JP2015220447A - リソグラフィ装置、および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の第1実施形態の露光装置100について、図1を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態の露光装置100の構成を示す概略図である。露光装置100は、例えば、照明光学系11と、投影光学系12と、マスクステージ13と、基板ステージ14と、検出部15と、制御部16とを含みうる。制御部16は、例えば、CPUやメモリなどを含み、マスク1に形成されたパターンを基板2に転写する処理(基板2を露光する処理)を制御する。
(条件1)基板2の中心より気体の流れの下流側に配置されたサンプルショット領域2bについては第1計測部4に近い方から先に検出部15による検出を行う。
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、上記のリソグラフィ装置(露光装置)を用いて基板にパターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程でパターンが形成された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (11)
- 基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持して移動可能なステージと、
前記ステージの側面に光を照射し、反射された光に基づいて前記ステージの位置を計測する計測部と、
前記ステージが移動する空間に気体の流れを発生させる発生部と、
前記基板上に形成された複数のサンプルショット領域の各々の位置を検出する検出部と、
前記検出部による検出を行うサンプルショット領域の順番を、前記複数のサンプルショット領域のうち前記基板の中心より前記気体の流れの下流側に配置されたサンプルショット領域については前記計測部に近い方から先に前記検出部による検出が行われるように決定する制御部と、
を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記制御部は、前記基板上における各サンプルショット領域の配置を示す情報を取得し、当該情報を用いて前記順番を決定する、ことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記基板上における各サンプルショット領域の座標を示す情報を取得し、当該情報を用いて前記順番を決定する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記発生部は、前記計測部から射出される光の方向と交差する方向に沿った前記気体の流れを前記空間に発生させるように前記気体を噴射する噴射部を含む、ことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記基板の中心より前記気体の流れの下流側に配置されたサンプルショット領域について前記計測部に近い方から先に前記検出部による検出を行う条件と、各サンプルショット領域の位置を前記検出部に検出させるために要する時間を許容時間より短くする条件とを満たすように前記順番を決定する、ことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記基板の中心より前記気体の流れの下流側に配置されたサンプルショット領域について前記計測部に近い方から先に前記検出部による検出を行う条件と、各サンプルショット領域の位置を前記検出部に検出させるために前記ステージを移動させる距離を許容値より短くする条件とを満たすように前記順番を決定する、ことを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板は、前記パターンがそれぞれ形成される複数のショット領域を有し、
前記制御部は、前記基板の中心より前記気体の流れの下流側に配置されたサンプルショット領域について前記計測部に近い方から先に前記検出部による検出を行う条件を満たした上で、前記検出部による検出を終了してから各ショット領域への前記パターンの形成を開始するまでの間における前記ステージの移動量が最も短くなるように前記順番を決定する、ことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記基板を前記ステージ上に搬送する搬送部を更に含み、
前記制御部は、前記基板の中心より前記気体の流れの下流側に配置されたサンプルショット領域について前記計測部に近い方から先に前記検出部による検出を行う条件を満たした上で、前記搬送部によって前記基板が前記ステージ上に搬送されてから前記検出部による検出を開始するまでの間における前記ステージの移動量が最も短くなるように前記順番を決定する、ことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持して移動可能なステージと、
前記ステージの側面に光を照射し、反射された光に基づいて前記ステージの位置を計測する計測部と、
前記ステージが移動する空間に気体の流れを発生させる発生部と、
前記基板上に形成された複数のサンプルショット領域の各々の位置を検出する検出部と、
複数のモードの中から選択されたモードに応じて、前記検出部による検出を行うサンプルショット領域の順番を決定する制御部と、
を含み、
前記複数のモードは、前記複数のサンプルショット領域のうち前記基板の中心より前記気体の流れの下流側に配置されたサンプルショット領域については前記計測部に近い方から先に前記検出部による検出が行われるように前記順番を決定する第1モードと、各サンプルショット領域の位置を前記検出部に検出させるために要する時間が許容時間より短くなるように前記順番を決定する第2モードとを含む、ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。 - 基板を保持して移動可能なステージと、前記ステージの側面に光を照射し、反射された光に基づいて前記ステージの位置を計測する計測部と、前記ステージが移動する空間に気体の流れを発生させる発生部と、前記基板上に形成された複数のサンプルショット領域の各々の位置を検出する検出部とを有し、基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置において、前記検出部による検出を行うサンプルショット領域の順番を決定する決定方法であって、
前記複数のサンプルショット領域のうち前記基板の中心より前記気体の流れの下流側に配置されたサンプルショット領域については前記計測部に近い方から先に位置の検出が行われるように前記順番を決定する、ことを特徴とする決定方法。
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