JP2015501541A - 銀ナノワイヤーを含むマトリックスの選択的エッチング - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、可撓性のプラスチック基礎構造物またはガラスシート上にAgNW(銀ナノワイヤー)を含むポリマーマトリックスの選択的構造化のための方法に関する。本方法はまた、大量生産において本方法を実行するのに好適なエッチング組成物も含有する。
透明な導電性フィルムは、多くの電子装置および電子部品において、極めて重要である。それらは、液晶、フラットパネルまたはプラズマディスプレイ、タッチパネル、有機発光ダイオード(OLED)および太陽電池などの装置において、ほとんどの場合、電極用途として使用される。かかるフィルムは、特に薄膜電池、有機ポリマー電池(OPC)および色素増感太陽電池に使用される。
代替材料が、この数年の間研究されてきている。ITOレベルに追いつくために、新規のナノ構造薄膜材料が、新規のTC(透明な導電性)材料を焦点に合わされている。グラフェンおよびカーボンナノチューブフィルムは、研究されている。しかしながら、主要な核心は、依然、シート抵抗および高い透明度である。
ウエットケミカルエッチング法およびドライエッチング法は、材料集約的であって、時間がかかる、高価なプロセス工程を含有する:
エッチング構造のネガまたはポジの生成(レジストに応じて)、基板表面のコーティング(例えば液体フォトレジストのスピンコーティングによる)、フォトレジストの乾燥、コーティングされた基板表面の曝露、現像、濯ぎ、所望なら乾燥
浸漬法(例えばウエットケミカルバンクにおけるウエットエッチング):
エッチング浴中への基板の浸漬、エッチングプロセス、H2Oカスケードベイスン(cascade basin)中での繰り返される濯ぎ、乾燥
エッチング溶液を、回転する基板に適用し、エッチング操作を、エネルギー(例えばIRまたはUV照射)の入力の無し/有りで行うことができる、
または、例えば高価な真空ユニット中でのプラズマエッチングもしくはフロー反応器中における反応性ガスによるエッチングがあるため、公知のドライエッチング法、
および、
TC(透明な導電性)層のドライエッチング法もまた知られており、パターン形成されたマスキング層を使用し、三塩化ホウ素(BCl3)および二塩化物(Cl2)ならびに基板バイアス電力(bias power)を使用し、プラズマエッチングチャンバー中の薄い導電性フィルムをエッチングする。
a)複合材料の表面への酸性エッチングペーストをプリントすること、
b)所定の期間(一定の滞留時間(fixed dwell time))エッチングすること、および、
c)前記基板を洗浄すること
を含む。
特定の態様において、適用されるエッチングペーストは、有機もしくは無機の充填剤粒子またはそれらの混合物を含む。
エッチングペーストがエッチングされるべき表面に適用される場合、10s〜15minの反応時間後、好ましくは30s〜7min後、再び除去される。本発明の方法の最も好ましい態様において、エッチングペーストは、1分の反応時間後に除去される。
前に記載されるような従来のエッチング法の欠点は、時間がかかり、材料集約的であって、高価なプロセス工程を含有する点である。その上、これらの知られるエッチング法は、場合によっては、技術的性能、安全性の点から見て複雑であり、バッチ式で実行される。
セルロース/セルロース誘導体、および/または
デンプン/デンプン誘導体、および/または
キサンタン、および/または
ポリビニルピロリドン
官能性ビニル単位であるアクリレートに基づくポリマー
の群から選択されてもよい。一般にこのような増粘剤は、商業的に入手可能である。
BYK(登録商標)410、Borchigel(登録商標)Thixo2などのチキソトロピー剤、
TEGO(登録商標)Glide ZG 400などの流量制御剤、
TEGO(登録商標)Airex 985などの脱気剤、および
Bayowet(登録商標)FT 929などの接着促進剤である。
これらの添加物は、プリントペーストのプリント適性に対して有利な効果を有する。添加物の比率は、エッチングペーストの総重量に基づき、0〜5重量%の範囲にある。
・エッチング成分の濃度および組成
・溶媒の濃度および組成
・増粘剤系の濃度および組成
・充填剤内容物(filler content)の濃度および組成
・本発明に従い記載されるプリント可能なエッチングペーストの粘度
・エッチングペーストおよび/またはエッチングされるべき基板へのエネルギー入力の有無におけるエッチング時間
・エッチング温度
・ポリアクリル
・ポリアミド
・ポリエチレン
・エチレン−酢酸ビニルコポリマー
・エチレン−アクリル酸−アクリレートターポリマー
・エチレン−アクリレート−無水マレイン酸ターポリマー
・ポリプロピレン
・ポリイミド
・ポリメタクリレート
・メラミン、ウレタン、ベンゾグアナミン、フェノール樹脂
・シリコーン樹脂
・フッ素化ポリマー(PTFE、PVDF)および、
・微細化ワックス
・ポリスチレン
・ポリアクリル
・ポリアミド
・ポリイミド
・ポリメタクリレート
・メラミン、ウレタン、ベンゾグアニン、フェノール樹脂
および
・シリコーン樹脂
をベースとした微粒子ポリマー増粘剤である。
酸性エッチャント、好ましくはフッ化水素アンモニウムを、マグネチックスターラーを有するビーカー中、溶媒と混合し、混合物を撹拌しながら、増粘剤をゆっくり加える。その後、混合物を撹拌しながら、必要な充填剤量を加える。
15gのエチレングリコールモノブチルエーテル
15gのトリエチレングリコールモノメチルエーテル
29gのポリカーボネート
72gのギ酸
30gのDI水
16gのフッ化水素アンモニウム
46gのポリビニルピロリドン (PVP) K-120
60gのVestosint 2070
30gのエチレングリコール
29gのポリカーボネート
72gのギ酸(100%)
30gのDI水
8gのフッ化水素アンモニウム
8gのポリビニルピロリドン
75gのVestosint 2070
33gのH3PO4
36gの1−メチル−2−ピロリドン
13gのDI水
8gのポリビニルピロリドン
3gのグラファイト
エッチング組成物を、上記載のように混合する。結果は、プリント可能なエッチング組成物である。
26gのエチレングリコール
24gのポリカーボネート
30gのDI水
3gのフッ化水素アンモニウム
6gのポリビニルピロリドン
26gのVestosint 2070
これらのエッチング結果は、良好な結果のために、含まれるエッチャントの濃度、適用されるエッチングペーストの量、エッチング時間および温度を、種々の層および層厚に対して最適化しなければならないことを示す。
Claims (16)
- プラスチックまたはガラスの基礎構造物上の銀ナノワイヤー(AgNW)および/またはカーボンナノチューブ(CNT)を含むポリマーマトリックスの選択的エッチングのための方法であって、以下の工程:
a)前記の銀ナノワイヤーを有するポリマーマトリックスと前記のプラスチック基板またはガラスシートとを含む複合材料の表面上に、酸をベースとしたエッチングペーストをプリントすること、
b)加熱の有無にかかわらず、所定の期間(一定の滞留時間)エッチングすること、および
c)前記基板を洗浄すること
を含む、前記方法。 - 工程a)において、NH4HF2、NH4F、HF、HBF4またはH3PO4の群から選択されるエッチャントを含むエッチングペーストがプリントされることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 工程a)において、水、グリセロール、1,2−プロパンジオール、1,2−エタンジオール、2−プロパノール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2−エチル−1−ヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコールおよびジプロピレングリコールなどの一価もしくは多価アルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルおよびジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル、酢酸[2,2−ブトキシ(エトキシ)]エチル、酢酸イソプロピル、ギ酸イソプロピル、などのエステル、炭酸プロピレンなどの炭酸のエステル、アセトン、2−ブタノン、アセトフェノン、メチル−2−ヘキサノン、2−オクタノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノンおよび1−メチル−2−ピロリドンなどのケトン、カプロラクタム、1,3.ジオキソラン、2−メチル−1,3−ジオキソラン、アセトアルデヒドなどのアルデヒドの群から選択される溶媒それ自体、またはそれらの混合物を、該媒体の総量に基づき10〜90重量%の範囲の量で、好ましくは15〜85重量%の範囲の量で含むエッチングペーストがプリントされる、請求項1または2に記載の方法。
- 工程a)において、溶媒としてエチレングリコールを含むエッチングペーストがプリントされる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 工程a)において、有機粒子もしくは無機粒子またはそれらの混合物を、エッチング媒体の総量に基づき、0.5〜25重量%の範囲の量で含むエッチングペーストが使用される、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 工程a)において、ポリスチレン、アクリルポリマー、ポリアミド、ポリイミド、メタクリルポリマー、メラミン、ウレタン、ベンゾグアナミン樹脂およびフェノール樹脂、シリコーン樹脂、微細化セルロース、フッ素化ポリマー(とりわけ、PTFE、PVDF)ならびに微細化ワックスの群から選択される有機ポリマー粒子を充填剤および増粘剤として含むエッチングペーストが使用される、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 工程a)において、フッ化カルシウム、酸化ホウ素、カーボンブラック、グラファイト、ヒュームドシリカおよび塩化ナトリウムの群から選択される無機粒子を充填剤および増粘剤として含むエッチングペーストが使用される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 工程a)において、エッチングペーストが、スクリーンプリント、インクジェット、ディスペンシングまたはマイクロジェットによって表面上に適用される、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 基板の加熱が、10s〜15min間、好ましくは30s〜7min間持続し、温度が、20〜170℃の範囲の温度である、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 基板の加熱が、30℃で、5分間持続する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 処理された基板が、DI水で、または溶媒で、濯がれること;および、前記の濯がれた部分が、乾燥エアフローまたは窒素フローで乾燥されることを特徴とする、請求項9または10に記載の方法。
- プラスチックが、ポリウレタン、PEN(ポリエチレンナフタレート)またはPET(テレフタル酸ポリエチレン)である、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
- 導電性ポリマー層中に埋め込まれたAgNW(銀ナノワイヤー)の長さが、1,5〜15μmで変化し、直径が、40〜150nmで変化する、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
- 導電性ポリマー層中に埋め込まれたCNT(カーボンナノチューブ)の長さが、1,5から15μmの範囲で、平均直径が、40〜150nmの範囲で変化する、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
- 導電性ポリマーが、ポリ(3−オクチルチオフェン)(P3OT)、ポリ(3−へキシル−チオフェン)ポリマー(P3HT)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、もしくは他のポリチオフェン誘導体およびポリアニリンの群から選択されるか、または、ポリ[2−メトキシ−5−(3’,7’−ジメチルオクチルオキシ)1,4−ポリフェニレンビニレン](MDMO−PPV)/1−(3−メトキシカルボニル)−プロピル−1−フェニル)[6,6]C61(PCBM);ポリ(3−へキシル−チオフェン)ポリマー(P3HT)/(PCBM)およびポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホナート)(PEDOT/PSS)のようなポリマーの組合せである、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
- プリントされるライン、ドットまたは構造の解像度が、80μmより小さい、請求項1〜15のいずれか一項に記載の方法。
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