JP2015197606A - 超解像観察装置及び超解像観察方法 - Google Patents

超解像観察装置及び超解像観察方法 Download PDF

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Abstract

【課題】無染色試料を超解像観察する。
【解決手段】本発明を例示する超解像観察装置の一態様は、光周波数ωの第1照明光と光周波数ωの第2照明光とを観察対象面の領域に集光する照明光学系と、前記領域に向かう前記第1照明光の特性を変調周波数fで変調する変調部と、前記第1照明光及び前記第2照明光に応じて前記領域で発生する光から、前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ω又はωの成分を抽出する抽出部とを備える。
【選択図】 図1

Description

本発明は、超解像観察装置及び超解像観察方法に関する。
近年、バイオサイエンス、特に分子生物学の分野や病理診断の分野では、試料を蛍光プローブなどで染色せず「そのままの状態で」顕微することのできる無染色顕微鏡の必要性が高まりつつある。この無染色顕微鏡が満たすべき要求は、主に以下の(1)、(2)である。
(1)高い光学分解能(例えば、平面分解能<50nm、奥行分解能<100nm)。
(2)試料内部における観察対象の識別能力。
これらの要求を満たす可能性のある新しい無染色顕微鏡として、誘導放出顕微鏡が提案された(特許文献1等を参照。)。
国際公開第2011/099269号パンフレット
誘導放出顕微鏡は、観察対象物に固有のエネルギー準位を利用するため、上記の要求(2)を十分に満たしうるものの、上記の要求(1)を満たすためには依然として改善の余地があり、ここに現状の課題が存する。
そこで本発明は、上記の課題を解決すべく、試料を染色せずに超解像観察することの可能な超解像観察装置及び超解像観察方法を提供する。
本発明を例示する超解像観察装置の一態様は、光周波数ωの第1照明光と光周波数ωの第2照明光とを観察対象面の領域に集光する照明光学系と、前記領域に向かう前記第1照明光の特性を変調周波数fで変調する変調部と、前記第1照明光及び前記第2照明光に応じて前記領域で発生する光から、前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ω又はωの成分を抽出する抽出部とを備える。
本発明を例示する超解像観察装置の一態様は、光周波数ωの照明光を観察対象面の領域に集光する照明光学系と、前記領域に向かう前記照明光の特性を変調周波数fで変調する変調部と、前記照明光に応じて前記領域で発生する光から、前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ωの成分を抽出する抽出部とを備える。
本発明を例示する超解像観察方法の一態様は、光周波数ωの第1照明光と光周波数ωの第2照明光とを観察対象面の領域に集光し、前記領域に向かう前記第1照明光の特性を変調周波数fで変調し、前記第1照明光及び前記第2照明光に応じて前記領域で発生する光から、前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ω又はωの成分を抽出する。
本発明を例示する超解像観察方法の一態様は、光周波数ωの照明光を観察対象面の領域に集光し、前記領域に向かう前記照明光の特性を変調周波数fで変調し、前記照明光に応じて前記領域で発生する光から、前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ωの成分を抽出する。
本発明によれば、試料を染色せずに超解像観察することの可能な超解像観察装置及び超解像観察方法が実現する。
本実施形態の超解像顕微鏡の構成図である。 観察対象面Pへ入射する励起光及び誘導光の時間変化波形である(励起光の変調を可視化してないもの)。 観察対象面Pへ入射する励起光及び誘導光の時間変化波形(励起光の変調を可視化したもの)である。 光スポットSの各領域へ入射する各光と各領域から射出する各光とを比較する図である。 第2実施形態において光スポットSの各領域へ入射する各光と各領域から射出する各光とを比較する図である。 第3実施形態の超解像顕微鏡の構成図である。 第3実施形態において光スポットSの各領域へ入射する各光と各領域から射出する各光とを比較する図である。 第4実施形態の超解像顕微鏡の構成図である。 第4実施形態において光スポットSの各領域へ入射する光と各領域から射出する各光とを比較する図である。 第5実施形態の超解像顕微鏡の構成図である。 第5実施形態において光スポットSの各領域へ入射する光と各領域から射出する各光とを比較する図である。
[第1実施形態]
以下、本発明の第1実施形態として誘導放出過程を利用した超解像顕微鏡を説明する。
図1は、本実施形態の超解像顕微鏡の構成図である。図1に示すとおり超解像顕微鏡には、パルスレーザ光源11と、レンズ12と、ビームスプリッタ131と、ミラーM1と、光パラメトリック発振器(OPO:optical parametric oscillator)141、143と、音響光学変調器(AOM:Acousto-optic modulator)15と、ミラーM2と、ダイクロイックミラー134と、対物レンズ19と、試料20と、試料ステージ28と、対物レンズ21と、波長選択フィルタ22と、集光レンズ23と、フォトダイオードなどの光検出器24と、ロックインアンプ25と、信号発生器26と、パーソナルコンピュータ27とが配置される。
パルスレーザ光源11は、フェムト秒パルスレーザ光源、ピコ秒パルスレーザ光源などのパルスレーザ光源である。パルスレーザ光源11によるパルス発振の繰り返し周波数fは、例えば80MHzであり、パルスレーザ光源11が発振するパルスレーザ光のパルス幅ΔTは、例えば数百fs(フェムト秒)である。
パルスレーザ光源11から射出したパルスレーザ光は、レンズ12により径の太い平行光束となり、ビームスプリッタ131へ入射する。ビームスプリッタ131へ入射したパルスレーザ光は、ビームスプリッタ131を透過するパルスレーザ光と、ビームスプリッタ131を反射するパルスレーザ光とに分割され、ビームスプリッタ131を透過したパルスレーザ光は光パラメトリック発振器141へ入射する。
ビームスプリッタ131を反射したパルスレーザ光は、ミラーM1を反射し、光パラメトリック発振器143へ入射する。
光パラメトリック発振器141は、入射したパルスレーザ光の光周波数をωに変換し、光パラメトリック発振器143は、入射したパルスレーザ光の光周波数をωに変換する。ここでは、光周波数ω、ωの大小関係をω>ωとする。
音響光学変調器15は、光パラメトリック発振器141の射出光路、つまり光周波数ωのパルスレーザ光の単独光路に配置され、そのパルスレーザ光の強度を時間方向にかけて単一周波数fの正弦波で変調する。なお、音響光学変調器15によるパルスレーザ光の変調波形(変調周波数f)は、信号発生器26から与えられる制御信号によって制御される。
光パラメトリック発振器141から射出した光周波数ωのパルスレーザ光は、音響光学変調器15を介してミラーM2を反射し、ダイクロイックミラー134を反射する。
光パラメトリック発振器143から射出した光周波数ωのパルスレーザ光は、ダイクロイックミラー134を透過し、光周波数ωのパルスレーザ光と光路を統合させる。
互いの光路を統合させた光周波数ω、ωのパルスレーザ光は、対物レンズ19により、試料20の観察対象面Pの微小領域に向かって集光され、光スポットを形成する。
なお、観察対象面Pに光周波数ωのパルスレーザ光が形成する光スポットと、観察対象面Pに光周波数ωのパルスレーザ光が形成する光スポットとの間では、形状、位置、及びサイズがほぼ共通である。以下、観察対象面Pに光周波数ωのパルスレーザ光が形成する光スポットと、観察対象面Pに光周波数ωのパルスレーザ光が形成する光スポットとを区別せず単に「光スポットS」と称す。
ここで、光周波数ωのパルスレーザ光の光路長と、光周波数ωのパルスレーザ光の光路長との関係は、観察対象面Pに照射される順序が以下の順序となるように予め調整されている。
(1)光周波数ωのパルスレーザ光
(2)光周波数ωのパルスレーザ光
このうち、先に照射される光周波数ωのパルスレーザ光には、光スポットSに存在する特定の観察対象物質の電子のエネルギー準位を励起準位へと移行(光吸収)させる働きがあり、次に照射される光周波数ωのパルスレーザ光には、励起中の電子を基底準位へ移行(誘導放出)させて光周波数ωの誘導放出光を発生させる働きがある。
そこで以下では、先に照射される光周波数ωのパルスレーザ光を「励起光」と称し、次に照射される光周波数ωのパルスレーザ光を「誘導光」と称す。
なお、本実施形態の超解像顕微鏡において、励起光及び誘導光の各々のパルス形状(パルス光強度、パルス幅)と光周波数ω、ωとの組み合わせは、光スポットSに存在する観察対象物質にて上述した誘導放出過程(上述した励起及び誘導放出)が生起するように予め調整されている。光周波数ω、ωの各々は、波長換算でおよそ紫外域〜近赤外域の波長範囲内に設定されることが望ましく、パルス幅は、ピコ秒〜フェムト秒の時間幅に設定されることが望ましい。
また、本実施形態の超解像顕微鏡において、励起光及び誘導光の各々のパルス光強度は、光スポットSの中央領域Aにおける光吸収量が飽和し、かつ、光スポットSの周辺領域Aにおける光吸収量が飽和しないよう適度な値に予め調整されている。なお、光吸収量が飽和しているか否かを判別するためには、後述する高周波数成分が検出されるか否かを判別すればよい。
なお、励起光及び誘導光の各々のパルス形状(パルス光強度、パルス幅)は、パルスレーザ光源11が発振するパルスの形状と、ビームスプリッタ131の透過反射率とによって調整することが可能である。或いは、励起光及び誘導光の少なくとも一方の光路にNDフィルタ(不図示)を配置し、そのNDフィルタの透過率を調整してもよい。
図2(a)に示すのは観察対象面Pに入射する励起光の時間変化波形であり、図2(b)に示すのは観察対象面Pに入射する誘導光の時間変化波形である。
図2(a)、(b)に示すとおり励起光と誘導光の間でパルスの繰り返し周期Trは共通であるが、励起光と誘導光の間でパルスが観察対象面Pに到達するタイミングは若干ずれている。図2(c)は、励起光及び誘導光の3パルス分の波形を同一座標上に拡大表示したものである。図2(c)において実線で示すのが励起光のパルスであり、点線で示すのが誘導光のパルスである。図2(c)に示すとおり励起光のパルスが観察対象面Pに到達するタイミングと、誘導光のパルスが観察対象面Pに到達するタイミングとの間のズレΔは、励起光及び誘導光の各々のパルス幅ΔTより若干大きい程度、例えば数百fs(フェムト秒)である。
なお、励起光及び誘導光が観察対象面Pに到達するタイミングのズレΔを調整するために、本実施形態の超解像顕微鏡では、励起光の単独光路と誘導光の単独光路とのうち少なくとも一方の光路には、可動ミラーなどで構成された光路長調整機構(不図示)が設けられていることが望ましい。
また、図2(a)、(b)では、音響光学変調器15による励起光の変調を可視化しなかったが、可視化すると図3(a)、(b)のとおりである。図3に示すとおり、音響光学変調器15による励起光の変調周波数fは、パルスの繰り返し周波数fと比較して十分に低く、少なくともf≦f/2の関係を満たし、例えばfは数MHz程度である。なお、図3において符号Tで示すのは励起光の変調周期(=変調周波数fの逆数)である。
さて、図1に戻り、試料20は、例えば、培養液と共に培養容器に収容された透明な生体細胞であり、この生体細胞中の特定物質(例えば、ヘモグロビンなどの特定タンパク質)が観察対象物質である。上述した誘導放出過程では、観察対象物質に固有のエネルギー準位の変位(光吸収)を利用するため、観察対象物質が予め蛍光染色されている必要は無い。
試料ステージ28は、試料20を支持し、光軸方向(Z方向)にかけて試料20を移動させると共に、光軸と垂直な方向(XY方向)にかけて試料20を移動させる透過型のステージである。試料ステージ28がZ方向にかけて試料20を移動させると、試料20の内部における観察対象面Pの深さが調整され、試料ステージ28がXY方向にかけて試料20を移動させると、光スポットSで観察対象面Pを二次元スキャンすることができる。
観察対象面Pの光スポットSから射出した光、すなわち、光スポットSから射出した励起光(余剰励起光)、光スポットから射出した誘導光(余剰誘導光)、光スポットで発生した誘導放出光は、対物レンズ21の先端側から対物レンズ21に入射する。
対物レンズ21の仕様(開口数、倍率など)は、対物レンズ19の仕様と同じであり、対物レンズ21と対物レンズ19との間の位置関係及び姿勢関係は、観察対象面Pに関して対称である。なお、ここでは対物レンズ21の仕様と対物レンズ19の仕様とを共通としたが、完全に共通でなくても構わない。例えば、対物レンズ21の開口数は対物レンズ19の開口数より大きくても良い。
対物レンズ21に先端側から入射した光、すなわち、観察対象面Pの光スポットSから射出した励起光(余剰励起光)、観察対象面Pの光スポットSから射出した誘導光(余剰誘導光)、観察対象面Pの光スポットSから射出した誘導放出光は、対物レンズ21の瞳側から射出し、波長選択フィルタ22、集光レンズ23を順に介して光検出器24へ向かう。
ここで、波長選択フィルタ22には、光周波数ωの光と光周波数ωの光との一方をカットし、かつ、他方を通過させる波長選択性が付与されている。以下、波長選択フィルタ22は、光周波数ωの光を通過させ、かつ光周波数ωの光をカットすると仮定する。
よって、光スポットSから射出した余剰励起光(光周波数ω)は光検出器24へ入射し、光スポットSから射出した余剰誘導光及び誘導放出光(光周波数ω)は光検出器24へ入射しない。
光検出器24は、入射光の強度を電気信号に変換するフォトダイオードなどの光電変換素子である。
ロックインアンプ25は、光検出器24の出力する電気信号から、励起光の変調周波数fの2倍周波数(2f)で変化する成分を信号としてロックイン検出する。なお、ロックインアンプ25の検出周波数及び検出タイミングは、信号発生器26から与えられる制御信号によって制御される。
パーソナルコンピュータ27は、ロックインアンプ25の検出した信号を取り込む。また、パーソナルコンピュータ27は、前述したスキャン中、光スポットSが観察対象面Pの各位置にあるとき(具体的には、光スポットSの中央領域Aが観察対象面Pの各位置にあるとき)に信号の取り込みを行い、観察対象面Pにおける信号の分布を超解像画像として作成すると、不図示のモニタへ表示する。
以下、図4を参照して超解像顕微鏡の超解像効果を説明する。
図4(a)に示すのは、光スポットSの周辺領域Aへ照射される光の時間変化波形であって、図4(a)符号ωは、励起光(照射励起光)の波形であり、図4(a)符号ωは、誘導光(照射誘導光)の波形である(なお、図4では、細かなパルスの図示を省略し、パルスの包絡線のみを示した。)。
図4(a’)に示すのは、光スポットSの周辺領域Aから射出する光の時間変化波形であって、図4(a’)符号ωは、光吸収に寄与しなかった余剰励起光の波形であり、図4(a’)符号ωは、誘導光及び誘導放出光(以下、まとめて「余剰誘導・放出光」と称す。)の合成波形である。
図4(b)に示すのは、光スポットSの中央領域Aへ照射される光の時間変化波形であって、図4(b)符号ωは、励起光(照射励起光)の波形であり、図4(b)符号ωは、誘導光(照射誘導光)の波形である。
図4(b’)に示すのは、光スポットSの中央領域Aから射出する光の時間変化波形であって、図4(b’)符号ωは、光吸収に寄与しなかった余剰励起光の波形であり、図4(b’)符号ωは、誘導光及び誘導放出光(以下、まとめて「余剰誘導・放出光」と称す。)の合成波形である。
さて、本実施形態の超解像顕微鏡では、上述したとおり励起光が変調周波数fで変調されるので、周辺領域Aに対する照射励起光の強度(図4(a)符号ω)、中央領域Aに対する照射励起光の強度(図4(b)符号ω)は、共に変調周波数fで時間変化する。
また、本実施形態の超解像顕微鏡では、これらの照射励起光が変調周波数fで時間変化するので、周辺領域Aにおける光吸収量(不図示)、中央領域Aにおける光吸収量(不図示)も、基本的には周波数fで時間変化する。
このため、本実施形態の超解像顕微鏡では、周辺領域Aから射出する余剰励起光の時間変化波形(図4(a’)符号ω)、中央領域Aから射出する余剰励起光の時間変化波形(図4(b’)符号ω)の各々には、周波数fの周波数成分が発生する。
但し、本実施形態の超解像顕微鏡装置では、周辺領域Aにおける光吸収量(不図示)は飽和しないのに対して、中央領域Aにおける光吸収量(不図示)は飽和する。
したがって、周辺領域Aから射出する余剰励起光の時間変化波形(図4(a’)符号ω)には周波数fを超える高い周波数成分が発生しないのに対して、中央領域Aから射出する余剰励起光の時間変化波形(図4(b’)符号ω)には周波数fを超える高い周波数成分(例えば周波数2fの成分)が発生する(図4(b’)の点線矢印を参照。)。
そこで、本実施形態のロックインアンプ25は、光検出器24の出力する電気信号(=光周波数ωの光強度信号)から、周波数2fで変化する信号のみをロックイン検出する。
この信号(=周波数2fで変化する光周波数ωの光強度信号)には、周辺領域Aにおける光吸収量は反映されないのに対して、中央領域Aにおける光吸収量は反映される。
したがって、本実施形態のロックインアンプ25は、光スポットSで発生した光から、中央領域Aから射出した余剰励起光(図4(b’)符号ω)の高周波数成分(周波数2fで変化する成分)のみを抽出することができる。
したがって、本実施形態の超解像顕微鏡は、光スポットSより小さい中央領域Aのみに信号の取得元を制限すること、つまり、試料20における観察対象物質の密度分布を超解像観察することができる。
[第1実施形態の変形例]
なお、本実施形態では、ロックインアンプ25によるロックイン検出の検出周波数を励起光の変調周波数fの2倍(2f)に設定したが、変調周波数fより大きい別の値としてもよい。例えば、検出周波数をN×f(但し、Nは2以上の整数)としてもよい。このように検出周波数を高めれば、超解像効果を更に高めることができる。なぜなら、光スポットSのうち、高い周波数成分の発生元となり得る領域は、光強度の特に高い領域のみ、つまり極端に狭い領域のみに制限されるからである。よって、検出周波数が高いほど超解像効果も高まる。
また、本実施形態では、検出器24に入射させるべき光の光周波数を、励起光の光周波数ωと同じにしたが、誘導光の光周波数ωと同じにしてもよい。その場合、波長選択フィルタ22には、光周波数ωの光をカットし、光周波数ωの光を通過させる波長選択性が付与される。
この場合、ロックインアンプ25は、余剰励起光(図4(b’)符号ω)の高周波数成分の代わりに、余剰誘導・放出光(図4(b’)符号ω)の高周波数成分を抽出することができる。この場合も超解像観察が可能である。その理由は、以下のとおりである。
すなわち、周辺領域Aから射出する余剰誘導・放出光の時間変化波形(図4(a’)符号ω)、中央領域Aから射出する余剰誘導・放出光の時間変化波形(図4(b’)符号ω)の各々には、周波数fの周波数成分が発生する。
但し、周辺領域Aにおける光吸収量(不図示)は飽和しないのに対して、中央領域Aにおける光吸収量(不図示)は飽和する。この場合、周辺領域Aにおける誘導放出量(不図示)は飽和しないのに対して、中央領域Aにおける誘導放出量(不図示)は飽和する。
このため、周辺領域Aから射出する余剰誘導・放出光の時間変化波形(図4(a’)符号ω)には周波数fを超える高い周波数成分が発生しないのに対して、中央領域Aから射出する余剰誘導・放出光の時間変化波形(図4(b’)符号ω)には周波数fを超える高い周波数成分(例えば周波数2fの成分)が発生する(図4(b’)の点線矢印を参照。)。
なお、本実施形態の超解像顕微鏡は、波長選択フィルタ22を2つの波長選択フィルタの間で切り換えることが可能に構成されてもよい。2つの波長選択フィルタの一方には、光周波数ωの光をカットし、光周波数ωの光を通過させる波長選択性が付与され、他方には、光周波数ωの光をカットし、光周波数ωの光を通過させる波長選択性が付与される。
また、本実施形態の超解像顕微鏡では、励起光が試料20に到達するタイミングと、誘導光が試料20に到達するタイミングと間に時間差を設けたが、この時間差をゼロにしてもよい。但し、その場合は、励起光と誘導光との間にエネルギー換算で3600cm−1以上の波長差を付与することが望ましい。
[第2実施形態]
以下、本発明の第2実施形態として励起状態吸収(ESA:Excited-State Absorption)過程を利用した超解像顕微鏡を説明する。ここでは、第1実施形態との相違点のみを説明する。
先ず、本実施形態では、光周波数ωのパルスレーザ光が励起光として使用され、光周波数ωのパルスレーザ光がESA光として使用される。光周波数ω、ω’の各々は、波長換算でおよそ紫外域〜可視域の波長範囲内に設定されることが望ましく、光周波数ωは、波長換算でおよそ可視域〜近赤外域の波長範囲内に設定されることが望ましい。
また、本実施形態では、励起光及びESA光の各々のパルス形状(パルス光強度、パルス幅)と光周波数ω、ωとの組み合わせは、光スポットSに存在する観察対象物質にてESA過程が生起するように設定されている。
ESA過程は、先ず、特定の観察対象物質の電子のエネルギー準位を励起光で励起準位へと移行(光吸収)させ、次に、励起中の電子をESA光で更に高い準位へと移行させるという過程である。
また、本実施形態では、励起光及びESA光のパルス光強度は、光スポットSの中央領域Aにおける光吸収量が飽和し、かつ、光スポットSの周辺領域Aにおける光吸収量が飽和しないよう適度な値に設定されている。
図5に示すのは、本実施形態における各光の時間変化波形である。第1実施形態における時間変化波形(図4)との主な相違点は、図5(a’)、(b’)に示すとおり、光スポットSから射出する光周波数ωの光(=ESA過程に寄与しなかった余剰ESA光)の時間変化波形の位相がπだけずれている点である。なぜなら、ESA過程では励起光の強度が高いほど余剰ESA光の強度が減少するからである。
しかし、本実施形態でも、図5(a’)に示すとおり、周辺領域Aから射出する余剰励起光及び余剰ESA光の各々には周波数fを超える高い周波数成分が発生しないのに対して、図5(b’)に示すとおり、中央領域Aから射出する余剰励起光及び余剰ESA光の各々には周波数fを超える高い周波数成分が発生する。
したがって、本実施形態のロックインアンプ25が検出する信号には、周辺領域Aにおける光吸収量は反映されないのに対して、中央領域Aにおける光吸収量は反映される。
したがって、本実施形態でも、第1実施形態と同様、試料20の超解像観察が可能である。
[第2実施形態の変形例]
なお、本実施形態では、ロックインアンプ25によるロックイン検出の検出周波数を変調周波数fの2倍(2f)に設定したが、変調周波数fより大きい別の値としてもよい。例えば、検出周波数をN×f(但し、Nは2以上の整数)としてもよい。このように検出周波数を高めれば、超解像効果を更に高めることができる。なぜなら、光スポットSのうち、高い周波数成分の発生元となり得る領域は、光強度の特に高い領域のみ、つまり極端に狭い領域のみに制限されるからである。よって、検出周波数が高いほど超解像効果も高まる。
また、本実施形態では、検出器24に入射させるべき光の光周波数を、励起光の光周波数ωと同じにしたが、ESA光の光周波数ωと同じにしてもよい。その場合、波長選択フィルタ22には、光周波数ωの光をカットし、光周波数ωの光を通過させる波長選択性が付与される。
また、本実施形態の超解像顕微鏡は、波長選択フィルタ22を2つの波長選択フィルタの間で切り換えることが可能に構成されてもよい。2つの波長選択フィルタの一方には、光周波数ωの光をカットし、光周波数ωの光を通過させる波長選択性が付与され、他方には、光周波数ωの光をカットし、光周波数ωの光を通過させる波長選択性が付与される。
[第3実施形態]
以下、本発明の第3実施形態として基底準位枯渇(GSD:Ground State Depletion)過程を利用した超解像顕微鏡を説明する。ここでは、第1実施形態との相違点のみを説明する。
図6は、本実施形態の超解像顕微鏡の構成図である。図6に示すとおり、本実施形態の超解像顕微鏡は、第1実施形態の超解像顕微鏡において、パルスレーザ光源11及びレンズ12の代わりにCWレーザ光源11−1、11−2、及びレンズ12−1、12−2を使用し(CW:Continuous Wave)、光パラメトリック発振器141、143、ビームスプリッタ131、ミラーM1を省略したものである。CWレーザ光源11−1は、レンズ12−1を介して光周波数ωのCWレーザ光を出射し、CWレーザ光源11−2は、レンズ12−2を介して光周波数ωのCWレーザ光を出射する。
本実施形態では、このうち光周波数ωのCWレーザ光が第1励起光として使用され、光周波数ωのCWレーザ光が第2励起光として使用される。
また、本実施形態では、第1励起光及び第2励起光の強度と光周波数ω、ωとの組み合わせは、光スポットSに存在する観察対象物質にてGSD過程が生起するように設定されている。但し、本実施形態では、光周波数ω、ωの大小関係は、ω<ωである。 具体的に、光周波数ω、ωの値関係は、GSD過程における基底状態から励起状態への励起が発生するような値関係に設定される。また、光周波数ω、ωの各々は、波長換算でおよそ紫外域〜可視域の波長範囲内に設定されることが望ましい。
GSD過程は、特定の観察対象物質の電子のエネルギー準位を第1励起光で第1励起準位へと移行(光吸収)させ、同種の残りの観察対象物質の電子を第2励起光により第1励起準位へと移行させるという過程である。
また、本実施形態では、第1励起光及び第2励起光の強度は、光スポットSの中央領域Aにおける光吸収量が飽和し、かつ、光スポットSの周辺領域Aにおける光吸収量が飽和しないよう適度な値に設定されている。
図7に示すのは、本実施形態における各光の時間変化波形である。本実施形態でも、図7(a’)に示すとおり、周辺領域Aから射出する余剰第1励起光及び余剰第2励起光の各々には周波数fを超える高周波数成分が発生しないのに対して、図7(b’)に示すとおり、中央領域Aから射出する余剰第1励起光及び余剰第2励起光の各々には周波数fを超える高周波数成分が発生する。
したがって、本実施形態のロックインアンプ25が検出する信号には、周辺領域Aにおける光吸収量は反映されないのに対して、中央領域Aにおける光吸収量は反映される。
したがって、本実施形態でも、第1実施形態と同様、試料20の超解像観察が可能である。
[第3実施形態の変形例]
なお、本実施形態では、ロックインアンプ25によるロックイン検出の検出周波数を変調周波数fの2倍(2f)に設定したが、変調周波数fより大きい別の値としてもよい。例えば、検出周波数をN×f(但し、Nは2以上の整数)としてもよい。このように検出周波数を高めれば、超解像効果を更に高めることができる。なぜなら、光スポットSのうち、高い周波数成分の発生元となり得る領域は、光強度の特に高い領域のみ、つまり極端に狭い領域のみに制限されるからである。よって、検出周波数が高いほど超解像効果も高まる。
また、本実施形態では、検出器24に入射させるべき光の光周波数を、第1励起光の光周波数ωと同じにしたが、第2励起光の光周波数ωと同じにしてもよい。その場合、波長選択フィルタ22には、光周波数ωの光をカットし、光周波数ωの光を通過させる波長選択性が付与される。
また、本実施形態の超解像顕微鏡は、波長選択フィルタ22を2つの波長選択フィルタの間で切り換えることが可能に構成されてもよい。2つの波長選択フィルタの一方には、光周波数ωの光をカットし、光周波数ωの光を通過させる波長選択性が付与され、他方には、光周波数ωの光をカットし、光周波数ωの光を通過させる波長選択性が付与される。
また、本実施形態の超解像顕微鏡では、第1励起光及び第2励起光の各々としてCWレーザ光を使用したが、パルスレーザ光を使用してもよい。パルスレーザ光を使用する場合の装置構成は、第1実施形態にて説明したとおりである(図1を参照。)。
[第4実施形態]
以下、本発明の第4実施形態として1光子吸収過程を利用した超解像顕微鏡を説明する。ここでは、第1実施形態との相違点のみを説明する。
図8は、本実施形態の超解像顕微鏡の構成図である。図8に示すとおり、本実施形態の超解像顕微鏡は、第1実施形態の超解像顕微鏡において、パルスレーザ光源11及びレンズ12の代わりにCWレーザ光源11−1、11−2、及びレンズ12−1、12−2を使用し(CW:Continuous Wave)、光パラメトリック発振器141、143、ビームスプリッタ131、ミラーM1を省略したものである。CWレーザ光源11−1は、レンズ12−1を介して光周波数ωのCWレーザ光を出射し、CWレーザ光源11−2は、レンズ12−2を介して光周波数ωのCWレーザ光を出射する。
但し、本実施形態では、光周波数ωのCWレーザ光のみが励起光として使用されるので、観察対象面Pに向かう光周波数ωのCWレーザ光は、オフされる。この光周波数ωのCWレーザ光をオフするには、CWレーザ光源11−2をオフすればよい。
また、本実施形態では、励起光の強度及び光周波数ωの組み合わせは、光スポットSに存在する観察対象物質にて1光子吸収過程が生起するように設定されている。光周波数ωは、波長換算でおよそ紫外域〜可視域の波長範囲内に設定されることが望ましい。
1光子吸収過程は、特定の観察対象物質の電子のエネルギー準位を励起光で励起準位へと移行(1光子吸収)させるという過程である。このとき、試料20が蛍光物質を含んだ試料(蛍光試料)であるならば、試料20から光周波数ωの自然放出光(蛍光)が発生する。
また、本実施形態の波長選択フィルタ22には、光周波数ωの光を通過させ、光周波数ωの光をカットする波長選択性が付与されている。このため、本実施形態では、光周波数ωの蛍光は光検出器24に入射しないのに対して、光周波数ωの励起光は光検出器24に入射する。
また、本実施形態における励起光の強度は、光スポットSの中央領域Aにおける光吸収量が飽和し、かつ、光スポットSの周辺領域Aにおける光吸収量が飽和しないよう適度な値に設定されている。
図9に示すのは、本実施形態における各光の時間変化波形である。本実施形態でも、図9(a’)に示すとおり、周辺領域Aから射出する余剰励起光及び蛍光には周波数fを超える高い周波数成分が発生しないのに対して、図9(b’)に示すとおり、中央領域Aから射出する余剰励起光及び蛍光には周波数fを超える高い周波数成分が発生する。
したがって、本実施形態のロックインアンプ25が検出する信号には、周辺領域Aにおける光吸収量は反映されないのに対して、中央領域Aにおける光吸収量は反映される。
したがって、本実施形態でも、第1実施形態と同様、試料20の超解像観察が可能である。
[第4実施形態の変形例]
なお、本実施形態では、ロックインアンプ25によるロックイン検出の検出周波数を変調周波数fの2倍(2f)に設定したが、変調周波数fより大きい別の値としてもよい。例えば、検出周波数をN×f(但し、Nは2以上の整数)としてもよい。このように検出周波数を高めれば、超解像効果を更に高めることができる。なぜなら、光スポットSのうち、高い周波数成分の発生元となり得る領域は、光強度の特に高い領域のみ、つまり極端に狭い領域のみに制限されるからである。よって、検出周波数が高いほど超解像効果も高まる。
また、本実施形態の超解像顕微鏡では、光周波数ωの光を試料20に照射しないので、光周波数ωの光を試料20に導くための要素(CWレーザ光源11−2、レンズ12−2、ミラーM2、ダイクロイックミラー134など)を省略してもよい。
また、本実施形態の超解像顕微鏡では、試料20を蛍光試料と仮定したが、仮に、試料20が蛍光物質を含まない試料(非蛍光試料)であったとしても、余剰励起光を検出することにより、試料20を超解像観察することが可能である。
[第5実施形態]
以下、本発明の第5実施形態として2光子吸収過程を利用した超解像顕微鏡を説明する。ここでは、第1実施形態との相違点のみを説明する。
図10は、本実施形態の超解像顕微鏡の構成図である。図10に示すとおり、本実施形態の超解像顕微鏡は、第1実施形態の超解像顕微鏡において、観察対象面Pに向かう光周波数ωのパルスレーザ光をオフしたものである。本実施形態では、周波数ωのパルスレーザ光のみが励起光として使用される。なお、観察対象面Pに向かう光周波数ωのCWレーザ光をオフするには、例えば図10の左上に示すとおりビームスプリッタ131を光路から外せばよい。
また、本実施形態では、励起光の強度及び光周波数ωの組み合わせは、光スポットSに存在する観察対象物質にて2光子吸収過程が生起するように設定されている。光周波数ωは、波長換算でおよそ可視域〜近赤外域の波長範囲内に設定されることが望ましい。
2光子吸収過程は、特定の観察対象物質の電子のエネルギー準位を励起光で高い励起準位へと移行(2光子吸収)させるという過程である。このとき、試料20が蛍光物質を含んだ試料(蛍光試料)であるならば試料20から光周波数ωの自然放出光(蛍光)が発生する。
また、本実施形態の波長選択フィルタ22には、光周波数ωの光を通過させ、光周波数ωの光をカットする波長選択性が付与されている。このため、本実施形態では、光周波数ωの蛍光は光検出器24に入射しないのに対して、光周波数ωの励起光は光検出器24に入射する。
また、本実施形態における励起光の強度は、光スポットSの中央領域Aにおける光吸収量が飽和し、かつ、光スポットSの周辺領域Aにおける光吸収量が飽和しないよう適度な値に設定されている。
また、本実施形態のロックインアンプ25の検出周波数は、励起光の変調周波数fの2倍ではなく4倍(4f)に設定される。
図11に示すのは、本実施形態における各光の時間変化波形である。本実施形態では、図11(a’)に示すとおり、光スポットSの周辺領域Aから射出する蛍光の時間変化波形I(r)はI(t)=(1+cos2πft)で表される。このため、本実施形態では、図11(a’)に示すとおり、周辺領域Aから射出する余剰励起光及び蛍光の各々には、周波数2fの周波数成分が発生する。
しかし、本実施形態では、図11(a’)に示すとおり、周辺領域Aから射出する余剰励起光及び蛍光には周波数2fを超える高い周波数成分が発生しないのに対して、図11(b’)に示すとおり、中央領域Aから射出する余剰励起光及び蛍光の各々には周波数2fを超える高い周波数成分が発生する。
したがって、本実施形態のロックインアンプ25が検出する信号には、周辺領域Aにおける光吸収量は反映されないのに対して、中央領域Aにおける光吸収量は反映される。
したがって、本実施形態でも、第1実施形態と同様、試料20の超解像観察が可能である。
[第5実施形態の変形例]
なお、本実施形態では、ロックインアンプ25によるロックイン検出の検出周波数を変調周波数fの4倍(4f)に設定したが、変調周波数2fより大きい別の値としてもよい。例えば、検出周波数を2N×f(但し、Nは2以上の整数)としてもよい。このように検出周波数を高めれば、超解像効果を更に高めることができる。なぜなら、光スポットSのうち、高い周波数成分の発生元となり得る領域は、光強度の特に高い領域のみ、つまり極端に狭い領域のみに制限されるからである。よって、検出周波数が高いほど超解像効果も高まる。
また、本実施形態の超解像顕微鏡では、試料20を蛍光試料と仮定したが、仮に、試料20が蛍光物質を含まない試料(非蛍光試料)であったとしても、余剰励起光を検出することにより、試料20を超解像観察することが可能である。
また、本実施形態の超解像顕微鏡では、2光子吸収過程を生起させるために光周波数ωの励起光のみを使用したが、光周波数ωの第1励起光と、光周波数ωの第2励起光との双方を使用してもよい。その場合は、第1励起光の光強度を変調周波数fで変調し、試料20から射出した第1励起光又は第2励起光を検出周波数2N×f(但し、Nは2以上の整数)でロックイン検出すればよい。
なお、本実施形態の超解像顕微鏡において、光周波数ωの光を試料20に照射しない場合は、光周波数ωの光を試料20に導くための要素(ビームスプリッタ131、ミラーM1、光パラメトリック発振器143、ミラーM2、ダイクロイックミラー134など)を省略してもよい。
[実施形態及び変形例の補足]
なお、上述した何れかの実施形態又は変形例では、光軸と垂直な面内における解像力の向上について説明したが、光軸方向における解像力についても同様に向上する。なぜなら、前述した高周波成分の発生元は、光軸と垂直な面内だけでなく光軸方向においても光強度の高い集光点近傍のみに制限されるからである。すなわち、飽和による高周波成分を検出する上述した何れかの実施形態又は変形例では、光軸と垂直な方向と光軸方向との双方に亘って、言い換えればxyzの3次元方向に亘って解像力が向上する。
なお、第1実施形態、第2実施形態、第5実施形態、及びその変形例では、光路の異なる2つのパルスレーザ光を生成するために、1台のレーザ光源と2台の光パラメトリック発振器との組み合わせを使用したが、1台のレーザ光源と1台のパラメトリック発振器との組み合わせを使用してもよい。但し、その場合は、2つのパルスレーザ光の一方としてレーザ光源から射出したレーザ光がそのまま使用される。また、その場合は、2つのパルスレーザ光の一方の繰り返し周波数と他方の繰り返し周波数とを同期させることが望ましい。
なお、第1実施形態、第2実施形態、第5実施形態、及びその変形例では、光周波数ωの光による吸収の飽和(飽和現象)について説明したが、光周波数ωの光による飽和現象を利用しても良い。
また、上述した何れかの実施形態又は何れかの変形例では、観察対象物質の光吸収を伴う光学過程として、誘導放出過程、ESA過程、GSD過程、1光子吸収過程、2光子吸収過程の何れかを生起させたが、観察対象物質の光吸収を伴う他の光学過程を生起させてもよい。
また、上述した何れかの実施形態又は何れかの変形例では、試料20を蛍光試料と仮定したが、試料20は蛍光物質を含まない試料(非蛍光試料)であってもよい。したがって、バイオ観察のみでなく、例えば材料観察などの他種の観察にも本発明は適用可能である。
また、上述した何れかの実施形態又は何れかの変形例では、観察対象物質の光吸収を伴う光学過程として1種類の光学過程しか生起させなかったが、互いに異なる2種類以上の光学過程を生起できるような1つの超解像顕微鏡、すなわち、光学過程の異なる複数のモードの間でモード切り換えが可能な超解像顕微鏡を構成してもよい。なお、モード切り換えが可能な超解像顕微鏡には、例えば以下の機能(1)〜(5)が搭載される。
(1)試料20に照射される光の時間変化波形を調整する機能。
(2)光周波数ω及び光周波数ωの各々を調整する機能。
(3)試料20に照射される光周波数ωの光と、試料20に照射される光周波数ωの光との少なくとも一方をオン/オフする機能。
(4)ロックインアンプ25の検出周波数を調整する機能。
(5)選択波長の異なる複数の波長選択フィルタの間で波長選択フィルタ22を切り換える機能。
また、上述した何れかの実施形態又は変形例では、透過型の顕微鏡を説明したが、反射型の顕微鏡にも本発明は適用可能である。
また、上述した何れかの実施形態又は変形例では、光周波数ωの光の特性の1種である「強度」を変調したが、光周波数ωの光の強度の代わりに、光周波数ωの光の他の特性、例えば、位相、偏光、光周波数の何れかを変調してもよい。
また、上述した何れかの実施形態又は変形例では、光周波数ωの光と光周波数ωの光とのうち一方のみの特性を変調したが、光周波数ωの光と光周波数ωの光との双方の特性を、互いに異なる変調周波数で変調してもよい。
[実施形態の作用効果]
上述した何れかの実施形態の超解像観察装置(超解像顕微鏡)は、光周波数ωの第1照明光と光周波数ωの第2照明光とを観察対象面(P)の領域(光スポットS)に集光する照明光学系(対物レンズ19)と、前記領域(光スポットS)に向かう前記第1照明光の特性を変調周波数fで変調する変調部(音響光学変調器15)と、前記第1照明光及び前記第2照明光に応じて前記領域(光スポットS)で発生する光から、前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ω又はωの成分を抽出する抽出部(ロックインアンプ25、信号発生器26、波長選択フィルタ22)とを備える。
なお、前記変調部の変調対象である前記特性は、前記第1照明光の強度、位相、偏光、光周波数の何れかである。
また、第1実施形態の超解像観察装置(超解像顕微鏡)において、前記第1照明光の強度、前記第2照明光の強度、前記光周波数ω、前記光周波数ωの組み合わせは、前記領域(光スポットS)内の観察対象物質で誘導放出過程が生起し、かつ、前記領域の一部でのみ前記誘導放出過程による前記観察対象物質の光吸収量が飽和するように設定される。
また、第2実施形態の超解像観察装置(超解像顕微鏡)において、前記第1照明光の強度、前記第2照明光の強度、前記光周波数ω、前記光周波数ωの組み合わせは、前記領域(光スポットS)内の観察対象物質で励起状態吸収過程が生起し、かつ、前記領域の一部でのみ前記励起状態吸収過程による前記観察対象物質の光吸収量が飽和するように設定される。
また、第3実施形態の超解像観察装置(超解像顕微鏡)において、前記第1照明光の強度、前記第2照明光の強度、前記光周波数ω、前記光周波数ωの組み合わせは、前記領域(光スポットS)内の観察対象物質で基底準位枯渇過程が生起し、かつ、前記領域の一部でのみ前記基底準位枯渇過程による前記観察対象物質の光吸収量が飽和するように設定される。
また、第1実施形態〜第3実施形態の何れかの超解像観察装置(超解像顕微鏡)において、前記抽出部(ロックインアンプ25、信号発生器26、波長選択フィルタ22)の抽出対象は、例えば周波数N×fで前記特性の変化する成分である(但し、Nは2以上の整数)。
また、第4実施形態の超解像観察装置(超解像顕微鏡)において、前記領域(光スポット)に対する前記第2照明光の照射は省略され、前記第1照明光の強度及び前記光周波数ωの組み合わせは、前記領域(光スポット)内の観察対象物質で1光子吸収過程が生起し、かつ、前記領域の一部でのみ前記1光子吸収過程による前記観察対象物質の光吸収量が飽和するように設定され、前記抽出部(ロックインアンプ25、信号発生器26、波長選択フィルタ22)の抽出対象は、前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ωの成分である。
また、第5実施形態の超解像観察装置(超解像顕微鏡)において、前記領域(光スポット)に対する前記第2照明光の照射は省略され、前記第1照明光の強度及び前記光周波数ωの組み合わせは、前記領域(光スポット)内の観察対象物質で2光子吸収過程が生起し、かつ、前記領域の一部でのみ前記2光子吸収過程による前記観察対象物質の光吸収量が飽和するように設定され、前記抽出部(ロックインアンプ25、信号発生器26、波長選択フィルタ22)の抽出対象は、前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ωの成分である。
[その他]
また、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
11…パルスレーザ光源、12…レンズ、131…ビームスプリッタ、M1…ミラー、141…光パラメトリック発振器、143…光パラメトリック発振器、15…音響光学変調器、M2…ミラー、134…ダイクロイックミラー、19…対物レンズ、20…試料、28…試料ステージ、21…対物レンズ、22…波長選択フィルタ、23…集光レンズ、24…光検出器、25…ロックインアンプ、26…信号発生器、27…パーソナルコンピュータ

Claims (11)

  1. 光周波数ωの第1照明光と光周波数ωの第2照明光とを観察対象面の領域に集光する照明光学系と、
    前記領域に向かう前記第1照明光の特性を変調周波数fで変調する変調部と、
    前記第1照明光及び前記第2照明光に応じて前記領域で発生する光から、前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ω又はωの成分を抽出する抽出部と、
    を備えることを特徴とする超解像観察装置。
  2. 請求項1に記載の超解像観察装置において、
    前記変調部の変調対象である前記特性は、
    前記第1照明光の強度、位相、偏光、光周波数の何れかである
    ことを特徴とする超解像観察装置。
  3. 請求項1又は請求項2に記載の超解像観察装置において、
    前記第1照明光の強度、前記第2照明光の強度、前記光周波数ω、前記光周波数ωの組み合わせは、前記領域内の観察対象物質で誘導放出過程が生起し、かつ、前記領域の一部でのみ前記誘導放出過程による前記観察対象物質の光吸収量が飽和するように設定される
    ことを特徴とする超解像観察装置。
  4. 請求項1又は請求項2に記載の超解像観察装置において、
    前記第1照明光の強度、前記第2照明光の強度、前記光周波数ω、前記光周波数ωの組み合わせは、前記領域内の観察対象物質で励起状態吸収過程が生起し、かつ、前記領域の一部でのみ前記励起状態吸収過程による前記観察対象物質の光吸収量が飽和するように設定される
    ことを特徴とする超解像観察装置。
  5. 請求項1又は請求項2に記載の超解像観察装置において、
    前記第1照明光の強度、前記第2照明光の強度、前記光周波数ω、前記光周波数ωの組み合わせは、前記領域内の観察対象物質で基底準位枯渇過程が生起し、かつ、前記領域の一部でのみ前記基底準位枯渇過程による前記観察対象物質の光吸収量が飽和するように設定される
    ことを特徴とする超解像観察装置。
  6. 請求項3〜請求項5の何れか一項に記載の超解像観察装置において、
    前記抽出部の抽出対象は、
    周波数N×fで前記特性の変化する成分である(但し、Nは2以上の整数)
    ことを特徴とする超解像観察装置。
  7. 請求項1又は請求項2に記載の超解像観察装置において、
    前記領域に対する前記第2照明光の照射は省略され、
    前記第1照明光の強度及び前記光周波数ωの組み合わせは、前記領域内の観察対象物質で1光子吸収過程が生起し、かつ、前記領域の一部でのみ前記1光子吸収過程による前記観察対象物質の光吸収量が飽和するように設定され、
    前記抽出部の抽出対象は、
    前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ωの成分である
    ことを特徴とする超解像観察蔵置。
  8. 請求項1又は請求項2に記載の超解像観察装置において、
    前記領域に対する前記第2照明光の照射は省略され、
    前記第1照明光の強度及び前記光周波数ωの組み合わせは、前記領域内の観察対象物質で2光子吸収過程が生起し、かつ、前記領域の一部でのみ前記2光子吸収過程による前記観察対象物質の光吸収量が飽和するように設定され、
    前記抽出部の抽出対象は、
    前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ωの成分である
    ことを特徴とする超解像観察装置。
  9. 光周波数ωの照明光を観察対象面の領域に集光する照明光学系と、
    前記領域に向かう前記照明光の特性を変調周波数fで変調する変調部と、
    前記照明光に応じて前記領域で発生する光から、前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ωの成分を抽出する抽出部と
    を備えることを特徴とする超解像観察装置。
  10. 光周波数ωの第1照明光と光周波数ωの第2照明光とを観察対象面の領域に集光し、
    前記領域に向かう前記第1照明光の特性を変調周波数fで変調し、
    前記第1照明光及び前記第2照明光に応じて前記領域で発生する光から、前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ω又はωの成分を抽出する
    ことを特徴とする超解像観察方法。
  11. 光周波数ωの照明光を観察対象面の領域に集光し、
    前記領域に向かう前記照明光の特性を変調周波数fで変調し、
    前記照明光に応じて前記領域で発生する光から、前記変調周波数fより高い周波数で前記特性の変化する光周波数ωの成分を抽出する
    ことを特徴とする超解像観察方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019086529A (ja) * 2017-11-01 2019-06-06 株式会社ニコン 顕微鏡、照明装置、及び観察方法
WO2022163445A1 (ja) * 2021-02-01 2022-08-04 国立大学法人大阪大学 光学顕微鏡、及び撮像方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10855046B2 (en) * 2017-10-16 2020-12-01 Massachusetts Institute Of Technology Nonlinear optical imaging
US10236027B1 (en) * 2018-02-12 2019-03-19 Microsoft Technology Licensing, Llc Data storage using light of spatially modulated phase and polarization
EP3686644A1 (en) 2019-01-25 2020-07-29 Hochschule Für Angewandte Wissenschaften München Two-color confocal colocalization microscopy

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010506155A (ja) * 2006-10-07 2010-02-25 ライカ マイクロシステムズ ツェーエムエス ゲーエムベーハー 試料の高分解能光学的走査方法及び装置
WO2011099269A1 (ja) * 2010-02-10 2011-08-18 国立大学法人大阪大学 顕微鏡及び観察方法
JP2013019908A (ja) * 2005-07-22 2013-01-31 Carl Zeiss Microscopy Gmbh 解像度を高めたルミネセンス顕微鏡検査

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7485875B2 (en) 2005-07-22 2009-02-03 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Resolution-enhanced luminescence microscopy

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013019908A (ja) * 2005-07-22 2013-01-31 Carl Zeiss Microscopy Gmbh 解像度を高めたルミネセンス顕微鏡検査
JP2010506155A (ja) * 2006-10-07 2010-02-25 ライカ マイクロシステムズ ツェーエムエス ゲーエムベーハー 試料の高分解能光学的走査方法及び装置
WO2011099269A1 (ja) * 2010-02-10 2011-08-18 国立大学法人大阪大学 顕微鏡及び観察方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
藤田克昌: "超解像顕微鏡の進展", 生物物理, vol. Vol.50,No.4 通巻290号, JPN6017042863, 20 July 2010 (2010-07-20), JP, pages 174 - 179, ISSN: 0003678080 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019086529A (ja) * 2017-11-01 2019-06-06 株式会社ニコン 顕微鏡、照明装置、及び観察方法
WO2022163445A1 (ja) * 2021-02-01 2022-08-04 国立大学法人大阪大学 光学顕微鏡、及び撮像方法
JP7465512B2 (ja) 2021-02-01 2024-04-11 国立大学法人大阪大学 光学顕微鏡、及び撮像方法

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