JP2015188787A - 正浸透処理方法および正浸透処理装置 - Google Patents
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前記浸透工程の前に、前記フィード溶液および前記ドロー溶液の少なくとも一方に塩素系殺菌剤を添加する殺菌剤添加工程と
を含むことを特徴とする、正浸透処理方法。
前記正浸透膜、ならびに、前記フィード溶液が供給される第1室、および、前記ドロー溶液が供給される第2室を有し、前記第1室と前記第2室とは前記正浸透膜で仕切られている、正浸透膜モジュールと、
前記第1室に供給される前記フィード溶液、および、前記第2室に供給される前記ドロー溶液の少なくとも一方に塩素系殺菌剤を添加するための殺菌剤添加装置と
を備える、正浸透処理装置。
以下、図1を参照して、本実施形態の正浸透処理方法および正浸透処理装置について説明する。
本工程では、正浸透膜モジュール1の第1室21に供給されるFSに、殺菌剤添加装置51から塩素系殺菌剤を添加する。また正浸透膜モジュール1の第2室22に供給されるFSに、殺菌剤添加装置52から塩素系殺菌剤を添加する。
本工程では、正浸透膜モジュール1の第1室21の内にFSを流入させて、FSを正浸透膜10の第1面11に接触させると共に、正浸透膜モジュール1の第2室22内にDSを流入させて、DSを正浸透膜10の第2面12に接触させる。この状態で、正浸透現象により、FS中に含まれる水が、正浸透膜10を第1面11側から第2面12側に通過し、DS中に移動する。
本工程では、正浸透膜モジュール1の第2室22を通過することにより、正浸透現象によってFS中の水を回収したDSを、水分離装置3に送液する。水分離装置3において、DS中の水を分離および回収する。DS中に浸透圧を高めるために添加されているドロー物質と、DS中に含まれる水とを分離する方法としては、ドロー物質の種類によって適合するものが選択される。例えば、ドロー物質が無機塩や低融点物質等の場合は晶析処理、水に対する溶解度が高い気体の場合はガス放散、磁性体微粒子の場合は磁気分離、糖溶液の場合はイオン交換を選択することができる。また、共通の分離方法として、例えば、蒸留、逆浸透膜処理が挙げられる。分離された水はタンク等に送られ、次の精製工程等に送られる。
本工程では、水と分離されたドロー溶質を高濃度で含むDS濃縮液を、水分離装置3からDS調整装置4に流入させる。そして、DS濃縮液の濃度、温度等を調整することにより、正浸透膜モジュール1に供給するためのDSを調製する。このDSを正浸透膜モジュール1の第2室22に供給することで、DSの循環が行われる。このDSには、上記の塩素系殺菌剤添加工程によって、塩素系殺菌剤が添加される。
本実施形態は、DSにも塩素を添加する点で実施形態1とは異なるが、その他の点は実施形態1と同様であるため、重複する説明は省略する。
上記殺菌剤添加工程の後、上記浸透工程の前に、FSおよびDSに還元剤を添加する。具体的には、FSに殺菌剤添加装置51から塩素系殺菌剤が添加された後、FSが正浸透膜モジュール1の第1室21に流入する前に、還元剤添加装置61によって還元剤をFSに添加する。また、DSに殺菌剤添加装置52から塩素系殺菌剤が添加された後、DSが正浸透膜モジュール1の第2室22に流入する前に、還元剤添加装置62によって還元剤をDSに添加する。
Claims (6)
- 第1面と第2面とを有する正浸透膜において、前記第1面をフィード溶液に接触させると共に、前記第2面を前記フィード溶液より高い浸透圧を有するドロー溶液に接触させることで、前記フィード溶液中に含まれる水を、前記正浸透膜を通して前記第1面側から前記第2面側に移動させる浸透工程と、
前記浸透工程の前に、前記フィード溶液および前記ドロー溶液の少なくとも一方に塩素系殺菌剤を添加する殺菌剤添加工程と
を含むことを特徴とする、正浸透処理方法。 - 前記殺菌剤添加工程の後、前記浸透工程の前に、前記フィード溶液および前記ドロー溶液の少なくとも一方に還元剤を添加する還元剤添加工程を含む、請求項1に記載の正浸透処理方法。
- 前記殺菌剤添加工程において、前記塩素系殺菌剤を間欠的に添加する、請求項1または2に記載の正浸透処理方法。
- 前記殺菌剤添加工程において前記塩素系殺菌剤を連続的に添加し、前記還元工程において前記還元剤を間欠的に添加する、請求項2に記載の正浸透処理方法。
- 前記塩素系殺菌剤はクロラミンである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の正浸透処理方法。
- 請求項1に記載の正浸透処理方法に用いられる正浸透処理装置であって、
前記正浸透膜、ならびに、前記フィード溶液が供給される第1室、および、前記ドロー溶液が供給される第2室を有し、前記第1室と前記第2室とは前記正浸透膜で仕切られている、正浸透膜モジュールと、
前記第1室に供給される前記フィード溶液、および、前記第2室に供給される前記ドロー溶液の少なくとも一方に塩素系殺菌剤を添加するための殺菌剤添加装置と
を備える、正浸透処理装置。
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