JP2015211065A - はんだ付け装置および電子装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】はんだ付けされる部分を有する被処理物11を搭載する搭載面7Aを含む冷却部7を備え、搭載面7Aには冷却用ガスを噴出させるガス噴出口10が形成されており、さらに、冷却部7の内部を通ってガス噴出口10から被処理物11に向けて冷却用ガスを供給するガス供給部9を備える。
【選択図】図1
Description
図1および図2を参照して、実施の形態1に係るはんだ付け装置1について説明する。はじめに、はんだ付け装置1にて処理される被処理物11は、たとえば基板12の表面12A上にはんだ(図4を参照して、はんだ21)を介して電子部品13が配置されたものである。被処理物11において、電子部品13は、たとえば表面12Aと反対側に位置する裏面12B上には配置されていない。この場合には、被処理物11において、はんだ付けされる部分は表面12A上に存在する。
次に、図3および図4を参照して、実施の形態2に係るはんだ付け装置1について説明する。実施の形態2に係るはんだ付け装置1は、基本的には実施の形態1に係るはんだ付け装置1と同様の構成を備えるが、冷却部7の搭載面7Aと接触可能に設けられている第1面17Bと、第1面17Bと反対側に位置し、被処理物11を搭載可能に設けられている第2面17Aとを有する支持部17を用いる点で異なる。
次に、図5を参照して、実施の形態3に係るはんだ付け装置1について説明する。実施の形態3に係るはんだ付け装置1は、基本的には実施の形態1に係るはんだ付け装置1と同様の効果を奏することができるが、冷却部7が被処理物11に対して相対的に異なる3つの位置の間を移動可能に設けられている点で異なる。
Claims (8)
- はんだ付けされる部分を有する被処理物を搭載可能な搭載面を含む冷却部を備え、
前記搭載面には冷却用ガスを噴出させるガス噴出口が形成されており、さらに、
前記冷却部の内部を通って前記ガス噴出口から前記被処理物に向けて冷却用ガスを供給するガス供給部を備える、はんだ付け装置。 - 前記冷却部の前記搭載面上には、前記ガス噴出口と連なる溝部が形成されており、
前記冷却部の前記搭載面において、前記溝部が形成されていない領域が前記被処理物と接触可能に設けられている、請求項1に記載のはんだ付け装置。 - 前記冷却部は前記搭載面と前記被処理物とが対向する方向において前記被処理物に対して相対的に移動可能に設けられており、
前記冷却部は、
前記冷却部の前記搭載面と前記被処理物とが接触している第1の位置と、
前記冷却部の前記搭載面と前記被処理物とが接触せずに前記ガス噴出口から前記冷却用ガスを前記被処理物へ供給する第2の位置と、
前記被処理物から見て、前記第2の位置よりも遠い第3の位置とに移動可能に設けられている、請求項1に記載のはんだ付け装置。 - 前記冷却部の前記搭載面と対向する第1面と、前記第1面と反対側に位置し、前記被処理物を接触可能に設けられている第2面とを有する支持部をさらに備え、
前記支持部には前記第1面から前記第2面に達する貫通孔と、前記第2面において前記貫通孔と連なる第2溝部が形成されており、
前記貫通孔が前記ガス噴出口と重なるように、前記支持部は前記搭載面上に配置される、請求項1に記載のはんだ付け装置。 - 前記はんだ付けされる部分が一方の主面上に形成されている前記被処理物に対して、
前記搭載面は、前記被処理物において前記一方の主面の反対側に位置する他方の主面と対向するように設けられている、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のはんだ付け装置。 - 電子部品と基板との間にはんだが供給されることにより、前記電子部品と前記基板とが前記はんだを介して積層している被処理物を準備する工程と、
前記被処理物を加熱して前記はんだを溶融する工程と、
前記被処理物を冷却して前記はんだを凝固する工程とを備え、
前記凝固する工程では、前記被処理物に対して冷却部を接触させて伝熱によって前記被処理物を冷却する工程と、前記被処理物に対して冷却用ガスを噴出させて空冷によって前記被処理物を冷却する工程とを含む、電子装置の製造方法。 - 前記伝熱によって前記被処理物を冷却する工程と、前記空冷によって前記被処理物を冷却する工程とは、同時に行われる、請求項6に記載の電子装置の製造方法。
- 前記伝熱によって前記被処理物を冷却する工程は、前記空冷によって前記被処理物を冷却する工程の後に行われる、請求項6に記載の電子装置の製造方法。
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