JP2015201518A - 複合酸化膜の製造方法、圧電素子の製造方法、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置 - Google Patents
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図1は、第1の実施の形態に係る複合酸化膜を例示する断面図である。図1を参照するに、第1の実施の形態に係る複合酸化膜16は、積層基板1上に形成されている。なお、積層基板1は、シリコン基板10上に、シリコン酸化膜(SiO2膜)11、酸化チタン膜(TiOx膜)12、及び白金膜(Pt膜)13が順次積層された基板である。
実施例として、図2の工程フローに基づいて積層基板1上に複合酸化膜16としてPZT(53/47)結晶膜を作製した。そして、厚み方向について、エネルギー分散型X線分光法であるTEM−EDX(Transmission Electron Microscopy-Energy Dispersive X-ray Spectroscopy)による分析を行った。その結果を図3に示す。なお、TEM−EDXに代えて、STEM−EDX(Scanning Transmission Electron Microscopy-Energy Dispersive X-ray Spectroscopy)により分析を行うこともできる。これらは、何れも測定精度の高い分析方法である。
第2の実施の形態では、第1の実施の形態に係る積層体を用いた圧電素子の例について説明する。なお、第2の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する。
第3の実施の形態では、第2の実施の形態に係る圧電素子を用いた液滴吐出ヘッドの例を示す。なお、第3の実施の形態において、既に説明した実施の形態と同一構成部についての説明は省略する。
第4の実施の形態では、液滴吐出ヘッド4(図7参照)を備えた液滴吐出装置の一例としてインクジェット記録装置を例示する。図8は、インクジェット記録装置を例示する斜視図である。図9は、インクジェット記録装置の機構部を例示する側面図である。
2 圧電素子
3、4 液滴吐出ヘッド
5 インクジェット記録装置
10 シリコン基板
10x 圧力室
11 シリコン酸化膜
12 酸化チタン膜
13、17 白金膜
16 複合酸化膜
40 ノズル板
41 ノズル
81 記録装置本体
82 印字機構部
83 用紙
84 給紙カセット(或いは給紙トレイ)
85 手差しトレイ
86 排紙トレイ
91 主ガイドロッド
92 従ガイドロッド
93 キャリッジ
94 インクジェット記録ヘッド
95 インクカートリッジ
97 主走査モータ
98 駆動プーリ
99 従動プーリ
100 タイミングベルト
101 給紙ローラ
102 フリクションパッド
103 ガイド部材
104 搬送ローラ
105 搬送コロ
106 先端コロ
107 副走査モータ
109 印写受け部材
111 搬送コロ
112 拍車
113 排紙ローラ
114 拍車
115、116 ガイド部材
117 回復装置
Claims (9)
- 鉛(Pb)とジルコニウム(Zr)とチタン(Ti)とを含む複合酸化膜の製造方法であって、
基板上に鉛(Pb)とジルコニウム(Zr)とチタン(Ti)とを含む第1の前駆体液の塗布膜を形成後、加熱して第1のアモルファス膜とする工程と、
前記第1のアモルファス膜上に、鉛(Pb)とジルコニウム(Zr)とチタン(Ti)とを含む第2の前駆体液の塗布膜を形成後、加熱して第2のアモルファス膜とする工程と、
前記第1のアモルファス膜及び前記第2のアモルファス膜に光を照射して加熱することにより焼成処理を行い、前記第1のアモルファス膜及び前記第2のアモルファス膜を結晶化して複合酸化膜を形成する工程と、を有し、
前記第1の前駆体液に含有される鉛(Pb)の比率と、前記第2の前駆体液に含有される鉛(Pb)の比率とは同じであり、
前記第1の前駆体液に含有されるジルコニウム(Zr)とチタン(Ti)との比率は、前記第2の前駆体液に含有されるジルコニウム(Zr)とチタン(Ti)との比率と異なることを特徴とする複合酸化膜の製造方法。 - 前記第1の前駆体液におけるチタン(Ti)の比率は、前記第2の前駆体液におけるチタン(Ti)の比率よりも小さいことを特徴とする請求項1記載の複合酸化膜の製造方法。
- 前記第1の前駆体液におけるチタン(Ti)の比率は、結晶化された前記複合酸化膜におけるチタン(Ti)の比率よりも小さく、
前記第2の前駆体液におけるチタン(Ti)の比率は、結晶化された前記複合酸化膜におけるチタン(Ti)の比率よりも大きいことを特徴とする請求項2記載の複合酸化膜の製造方法。 - 前記複合酸化膜を形成する工程では、前記第1のアモルファス膜及び前記第2のアモルファス膜に光を照射して、前記第1のアモルファス膜及び前記第2のアモルファス膜を局部的に加熱することを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項記載の複合酸化膜の製造方法。
- 前記光はレーザ光であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項記載の複合酸化膜の製造方法。
- 前記第1のアモルファス膜が結晶化した領域に含まれる鉛(Pb)の量と、前記第2のアモルファス膜が結晶化した領域に含まれる鉛(Pb)の量は、TEM−EDX、又は、STEM−EDXにより測定され、
夫々の鉛(Pb)の量は、狙い値に対して±10%以内であることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項記載の複合酸化膜の製造方法。 - 複合酸化膜を圧電膜として用いた圧電素子の製造方法であって、
請求項1乃至6の何れか一項記載の複合酸化膜の製造方法により圧電膜である前記複合酸化膜を製造する工程を含むことを特徴とする圧電素子の製造方法。 - 請求項7記載の圧電素子の製造方法を用いて製造された圧電素子を備えたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
- 請求項8記載の液滴吐出ヘッドを備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
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---|---|---|---|---|
JP2004152922A (ja) * | 2002-10-30 | 2004-05-27 | Fujitsu Ltd | 強誘電体膜の製膜方法 |
JP2009054618A (ja) * | 2007-08-23 | 2009-03-12 | Seiko Epson Corp | 圧電素子の製造方法、誘電体層の製造方法、およびアクチュエータの製造方法 |
JP2009242927A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | スパッタリング方法および装置 |
JP2013012655A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Ricoh Co Ltd | 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004152922A (ja) * | 2002-10-30 | 2004-05-27 | Fujitsu Ltd | 強誘電体膜の製膜方法 |
JP2009054618A (ja) * | 2007-08-23 | 2009-03-12 | Seiko Epson Corp | 圧電素子の製造方法、誘電体層の製造方法、およびアクチュエータの製造方法 |
JP2009242927A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | スパッタリング方法および装置 |
JP2013012655A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Ricoh Co Ltd | 電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
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