。
【図１４】上記本発明の第４の実施の形態の光学式変位測定装置の回折格子に入射される可干渉光及びこの回折格子により回折される回折光を格子ベクトル方向から見た側面図を示す。
【図１５】本発明の第５の実施の形態の受光光学系の要部斜視図である。
【図１６】本発明の第６の実施の形態の受光光学系の要部斜視図である。
【図１７】本発明の第７の実施の形態の受光光学系の要部斜視図である。
【図１８】本発明の第１〜第７の実施の形態の光学式変位測定装置に用いられる他の回折格子を説明する為の図である。
【図１９】従来の光学式変位測定装置の斜視図である。
【図２０】従来の光学式変位測定装置の側面図である。
【図２１】従来の他の光学式変位測定装置の斜視図である。
【図２２】従来の他の光学式変位測定装置の側面図である。
【図２３】上記従来の光学式変位測定装置を変形例を説明する為の図である。
【図２４】従来の更に他の光学式変位測定装置を説明する為の図である。
【図２５】上記従来の更に他の光学式変位測定装置の受光素子に照射される回折光を説明する為の図である。
【符号の説明】
１，１１ 回折格子、２ 発光手段、３ 受光手段、４ 第１の結像手段、５第２の結像手段、１０，３０，４０，５０，６０，７０，８０ 光学式変位測定装置、１２ 可干渉光源、１３，６７，６８ 受光素子、２１，２８，６３，８３，８４ 結像素子、１４ 位置検出部
Claims (13)
- 可干渉光が照射され、この可干渉光に対して格子ベクトルに平行な方向に相対移動し、この可干渉光を回折する回折格子と、
可干渉光を発光する発光手段と、
上記発光手段により発光された可干渉光を２つの可干渉光に分割して、上記回折格子に対して各可干渉光を照射する照射光学系と、
上記各可干渉光が上記回折格子により回折されて得られる２つの回折光を干渉させる干渉光学系と、
干渉した２つの回折光を受光して干渉信号を検出する受光手段と、
上記受光手段が検出した干渉信号から上記２つの回折光の位相差を求めて、上記回折格子の相対移動位置を検出する位置検出手段とを備え、
上記照射光学系は、上記回折格子に対して照射される２つの可干渉光を、この回折格子の格子面に結像させる第１の結像手段を有し、
上記干渉光学系は、上記受光手段が受光する干渉された２つの回折光を、この受光手段の受光面に結像させる第２の結像手段を有すること
を特徴とする光学式変位測定装置。 - 上記照射光学系は、格子面に垂直な方向以外の方向から、上記回折格子に対して各可干渉光を照射すること
を特徴とする請求項１に記載の光学式変位測定装置。 - 上記第１の結像手段は、上記回折格子に照射される２つの可干渉光を、上記回折格子の格子面上で、格子ベクトルに垂直な方向に所定量離した位置に結像させること
を特徴とする請求項１に記載の光学式変位測定装置。 - 上記第１の結像手段は、上記回折格子に照射される２つの可干渉光を、上記回折格子の格子面上で、同一位置に結像させること
を特徴とする請求項１に記載の光学式変位測定装置。 - 上記回折格子は、可干渉光の入射角と、回折光の回折角とが異なること
を特徴とする請求項４に記載の光学式変位測定装置。 - 上記照射光学系は、上記発光手段により発光された可干渉光を、偏光方向が直交する２つの可干渉光に分離する偏光ビームスプリッタを有すること
を特徴とする請求項１に記載の光学式変位測定装置。 - 上記干渉光学系は、
偏光方向が直交する２つの回折光を重ね合わせる第１の偏光ビームスプリッタと、この第１の偏光ビームスプリッタが重ね合わせた２つの回折光を互いに逆方向の円偏光とする波長板と、円偏光とされた２つの回折光を分割する無偏光ビームスプリッタと、分割された一方の回折光を偏光方向が直交する２つの干渉光に分離する第２の偏光ビームスプリッタと、分割された他方の回折光を偏光方向が直交する２つの干渉光に分離する第３の偏光ビームスプリッタとを有し、第２と第３の偏光ビームスプリッタが透過する干渉光の偏光方向が４５度異なるように設けられており、
上記位置検出手段は、
上記第２の偏光ビームスプリッタにより分離された偏光方向が異なる２つの干渉光の差動出力と、上記第３の偏光ビームスプリッタにより分離された偏光方向が異なる２つの干渉光の差動出力とを求め、上記回折格子の相対移動位置を検出すること
を特徴とする請求項６に記載の光学式変位測定装置。 - 上記照射光学系は、上記発光手段が発光する可干渉光を、偏光方向が同一の２つの可干渉光に分離する無偏光ビームスプリッタを有すること
を特徴とする請求項１に記載の光学式変位測定装置。 - 上記干渉光学系は、
偏光方向が同一の２つの回折光を偏光方向が直交する２つの回折光とする第１の波長板と、偏光方向が直交する２つの回折光を重ね合わせる第１の偏光ビームスプリッタと、この第１の偏光ビームスプリッタが重ね合わせた２つの回折光を互いに逆方向の円偏光とする第２の波長板と、円偏光とされた２つの回折光を分割する無偏光ビームスプリッタと、分割された一方の回折光を偏光方向が直交する２つの干渉光に分離する第２の偏光ビームスプリッタと、分割された他方の回折光を偏光方向が直交する２つの干渉光に分離する第３の偏光ビームスプリッタとを有し、第２と第３の偏光ビームスプリッタが透過する干渉光の偏光方向が４５度異なるように設けられており、
上記位置検出手段は、
上記第２の偏光ビームスプリッタにより分離された偏光方向が異なる２つの干渉光の差動出力と、上記第３の偏光ビームスプリッタにより分離された偏光方向が異なる２つの干渉光の差動出力とを求め、上記回折格子の相対移動位置を検出すること
を特徴とする請求項８に記載の光学式変位測定装置。 - 上記干渉光学系は、
偏光方向が同一の２つの回折光を互いに逆方向の円偏光とする波長板と、円偏光とされた２つの回折光を重ね合わせ２つに分割する無偏光ビームスプリッタと、分割された一方の回折光を偏光方向が直交する２つの干渉光に分離する第２の偏光ビームスプリッタと、分割された他方の回折光を偏光方向が直交する２つの干渉光に分離する第３の偏光ビームスプリッタとを有し、第２と第３の偏光ビームスプリッタが透過する干渉光の偏光方向が４５度異なるように設けられており、
上記位置検出手段は、
上記第２の偏光ビームスプリッタにより分離された偏光方向が異なる２つの干渉光の差動出力と、上記第３の偏光ビームスプリッタにより分離された偏光方向が異なる２つの干渉光の差動出力とを求め、上記回折格子の相対移動位置を検出すること
を特徴とする請求項８に記載の光学式変位測定装置。 - 上記回折格子は、反射型であること
を特徴とする請求項１に記載の光学式変位測定装置。 - 上記回折格子は、放射状に格子が形成されていること
を特徴とする請求項１に記載の光学式変位測定装置。 - 上記発光手段は、光路長の差を干渉縞の変調率の変化として検出することが可能な可干渉性を有する可干渉光を発光すること
を特徴とする請求項１に記載の光学式変位測定装置。
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