JP2015180911A - 偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、偏光板、液晶表示装置およびこれに用いる化合物 - Google Patents

偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、偏光板、液晶表示装置およびこれに用いる化合物 Download PDF

Info

Publication number
JP2015180911A
JP2015180911A JP2014171033A JP2014171033A JP2015180911A JP 2015180911 A JP2015180911 A JP 2015180911A JP 2014171033 A JP2014171033 A JP 2014171033A JP 2014171033 A JP2014171033 A JP 2014171033A JP 2015180911 A JP2015180911 A JP 2015180911A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
polarizing plate
polarizer
general formula
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014171033A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6366426B2 (ja
Inventor
直也 下重
Naoya Shimoshige
直也 下重
愛子 吉田
Aiko Yoshida
愛子 吉田
真裕美 野尻
Mayumi Nojiri
真裕美 野尻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2014171033A priority Critical patent/JP6366426B2/ja
Priority to CN201580011980.8A priority patent/CN106133564B/zh
Priority to PCT/JP2015/056234 priority patent/WO2015133485A1/ja
Publication of JP2015180911A publication Critical patent/JP2015180911A/ja
Priority to US15/254,649 priority patent/US20160369115A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6366426B2 publication Critical patent/JP6366426B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/022—Mechanical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/20—Oxygen atoms
    • C07D215/24—Oxygen atoms attached in position 8
    • C07D215/26—Alcohols; Ethers thereof
    • C07D215/32—Esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
    • C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D231/44—Oxygen and nitrogen or sulfur and nitrogen atoms
    • C07D231/52—Oxygen atom in position 3 and nitrogen atom in position 5, or vice versa
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
    • C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
    • C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D239/46—Two or more oxygen, sulphur or nitrogen atoms
    • C07D239/60—Three or more oxygen or sulfur atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
    • C07F5/02—Boron compounds
    • C07F5/025—Boronic and borinic acid compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
    • C07F5/02—Boron compounds
    • C07F5/04—Esters of boric acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D101/00—Coating compositions based on cellulose, modified cellulose, or cellulose derivatives
    • C09D101/08—Cellulose derivatives
    • C09D101/10—Esters of organic acids
    • C09D101/12—Cellulose acetate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D145/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic or in a heterocyclic system; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J101/00—Adhesives based on cellulose, modified cellulose, or cellulose derivatives
    • C09J101/08—Cellulose derivatives
    • C09J101/10—Esters of organic acids
    • C09J101/12—Cellulose acetate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02—Non-macromolecular additives
    • C09J11/06—Non-macromolecular additives organic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J129/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal, or ketal radical; Adhesives based on hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J129/02—Homopolymers or copolymers of unsaturated alcohols
    • C09J129/04—Polyvinyl alcohol; Partially hydrolysed homopolymers or copolymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J145/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic or in a heterocyclic system; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J201/00—Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3442—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3462—Six-membered rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/318—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2433/00—Presence of (meth)acrylic polymer
    • C09J2433/001—Presence of (meth)acrylic polymer in the barrier layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

【課題】高温・高湿下での偏光子耐久性、特に、直交透過率変化の抑制効果が長期に渡って維持され、耐光密着性が改善された偏光板保護フィルムおよび、高温・高湿下での偏光子耐久性の抑制効果が長期に渡って維持され、ブリードアウトが抑制された接着剤、偏光子等の偏光板における各部材に汎用できる偏光板用組成物、これらの偏光板用組成物を用いて作成した偏光板、液晶表示装置及び化合物を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物を含む偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、偏光板、液晶表示装置及び化合物。
Figure 2015180911

一般式（Ｉ）において、Ｒ1及びＲ２は置換基を表す。Ｘは電子求引性基を表し、Ｙは、−ＯＲ１が置換する炭素原子に対して結合する原子がヘテロ原子または炭素原子である置換基を表す。ＹとＸが互いに結合して、環を形成してもよい。
【選択図】なし

Description

本発明は、偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、偏光板、液晶表示装置およびこれに用いる化合物に関する。
少なくとも偏光子および偏光板保護フィルムからなる偏光板は、液晶表示装置の光学部材として使用され、種々の液晶表示装置に利用されている。
液晶表示装置は、ＴＶ用途等のように室内で使用する以外に、例えば、携帯デバイス等を中心に室外で使用される機会が増加している。このため、従来よりも高温高湿下での使用に耐えうる液晶表示装置の開発が求められている。
しかも、液晶表示装置は益々多様な用途で過酷な使用条件でも耐えることに対する要求が高まり、年々、従来よりも高いレベルの耐久性が求められるようになってきている。
また、近年、ＴＶ用途を中心に液晶表示装置の大型化・薄型化が進んでおり、これに伴って構成部材である偏光板保護フィルムを含めた偏光板も薄型化が必要とされている。また、偏光板保護フィルムでは、加工性の観点からも適切な硬度、良好な裁断性が重要視されてきたが、薄型化した偏光板保護フィルムにはさらにその向上が求められるようになった。
セルロースアシレートフィルムを用いた偏光板保護フィルムでは、さらなる性能の向上や偏光板保護フィルムとしての特性や製造における様々な問題点の解決のために、特定の化合物をフィルム中に含有させることが知られている。
例えば、偏光板保護フィルムのレタデーションの環境湿度による変動を抑制するために、ｐＫａが２〜７の有機酸化合物が提案されている（特許文献１参照）。
特開２０１１−１１８１３５号公報
従来のｐＫａが２〜７の有機酸化合物によって、偏光子の耐久性が改善されたものの、最近の著しい技術進歩により、高温高湿での偏光子の耐久性に対する要求は高まり、さらなる改善が必要であった。特に、本発明者らの検討では、特許文献１に記載されている化合物を用いると、高温・高湿での偏光子の劣化、特に長期経過における直交透過率変化が大きく、耐光密着も不足していることがわかった。
従って、本発明は、高温・高湿下での偏光子耐久性、特に、直交透過率変化の抑制効果が長期に渡って維持され、耐光密着性が改善された偏光板保護フィルムおよび、高温・高湿下での偏光子耐久性の抑制効果が長期に渡って維持され、相溶性の悪化や湿熱経過に伴い発生するブリードアウトが抑制された接着剤、偏光子等の偏光板における各部材に汎用できる偏光板用組成物、これらの偏光板用組成物を用いて作製した偏光板、液晶表示装置およびこれに用いる化合物を提供することを課題とする。
本発明者が鋭意検討した結果、従来のように、偏光板保護フィルムに化合物を含有させるという手法だけではなく、接着剤層や偏光子層に化合物を含有させることも偏光子耐久性を高める上で有用な手段であることが明らかとなり、本発明を完成させるに至った。
すなわち、上記課題は、以下の手段により達成された。
＜１＞下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含む偏光板用組成物。
Figure 2015180911
一般式（Ｉ）において、Ｒ1およびＲ２は各々独立に置換基を表す。Ｘは電子求引性基を表し、Ｙは、−ＯＲ１が置換する炭素原子に対して結合する原子がヘテロ原子または炭素原子である置換基を表す。ＹとＸが互いに結合して、環を形成してもよい。
＜２＞Ｒ1が、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキルもしくはアリールのスルホニル基である＜１＞に記載の偏光板用組成物。
＜３＞Ｒ２が、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ニトロ基、ヘテロ環基またはハロゲン原子である＜１＞または＜２＞に記載の偏光板用組成物。
＜４＞一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩ）で表される＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
Figure 2015180911
一般式（ＩＩ）において、Ｒ１およびＲ２は一般式（Ｉ）におけるＲ１およびＲ２と同義である。ＹａおよびＹｂは各々独立に、−Ｃ（ＲＸ１）（ＲＸ２）−、−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｏ−または−Ｓ−を表す。ここで、ＲＸ１およびＲＸ２は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒａは水素原子または置換基を表す。ＲＸ１、ＲＸ２およびＲａは、Ｌと結合して環を形成してもよい。Ｘａは、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−または−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｂ）Ｏ−を表す。ここで、Ｒｂは置換基を表す。Ｌは単結合または２価の連結基を表す。これらの各基はさらに置換基で置換されていてもよい。
＜５＞一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩＩ）で表される＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
Figure 2015180911
一般式（ＩＩＩ）において、Ｌは一般式（ＩＩ）におけるＬと同義である。Ｒ１ａは、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキルもしくはアリールのスルホニル基を表し、Ｒ２ａはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ニトロ基、ヘテロ環基またはハロゲン原子を表す。Ｙａ１およびＹｂ１は各々独立に、−Ｃ（ＲＸ１）（ＲＸ２）−、−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｏ−または−Ｓ−を表すが、Ｙａ１およびＹｂ１のうちの少なくとも一方は−Ｎ（Ｒａ）−である。ここで、ＲＸ１およびＲＸ２は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒａは水素原子または置換基を表す。、ＲＸ１、ＲＸ２およびＲａは、Ｌと結合して環を形成してもよい。これらの各基はさらに置換基で置換されていてもよい。
＜６＞一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＶ）で表される＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
Figure 2015180911
一般式（ＩＶ）において、Ｒ１ａおよびＲ２ａは、一般式（ＩＩＩ）におけるＲ１ａおよびＲ２ａと同義である。Ｌ１は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、アルキレン基またはアリーレン基を表す。Ｒ３ａおよびＲ４ａは各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基またはアリール基を表す。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａの各基はさらに置換基を有してよい。
＜７＞一般式（Ｉ）におけるＹ、ＸおよびＲ２のいずれかが、少なくとも１つの環構造を有する基である＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
＜８＞一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）のいずれかで表される化合物が水溶性官能基を有する＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
＜９＞一般式（Ｉ）で表される化合物を添加してなる＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載の偏光板用組成物。
＜１０＞さらに樹脂を含有し、樹脂１００質量部に対し、一般式（Ｉ）で表される化合物の添加量が、０．０１〜３０質量部である＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
＜１１＞さらに、下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有する＜１＞〜＜１０＞のいずれかに記載の偏光板用組成物。
Figure 2015180911
一般式（Ａ）において、Ｙａ１、Ｙｂ１およびＬは一般式（ＩＩＩ）におけるＹａ１、Ｙｂ１およびＬと同義である。Ｒ２は一般式（Ｉ）におけるＲ２と同義である。
＜１２＞セルロースアシレート、ポリビニルアルコールまたはアシル化もしくはケタール化されたポリビニルアルコールを含有する＜１＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
＜１３＞ポリビニルアルコールまたはアシル化もしくはケタール化されたポリビニルアルコール、および金属化合物コロイドを含有する＜１＞〜＜１２＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
＜１４＞ポリビニルアルコールまたはアシル化もしくはケタール化されたポリビニルアルコール、および二色性色素を含有する＜１＞〜＜１３＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
＜１５＞セルロースアシレートを含有する＜１＞〜＜１２＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
＜１６＞ ＜１＞〜＜１２＞および＜１５＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物からなる偏光板保護フィルム。
＜１７＞ ＜１＞〜＜１２＞および＜１４＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物からなる偏光子。
＜１８＞ ＜１＞〜＜１３＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物からなる接着剤層または粘着剤層を有する偏光板。
＜１９＞ ＜１６＞に記載の偏光板保護フィルムを有する偏光板。
＜２０＞ ＜１７＞に記載の偏光子を有する偏光板。
＜２１＞ ＜１８＞〜＜２０＞のいずれか１つに記載の偏光板を具備した液晶表示装置。
＜２２＞下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物。
Figure 2015180911
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ１ａは、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキルもしくはアリールのスルホニル基を表し、Ｒ２ａはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ニトロ基、ヘテロ環基またはハロゲン原子を表す。Ｙａ１およびＹｂ１は各々独立に、−Ｃ（ＲＸ１）（ＲＸ２）−、−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｏ−または−Ｓ−を表すが、Ｙａ１およびＹｂ１の少なくとも一方は−Ｎ（Ｒａ）−である。ここで、ＲＸ１およびＲＸ２は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒａは水素原子または置換基を表す。ＲＸ１、ＲＸ２およびＲａは、Ｌと結合して環を形成してもよい。Ｌは単結合または２価の連結基を表す。これらの各基はさらに置換基で置換されていてもよい。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
ここで、本明細書において、特段に断らない限り、置換基を有することが可能な基（例えば、アルキル部位、アリール部位、ヘテロ環部位を有する基）は置換基を有してもよい。例えば、アルキル基は、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基もしくは芳香族基は置換基を有してもよいアリール基もしくは芳香族基である。
また、同じ原子に少なくとも２つの置換基を有する場合には、これらの置換基が互いに結合して環を形成してもよく、また、隣接する結合原子が各々置換基を有する場合には、これらの置換基が互いに結合して環を形成してもよい。
さらに複数の同符号の基が存在する場合や、複数の繰返しにより、結果として複数の同符合の基が存在する場合、これらは互いに同一であっても異なってもよい。
本明細書において、複数の置換基や連結基（以下、置換基等と言う。）を同時もしくは択一的に規定するときには、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよい。
本発明により、高温・高湿下での偏光子耐久性、特に、直交透過率変化の抑制効果が長期に渡って維持され、耐光密着性が改善された偏光板保護フィルムおよび、高温・高湿下での偏光子耐久性の抑制効果が長期に渡って維持され、相溶性の悪化や湿熱経過に伴い発生するブリードアウトが抑制された接着剤、偏光子等の偏光板における各部材に汎用できる偏光板用組成物、これらの偏光板用組成物を用いて作製した偏光板、液晶表示装置およびこれに用いる化合物を提供することが可能となった。
本発明の液晶表示装置の内部構造を模式的に示した一例である。 本発明の別の液晶表示装置の内部構造を模式的に示した一例である。
以下、本発明について、実施の形態を挙げて詳細に説明する。
本発明の偏光板組成物は、偏光板に使用されるのであれば、偏光板を構成するものであれば、どのようなフィルム、層に用いても構わない。
このようなフィルム、層としては、例えば、偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層、さらには防眩層、クリアハードコート層、反射防止層、帯電防止層、防汚層等が挙げられる。
本発明では、本発明の偏光板組成物を偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層に用いるのが好ましい。
以下に偏光板組成物を説明する。
＜＜偏光板用組成物＞＞
＜一般式（Ｉ）で表される化合物＞
本発明の偏光板組成物は、一般式（Ｉ）で表される化合物を少なくとも１種以上含む。
Figure 2015180911
一般式（Ｉ）において、Ｒ1およびＲ２は各々独立に置換基を表す。Ｘは電子求引性基を表し、Ｙは、−ＯＲ１が置換する炭素原子に対して結合する原子がヘテロ原子または炭素原子である置換基を表す。ＹとＸが互いに結合して、環を形成してもよい。
ここで、Ｘにおける電子求引性基としては、ハメット則のσｐ値が０以上である基が好ましい。σｐ値が正の置換基としては、フッ素（０．０６）、塩素（０．３０）、臭素（０．２７）、ヨウ素（０．３０）等のハロゲン原子、−ＣＨＯ（０．２２）、−ＣＯＣＨ３（０．５０）、−ＣＯＣ６Ｈ５（０．４６）、−ＣＯＮＨ２（０．３６）、−ＣＯＯ−（０．３０）、−ＣＯＯＨ（０．４１）、−ＣＯＯＣＨ３（０．３９）、−ＣＯＯＣ２Ｈ５（０．４５）、等のカルボニルを有する基、−ＳＯＣＨ３（０．４９）、−ＳＯ２ＣＨ３（０．７２）、−ＳＯ２Ｃ６Ｈ５（０．６８）、−ＳＯ２ＣＦ３（０．９３）、−ＳＯ２ＮＨ２（０．５７）、−ＳＯ２ＯＣ６Ｈ５（０．２３）、−ＳＯ３ −（０．０９）、−ＳＯ３Ｈ（０．５０）等のスルホニルもしくはスルフィニルを有する基、−ＣＮ（０．６６）、−ＮＯ２（０．７８）、−Ｎ（ＣＨ３）３ ＋（０．８２）、−Ｎ（ＣＦ３）２（０．５３）等の含窒素置換基、−ＣＣｌ３（０．４６）、−ＣＨ２Ｃｌ（０．１８）、−ＣＨＣｌ２（０．３２）、−ＣＦ３（０．５４）、等のハロゲン原子置換アルキル基が挙げられる。ここで、カッコ内はσｐ値である。
ハメットのσｐ値は、例えば、Ｃ．Ｈａｒｓｃｈ他、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１６，１２０７（１９７３）、同，２０，３０４（１９７７）、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．９１，１６５（１９９１）などにも記載されている。
本発明では、ハメットのσｐ値は０．２０以上が好ましく、具体的には、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、水素原子の少なくとも一方がアルキルもしくはアリールのカルバモイル基（例えば、−ＣＯＮＨＣＨ３（０．３２））、チオアシル基、アルコキシチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基、水素原子の少なくとも一方がアルキルもしくはアリールのチオカルバモイル基（例えば、−ＣＳＮＨＣＨ３（０．３４））、水素原子の少なくとも一方がアルキルもしくはアリールのスルファモイル基（例えば、−ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）２（０．６５））、アルキルもしくはアリールのスルホニル基（例えば、−ＳＯ２ＣＨ３（０．７２））、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基（例えば、−ＳＯＣＨ３（０．４９））、シアノ基、ニトロ基またはホスホノ基が挙げられ、これらが好ましく、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルもしくはアリールのカルバモイル基、アルキルもしくはアリールのスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基、シアノ基、ニトロ基またはホスホノ基がより好ましい。
ＸがＹと結合して環を形成した場合、Ｒ２が結合する炭素原子に結合する部分は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−または＊−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｂ）Ｏ−が好ましい。ここで、＊はＲ２が結合する炭素原子に結合する位置を示し、Ｒｂは置換基を表す。なかでも−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＳＯ２−、がより好ましく、−Ｃ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｓ）−がさらに好ましく、−Ｃ（＝Ｏ）−が特に好ましい。
また、Ｒ２が結合する炭素原子に結合する上記の原子〔炭素原子（例えば、上記のＣ（＝Ｏ）−＊＊における炭素素原子）、硫黄原子（例えば、上記のＳＯ２−＊＊における硫黄原子）や、原子群（例えば、（Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｂ）Ｏ−におけるリン原子−Ｏ−＊＊〕の結合手（例えばで例示した＊＊部分）には、アルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、シクロアルケニレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒａ）−がさらに連結してもよい。ここで、Ｒａは水素原子または置換基を表す。
Ｙは、−ＯＲ１が置換する炭素原子に対して結合する原子がヘテロ原子または炭素原子である置換基であり、ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子、リン原子が好ましく、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基、シリル基、リン酸基が好ましい。
また、炭素原子の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルもしくはアリールのカルバモイル基、アルキルもしくはアリールのスルファモイル基が好ましい。
Ｒａにおける置換基は後述の置換基Ｓが挙げられ、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ヘテロ環基が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
Ｒａは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基が好ましく、水素原子、アルキル基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
Ｒｂにおける置換基は後述の置換基Ｓが挙げられ、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ヘテロ環基が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基がより好ましく、アルキル基、アリール基がさらに好ましく、アリール基が特に好ましい。
Ｒ1およびＲ２における置換基は後述の置換基Ｓが挙げられる。
Ｒ1は、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アルキルもしくはアリールのカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキルもしくはアリールのスルホニル基が好ましい。
Ｒ２は、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ニトロ基、ヘテロ環基またはハロゲン原子が好ましい。
Ｒ１およびＲ２におけるアルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜５がさらに好ましい。
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−オクタデシル、イソオクタデシルが挙げられる。
Ｒ１およびＲ２におけるアルケニル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１０がより好ましく、２〜５がさらに好ましい。
アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、イソプロペニル、２−ペンテニル、オレイルが挙げられる。
Ｒ１およびＲ２におけるシクロアルキル基の炭素数は、３〜２０が好ましく、５〜１０がより好ましく、５または６がさらに好ましい。
シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。
Ｒ１およびＲ２におけるシクロアルケニル基の炭素数は、５〜２０が好ましく、５〜１０がより好ましく、５または６がさらに好ましい。
シクロアルケニル基としては、例えば、シクロペンテニル、シクロヘキセニルが挙げられる。
Ｒ１およびＲ２におけるアリール基の炭素数は、６〜２０が好ましく、６〜１０がより好ましく、６〜８がさらに好ましい。
アリール基としては、例えば、フェニル、ナフチルが挙げられる。
Ｒ１およびＲ２におけるヘテロ環基は、ヘテロ環基の炭素数は、０〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、２〜１０がさらに好ましく、２〜５が特に好ましい。
ヘテロ環基におけるヘテロ環としては、５員環または６員環のヘテロ環が好ましく、ヘテロ環は、置換基で置換されていてもよく、またベンゼン環や脂環、ヘテロ環で縮環していてもよい。ここで、置換基としては後述の置換基Ｓが挙げられる。
ヘテロ環基におけるヘテロ環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が挙げられ、ヘテロ芳香環であっても芳香環でないヘテロ環であってもよい。
ヘテロ環基のヘテロ環としては、例えば、チオフェン環、フラン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、トリアゾール環、ピロリジン環、ピロリン環、ピラゾリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環およびこれらのベンゼン縮環した環（例えば、インドール環、ベンズイミダゾール環等）が挙げられる。
Ｒ２におけるハロゲン原子は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
Ｒ１におけるアシル基は、芳香族のアシル基でも脂肪族のアシル基でもよく、またホルミル基をも含み、炭素数は１〜２０が好ましく、２〜１０がより好ましい。
アシル基としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、イソブチリル、ピバロイル、ラウロイル、ミリストイル、アクリロイル、メタクリロイル、ベンゾイル、ナフトイルが挙げられる。
アシル基のうち、分岐アルキル（好ましくはｔｅｒｔ−アルキルカルボニル基）のアシル基、例えば、ピバロイルなどや、オルト位に置換基を有するフェニルカルボニル基が好ましい。
Ｒ１における、水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基は、炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましい。
カルバモイル基としては、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイルが挙げられる。
Ｒ１におけるアルコキシカルボニル基の炭素数は２〜２０が好ましく、２〜１０がより好ましい。分岐アルコキシカルボニル基が好ましく、ｔｅｒｔ−アルキルオキシカルボニル基がより好ましい。アルコキシカルボニル基は、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル、ｎ−オクチルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニルが挙げられる。
Ｒ１におけるアリールオキシカルボニル基の炭素数は７〜２０が好ましく、７〜１６がより好ましい。アリールオキシカルボニル基は、例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニルが挙げられる。
なお、アリールオキシカルボニル基よりアルコキシカルボニル基の方が好ましい。
Ｒ１におけるシリル基は、アルキル基またはアリール基が置換したシリル基が好ましく、シリル基の炭素数は３〜２０が好ましく、５〜１６がより好ましい。また、アルキル基の場合、少なくとも１つは、分岐アルキル基を有するものが好ましく、なかでも、ｔｅｒｔ−アルキル基が好ましい。また、ｓｅｃ−アルキル基の場合、２つ以上がｓｅｃ−アルキル基である場合が好ましい。
一方、アリール基を少なくとも１つ有するシリル基も好ましい。
シリル基は、例えば、トリメチルシリル、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリルが挙げられる。
Ｒ１におけるアルキルもしくはアリールスルホニル基は、炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましい。
スルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−オクチルスルホニル、フェニルスルホニルが挙げられる。
本発明では、Ｒ１は、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキルもしくはアリールのスルホニル基が好ましく、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基またはシリル基がより好ましく、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、アルコキシカルボニル基またはシリル基がさらに好ましく、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が２位に置換したエチレン基、アシル基、アルコキシカルボニル基またはシリル基が特に好ましい。
ここでヘテロ原子が置換したメチレン基は、ヘテロ原子とメチレン基の炭素原子とが連結基を介して、環を形成していてもよい。
なお、上記ヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が挙げられ、これらが好ましく、酸素原子がより好ましい。
Ｒ１における電子求引性基は、Ｘにおける電子求引性基が挙げられ、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルキルもしくはアリールのスルファモイル基が好ましい。
ヘテロ原子が置換したメチレン基は、下記一般式（ａ）または（ｂ）で表される基が好ましい。
Figure 2015180911
一般式（ａ）、（ｂ）において、Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒａ）−を表す。環Ａはヘテロ環を表す。Ｒａ１、Ｒａ２およびＲａは各々独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒｂ１は置換基を表す。Ｒｚはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。ｍは０以上の整数を表す。
Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒｂ１およびＲａにおける置換基としては、後述の置換基Ｓが挙げられる。
Ｒｚにおけるアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基は、Ｒ２におけるアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基が挙げられ、Ｒ２で挙げたこれらに対応する基が好ましい。
環Ａは、５または６員環が好ましく、６員環がより好ましい。また、環Ａを構成する原子は、Ｚ以外は炭素原子が好ましく、環Ａは飽和環が好ましい。
環Ａの好ましい環としては、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環が挙げられる。
ｍは０または１が好ましく、０がより好ましい。
Ｒａ１およびＲａ２は水素原子またはアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
Ｒａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基が好ましく、水素原子またはアルキル基がより好ましい。
Ｒｚはアルキル基またはアリール基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
一般式（ａ）または（ｂ）で表される基のうち一般式（ａ）で表される基が好ましい。
ここで、置換基Ｓについて説明する。
置換基Ｓは、以下の置換基を含むものである。
〔置換基Ｓ〕
置換基Ｓとしては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘプチル、１−エチルペンチル、２−エチルヘキシル、ベンジル、２−エトキシエチル、１−カルボキシメチル等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、ビニル、アリル、オレイル等）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エチニル、２−プロピニル、２−ブチニル、フェニルエチニル等）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３〜２０で、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２０で、例えば、フェニル、１−ナフチル、４−メトキシフェニル、２−クロロフェニル、３−メチルフェニル等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数０〜２０のヘテロ環基で、環構成ヘテロ原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子が好ましく、５員環または６員環でベンゼン環やヘテロ環で縮環していてもよく、この環は飽和環、不飽和環、芳香環であってもよく、例えば、２−ピリジル、４−ピリジル、２−イミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、２−チアゾリル、２−オキサゾリル等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０で、例えば、フェノキシ、１−ナフチルオキシ、３−メチルフェノキシ、４−メトキシフェノキシ等）、
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、ベンジルチオ等）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０で、例えば、フェニルチオ、１−ナフチルチオ、３−メチルフェニルチオ、４−メトキシフェニルチオ等）、アシル基（アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を含み、炭素数は２０以下が好ましく、例えば、アセチル、ピバロイル、アクリロイル、メタクロリイル、ベンゾイル、ニコチノイル等）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エトキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０で、例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等）、アミノ基（アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、アニリノ、１−ピロリジニル、ピペリジノ、モルホニル等）、アルキルもしくはアリールのスルホンアミド基（好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホンアミド、Ｎ−フェニルスルホンアミド等）、アルキルもしくはアリールのスルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、アルキルもしくはアリールのカルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルアミノ、アクリロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ニコチンアミド等）、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、リン酸基もしくはその塩、オニオ基（例えば、スルホニウム塩のスルホニオ基、アンモニウム塩のアンモニオ基、ヨードニウム塩のヨードニオ基、ホスホニウム塩のホスホニオ基）、チオアシル基、アルコキシチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基、アルキルもしくはアリールのチオカルバモイル基（これらの好ましい範囲および具体例は、対応するアシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルもしくはアリールのカルバモイル基のＣ（＝Ｏ）部分を（Ｃ＝Ｓ）に置き換えたのみ異なるものが挙げられる）、またはハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）が挙げられる。
これらの置換基はさらに置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては上記置換基Ｓが挙げられる。
例えば、アルキル基にアリール基が置換したアラルキル基、アルキル基にアルコキシカルボニル基やシアノ基が置換した基などが挙げられる。
一般式（Ｉ）におけるＹ、ＸおよびＲ２のいずれかが、少なくとも１つの環構造を有する基であることが好ましい。
一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記一般式（Ｉ−１）で表される化合物または一般式（Ｉ−２）で表される化合物が好ましい。
Figure 2015180911
一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）において、Ｒ１およびＲ２は一般式（Ｉ）におけるＲ１およびＲ２と同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｙ０は、−ＯＲ１が置換する炭素原子に結合する原子が、ヘテロ原子または炭素原子である２価の基を表し、Ｘ０は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−または＊−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｂ）Ｏ−を表す。ここで。＊は、Ｒ２が結合する炭素原子に結合する位置を示す。Ｒｂは一般式（Ｉ）におけるＲｂと同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｌ０は２価の連結基を表す。ここで、Ｙ１は、−ＯＲ１が置換する炭素原子に結合する原子が、ヘテロ原子または炭素原子である置換基を表す。Ｘ１は、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルキルもしくはアリールのスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、アルキルもしくはアリールのスルフィニル基、シアノ基、ニトロ基またはホスホノ基を表す。
Ｘ０、Ｙ０およびＬ０によって形成される環は５〜８員環が好ましく、５〜７員環がより好ましく、５または６員環がさらに好ましい。
一般式（Ｉ−１）または（Ｉ−２）で表される化合物では、一般式（Ｉ−１）で表される化合物が好ましく、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が、さらに好ましい。
Figure 2015180911
一般式（ＩＩ）において、Ｒ１およびＲ２は、一般式（Ｉ）におけるＲ１およびＲ２と同義であり、好ましい範囲も同じである。ＹａおよびＹｂは各々独立に、−Ｃ（ＲＸ１）（ＲＸ２）−、−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｏ−または−Ｓ−を表す。ここで、ＲＸ１およびＲＸ２は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒａは水素原子または置換基を表す。ＲＸ１、ＲＸ２およびＲａは、Ｌと結合して環を形成してもよい。Ｘａは、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−または−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｂ）Ｏ−を表す。ここで、Ｒｂは置換基を表す。Ｌは単結合または２価の連結基を表す。これらの各基はさらに置換基で置換されていてもよい。
ＲａおよびＲｂは一般式（Ｉ）におけるＲａおよびＲｂと同義であり、好ましい範囲も同じである。
ＹａおよびＹｂにおける、ＲＸ１およびＲＸ２は水素原子または置換基を表すが、このような置換基としては、前述の置換基Ｓが挙げられる。このような置換基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基が好ましい。
ＲＸ１およびＲＸ２は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基が好ましい。
ＹａおよびＹｂは、−Ｃ（ＲＸ１）（ＲＸ２）−、−Ｎ（Ｒａ）−が好ましく、−Ｎ（Ｒａ）−がより好ましい。
Ｌにおける２価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−、アルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、シクロアルケニレン基、アリーレン基、２価のヘテロ環基が好ましい。アルキレン基の炭素数は１〜３が好ましく、例えば、メチレン、エチレン、プロピレンが挙げられる。アルケニレン基の炭素数は２または３が好ましく、例えば、エテニレンが挙げられる。シクロアルキレン基の炭素数は５〜１２が好ましく、シクロペンチレン、シクロヘキシレンが挙げられ、シクロアルケニレン基の炭素数は５〜１２が好ましく、シクロペンテニレン、シクロヘキセニレンが挙げられ、アリーレン基の炭素数は６〜１２が好ましく、フェニレン、ナフチレンが挙げられる。２価のヘテロ環基におけるヘテロ環を構成するヘテロ原子は酸素原子、硫黄原子、窒素原子が好ましく、炭素数は１〜１２が好ましく、２〜１２がより好ましく、３〜１２がさらに好ましく、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピロリジン環、ピペラジン環、モルホリン環が挙げられる。
シクロアルキレン基、シクロアルケニレン基、アリーレン基、２価のヘテロ環基の場合、２つの結合手は、隣接する２つの原子、すなわち、オルト位の関係で有するものが好ましい。
なお、−Ｎ（Ｒａ）−は、ＹａおよびＹｂにおける−Ｎ（Ｒａ）−と同義であり、好ましい範囲も同じである。
Ｌは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−、アルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、シクロアルケニレン基、アリーレン基が好ましい。
Ｌによって形成される環は５〜８員環が好ましく、５〜７員環がより好ましく、５または６員環がさらに好ましい。
一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が、なかでも好ましく、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物が特に好ましい。
Figure 2015180911
一般式（ＩＩＩ）において、Ｌは一般式（ＩＩ）におけるＬと同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｒ１ａは、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が２位に置換したエチレン基、アシル基、水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキルもしくはアリールのスルホニル基を表し、Ｒ２ａはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ニトロ基、ヘテロ環基またはハロゲン原子を表す。Ｙａ１およびＹｂ１は各々独立に、−Ｃ（ＲＸ１）（ＲＸ２）−、−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｏ−または−Ｓ−を表すが、Ｙａ１およびＹｂ１のうちの少なくとも一方は−Ｎ（Ｒａ）−である。ここで、ＲＸ１およびＲＸ２は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒａは水素原子または置換基を表す。ＲＸ１、ＲＸ２およびＲａは、Ｌと結合して環を形成してもよい。これらの各基はさらに置換基で置換されていてもよい。
Figure 2015180911
一般式（ＩＶ）において、Ｒ１ａおよびＲ２ａは、一般式（ＩＩＩ）におけるＲ１ａおよびＲ２ａと同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｌ１は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、アルキレン基またはアリーレン基を表す。Ｒ３ａおよびＲ４ａは各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基またはアリール基を表す。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａの各基はさらに置換基を有してよい。
Ｒ３ａおよびＲ４ａは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基またはアリール基を表し、Ｒ３ａおよびＲ４ａにおけるアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基またはアリール基は、Ｒ１、Ｒ２のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基またはアリール基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
Ｌ１は、Ｌと同義であり、好ましい範囲も同じである。
Ｌ１におけるアルキレン基またはアリーレン基はＬにおけるアルキレン基、アリーレン基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式（ＩＩＩ）におけるＹａ１、Ｙｂ１、Ｒａ１およびＲａ２のいずれかが、少なくとも１つの環構造を有する基であることが好ましい。
一般式（ＩＶ）におけるＲ３ａ、Ｒ４ａ、Ｒａ１およびＲａ２のいずれかが、少なくとも１つの環構造を有する基であることが好ましい。
Ｌ１は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−が好ましく、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−がより好ましく−Ｃ（＝Ｏ）−がなかでも好ましい。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、水溶性官能基を含むことが好ましい。
ここで、水溶性官能基とは、ヒドロキシ基、カルボキシ基もしくはその塩、スルホ基もしくはその塩、リン酸基もしくはその塩などの水溶性基や、エーテル結合を有する化合物が挙げられ、後述する樹脂が親水性樹脂もしくは水溶性樹脂である場合における水に対する溶解性を高める基である。
化合物の偏光子層内での局在化や染み出し防止等を目的として、部分構造に影響を与えない様に偏光子を構成する成分と相互作用する官能基を導入してもよい。その様な官能基としては、偏光子を構成する成分がポリビニルアルコールの場合、アセタール基、カルボニル基、ホルミル基、ケトン基、ボロニル基、ボロン酸エステル基、トリアルコキシシリル基などの共有結合を形成する置換基、フッ素などの水素結合性基を形成する置換基が挙げられる。
例えば、主成分としてポリビニルアルコールを含む偏光子を用い、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の添加層を変化させた場合、以下の様態であることも好ましい。
偏光板保護フィルムを添加層とした場合、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物が、置換基として上述したような偏光子を構成する成分と相互作用する官能基を少なくとも１つ以上を１分子中に有することが好ましい。置換基は、ホルミル基およびボロニル基から選ばれる少なくとも１つ以上であることが好ましく、２つ以上であることがより好ましい。
偏光子および接着剤層を添加層とした場合、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物が、置換基として、上述したような水溶性官能基および偏光子を構成する成分と相互作用する官能基を、それぞれ少なくとも１つ以上１分子中に有することが好ましい。より好ましくは、水溶性官能基を少なくとも１つ、かつ、偏光子を構成する成分と相互作用する官能基を２つ以上１分子中に有することが好ましい。置換基は、水溶性官能基としてスルホ基、かつ、偏光子を構成する成分と相互作用する官能基としてホルミル基およびボロニル基から選ばれる少なくとも１つ以上であることが好ましい。
また、偏光子など親水性の高い層への相溶性の観点から一般式（Ｉ）で表される化合物の水への溶解度が高いものがより好ましく、２５℃で水１００ｍｌに０．１ｇ以上溶解することが好ましく、１．０ｇ以上がより好ましく、１．０〜３０．０ｇがさらに好ましい。
一般式（Ｉ）で表される化合物を偏光板保護フィルムに添加するときの化合物の分子量は３５０〜１５００が好ましく、また、親水性の尺度であるＣｌｏｇＰは１．０〜９．０が好ましい。
一般式（Ｉ）で表される化合物を接着剤層または偏光子層に添加するときの化合物の分子量は１００〜１０００が好ましく、また、親水性の尺度であるＣｌｏｇＰは−４．０〜１．０が好ましい。
なお、ＣｌｏｇＰにおけるＰとは、ｎ−オクタノール−水系での分配係数を表し、ｎ−オクタノールと水を用いて測定することができるが、これら分配係数は、ＣｌｏｇＰ値推算プログラム（Ｄａｙｌｉｇｈｔ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ社のＰＣ Ｍｏｄｅｌｓに組み込まれたＣｌｏｇＰプログラム）を使用して推算値を求めることもできる。
本発明の偏光板用組成物は、樹脂成分を含有することが好ましく、この樹脂成分の性質、特に親水性であるか疎水性であるかによって、一般式（Ｉ）で表される化合物の分子量やＣｌｏｇＰの好ましい範囲を変更することが好ましい。
例えば、セルロースアシレート、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂のような疎水性の樹脂の場合、一般式（Ｉ）で表される化合物の分子量は３５０〜１５００が好ましく、４００〜１０００がより好ましく、４００〜７５０がさらに好ましい。また、ＣｌｏｇＰは１．０〜９．０が好ましく、２．０〜９．０がより好ましく、２．０〜８．０がさらに好ましい。
一方、ポリビニルアルコールまたはそのアシル化もしくはケタール化体等のような親水性樹脂、水溶性樹脂の場合、一般式（Ｉ）で表される化合物の分子量は１００〜１０００が好ましく、１４０〜８００がより好ましく、１４０〜６００がさらに好ましい。また、ＣｌｏｇＰは−４．０〜１．０が好ましく、−４．０〜０．５がより好ましく、−４．０〜０がさらに好ましい。
なお、詳細なメカニズムは定かではないが、特徴的な活性メチレンのエノール誘導体骨格が、ヨウ素とポリビニルアルコールまたはそのアシル化もしくはケタール化体との錯体（ヨウ素ＰＶＡ錯体）の安定化に寄与していると推定される。
偏光子を構成する成分と相互作用する官能基をポリヨウ化物イオンＩ５ −形成能を示す化合物に導入して拡散等を抑止することで所望な領域に化合物の濃度分布や局在化の状態を維持することができる。
このため、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、特に長期経過における耐久性を高める上では接着剤層や偏光子（層）へ添加することが好ましい。本発明の化合物を偏光子（層）近傍に存在させることで、本発明の化合物が偏光子（層）中のヨウ素ＰＶＡ錯体を安定化させ、より効果的に偏光子耐久性改良効果に寄与すると推定される。
以下に、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を示すが、これによって、本発明が限定されるものではない。
Figure 2015180911
Figure 2015180911
Figure 2015180911
Figure 2015180911
Figure 2015180911
一般式（Ｉ）で表される化合物、もしくはその基本骨格は、尿素誘導体とマロン酸誘導体とを縮合させるバルビツール酸の合成法を用いて合成できることが知られている。Ｎ上に置換基を２つ有するバルビツール酸は、Ｎ，Ｎ’−二置換型尿素とマロン酸クロリドを加熱するか、マロン酸と無水酢酸などの活性化剤とを混合して加熱することにより得られ、例えば、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ，第６１巻，１０１５頁（１９３９年）、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第５４巻，２４０９頁（２０１１年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４０巻，８０２９頁（１９９９年）、国際公開第２００７／１５００１１号パンフレットなどに記載の方法を好ましく用いることができる。
本発明では、上記で得られた化合物を、塩基存在下、酸クロライドもしくは酸無水物と反応させることで、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物に導くことができる。
例えば、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ −Ａ Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｊｏｕｒｎａｌ，第１９巻，７９１７頁（２０１３年）、Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４４巻，１４３８頁（１４４７年）、Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ Ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第６２巻，７５１２頁（１９９７年）に記載の方法が好ましい。
なお、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の合成法は上記に限定されるものではない。
本発明の偏光板用組成物は、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物以外に各種の素材を含んでいてもよい。
このうち、下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有することが好ましい。
Figure 2015180911
一般式（Ａ）において、Ｙａ１、Ｙｂ１およびＬは一般式（ＩＩＩ）におけるＹａ１、Ｙｂ１およびＬと同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｒ２は一般式（Ｉ）におけるＲ２と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式（Ａ）で表される化合物は、下記一般式（Ａ１）で表される化合物が好ましい。
Figure 2015180911
一般式（Ａ１）において、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ４ａおよびＬ１は、一般式（ＩＶ）におけるＲ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ４ａおよびＬ１と同義であるり、好ましい範囲も同じである。
以下に、一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を示すが、これによって本発明がこれらに限定されるものではない。
ここで、Ｐｈはフェニル基、ｃＨｅｘはシクロヘキシル基、Ｃ６Ｈ４は、フェニレン基を表し、Ｃ６Ｈ４（ｐ−ＣＨ３）のような（ ）の基は、フェニル基への置換基を表し、「ｐ−」は、ｐ位であることを示す。
Figure 2015180911
一般式（Ａ）で表される化合物は、一般式（Ｉ）で表される化合物の合成方法に準じて合成することができ、一般式（Ｉ）で表される化合物の合成方法の説明で挙げた文献がそのまま適用できる。
本発明の偏光板用組成物は、一般式（Ｉ）で表される化合物、および必要により併用される一般式（Ａ）で表される化合物を、含有している。
本発明の偏光板用組成物は、さらに樹脂を含有し、一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、樹脂１００質量部に対し、０．０１〜３０質量部が好ましい。
一般式（Ｉ）で表される化合物と一般式（Ａ）で表される化合物の含有量の比率は、一般式（Ｉ）で表される化合物１００質量部に対し、一般式（Ａ）で表される化合物１〜１００００質量部である。
また、一般式（Ｉ）で表される化合物と一般式（Ａ）で表される化合物の合計の含有量は、樹脂１００質量部に対し、０．０１〜３０質量部が好ましい。
特に、一般式（Ｉ）で表される化合物と一般式（Ａ）で表される化合物を併用する場合は、双方の構造が近しいものが本発明の効果をより効果的に発現するため好ましい。
なお、一般式（Ｉ）で表される化合物を２種類以上併用していてもその合計が上記範囲であればよい。
＜樹脂＞
本発明の偏光板用組成物は、偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層に使用するのが好ましい。
偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層は、樹脂成分から構成されており、本発明の偏光板用組成物は樹脂成分を含むことが好ましい。
樹脂成分は、本発明の偏光板用組成物を使用する目的、用途によって異なる。
例えば、偏光板保護フィルムでは疎水性樹脂が、接着剤層では樹脂成分からなる水溶性接着剤が、偏光子ではポリビニルアルコール系樹脂（ポリビニルアルコール、アシル化もしくはケタール化されたポリビニルアルコール等で、ＰＶＡとも称す。）が使用される。
本発明の偏光板用組成物に含まれる樹脂成分は、セルロースアシレート樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステルカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアクリレート系樹脂やポリメタクリレート系樹脂のようなアクリル系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリビニルアルコールまたはアシル化もしくはケタール化されたポリビニルアルコールを含むポリビニルアルコール系樹脂が好ましく、セルロースアシレート樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂がさらに好ましい。
以下、本発明の偏光板用組成物を、好ましく使用される偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層別に説明する。なお、偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層は、本発明の偏光板用組成物で形成もしくは製造されるか、または本発明の偏光板用組成物からなるものである。従って、以下に説明する偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層は、本発明の偏光板用組成物（偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層の各組成物）と置き換えることができる。
［［偏光板保護フィルム］］
偏光板保護フィルムは単層の形態であっても、複数の層の積層体の形態のいずれの形態でもよい。
偏光板保護フィルムが２層以上の積層体である場合は、２層構造または３層構造であることがより好ましく、３層構造であることがさらに好ましい。３層構造の場合は、１層のコア層（すなわち、最も厚い層であり、以下、基層とも言う。）と、コア層を挟むスキン層Ａおよびスキン層Ｂとを有することが好ましい。本発明では、はスキン層Ｂ／コア層／スキン層Ａの３層構造であることが好ましい。スキン層Ａは、偏光板保護フィルムが溶液製膜で製造される際に、後述する金属支持体と接する層であり、スキン層Ｂは金属支持体とは逆側の空気界面の層である。なお、スキン層Ａとスキン層Ｂを総称してスキン層（または表層）とも言う。
偏光板保護フィルムの樹脂は、セルロースエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステルカーボネート系樹樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアクリレート系樹脂やポリメタクリレート系樹脂のようなアクリル系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、オレフィンマレイミド系樹脂やグルタルイミド系樹脂などのイミド系樹脂を挙げることができ、これらを単独または混合して用いることができる。上記樹脂のなかでも、分子の配向による複屈折、および、光弾性係数の比較的小さい、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、イミド系樹脂が好ましく、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂がより好ましく、セルロースエステル系樹脂、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂がさらに好ましく、セルロースエステル系樹脂が特に好ましい。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の、偏光板保護フィルム中の含有量もしくは組成物中への添加量は特に限定されないが、偏光板保護フィルムを構成する樹脂１００質量部に対して、０．０１〜３０質量部であることが好ましく、０．０１〜１０質量部であることがより好ましく、１．０〜１０質量部であることが特に好ましい。このような含有量とすることで、本発明の効果であるフィルムの着色抑制が十分に発現でき、さらに、フィルムの透明性も維持される。
また、一般式（Ｉ）で表される化合物を２種類以上含有させる場合も、また一般式（Ａ）で表される化合物と併用する場合も、その合計量が、上記の範囲内であることが好ましい。
以下に、ポリアクリレート系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂およびセルロースエステル系樹脂であるセルロースアシレートを説明する。
［アクリル系樹脂］
本願明細書では、「アクリル系樹脂」には、アクリル系樹脂だけでなく、メタクリル系樹脂をも包含するものである。従って、以降、「アクリル系樹脂」を「（メタ）アクリル系樹脂」とも記載する。
本発明の偏光板保護フィルムは、（メタ）アクリル系樹脂を主成分として含むことが好ましい態様の一つである。
ここで、主成分とは、偏光板保護フィルムに含有される成分のうち、最も含有質量比が大きい成分を指す。偏光板保護フィルム中の（メタ）アクリル系樹脂の含有率は、１０〜１００質量％が好ましく、２０〜１００質量％がより好ましく、３０〜１００質量％がさらに好ましい。
（メタ）アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル系単量体を重合して得られるが、（メタ）アクリル系単量体以外の単量体から得られる構造単位を含んでいてもよい。（メタ）アクリル系樹脂は、なかでも、紫外線吸収性単量体と（メタ）アクリル系単量体を含む単量体組成物を重合して得られるものが好ましい。
紫外線吸収性単量体は、ベンゾフェノン系紫外線吸収性単量体、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性単量体が好ましく、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性単量体がより好ましい。
紫外線吸収性単量体は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記（メタ）アクリル系単量体としては、本発明の効果を損なわない範囲内で、任意の適切な（メタ）アクリル系単量体を採用し得る。例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。好ましくは、（メタ）アクリル酸の炭素数１〜６のアルキルエステルであり、より好ましくは、メタクリル酸メチルである。
（メタ）アクリル系単量体は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記（メタ）アクリル系樹脂として、高い耐熱性、高い透明性、高い機械的強度を有する点で、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。
ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、特開２００２−２５４５４４号公報、特開２００５−１４６０８４号公報、特開２００６−１７１４６４号公報などに記載の、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を製造する際の単量体組成物中に、さらに上記紫外線吸収性単量体が含まれている単量体組成物から製造される（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。
（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００以上２，０００，０００以下であり、より好ましくは５，０００以上１，０００，０００以下であり、さらに好ましくは１０，０００以上１，０００，０００以下である。
［シクロオレフィン系樹脂］
シクロオレフィン系樹脂は、少なくとも一つの極性基を有するシクロオレフィン系樹脂が好ましく、偏光板保護フィルムにした場合、一定の透湿度を示すものが好ましい。
シクロオレフィン系樹脂に少なくとも一つの極性基を有することにより、ジクロロメタン等の有機溶剤への溶解性が向上し、溶液製膜を行うことが可能になる。溶液製膜は溶融製膜に比べて低い温度で製膜できるため、添加剤の分解や揮散が起きにくく好ましい。
極性基としては、例えば、水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミド環含有基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシリル基、アミノ基、アシル基、炭素数１〜１０のアルコキシシリル基、スルホニル含有基、およびカルボキシ基など挙げられる。これらの極性基は、具体的には、アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ等が挙げられ、アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ、プロピオニルオキシ等のアルキルカルボニルオキシ基、およびベンゾイルオキシ等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル等が挙げられ、アリーロキシカルボニル基としては、例えばフェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル、フルオレニルオキシカルボニル、ビフェニリルオキシカルボニル等が挙げられ、トリオルガノシロキシ基としては例えばトリメチルシロキシ、トリエチルシロキシ等が挙げられ、トリオルガノシリル基としてはトリメチルシリル、トリエチルシリル等が挙げられ、アミノ基としては、第１級アミノ基が挙げられ、アルコキシシリル基としては、例えばトリメトキシシリル、トリエトキシシリル等が挙げられる。
これらの中でも、アルコキシカルボニル基が好ましく、メトキシカルボニル基がより好ましい。
シクロオレフィン系樹脂は、下記一般式（ＲＣ）で表される樹脂が好ましい。
Figure 2015180911
一般式（ＲＣ）において、ｔは０または１を表し、ｕは０または１以上の整数を表す。ＬＬはビニレン基またはエチレン基を表し、ＲＣ１〜ＲＣ４は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜３０の炭化水素基または極性基を表し、炭化水素基は、酸素原子、窒素原子、イオウ原子またはケイ素原子を有する連結基を介して結合していてもよい。ここで、ＲＣ１とＲＣ２またはＲＣ３とＲＣ４の２つが互いに結合して２価の炭化水素基を形成してもよく、炭素環またはヘテロ環を形成してもよい。複数のＬＬ、ＲＣ１、ＲＣ２、ＲＣ３およびＲＣ４の各々は同一であっても異なっていてもよい。ＲＣ１〜ＲＣ４の少なくとも一つは極性基であると溶液成膜適性向上の観点で好ましい。
ｕは０〜２の整数が好ましく、０または１がより好ましい。
ＲＣ１〜ＲＣ４におけるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子および臭素原子が挙げられる。
ＲＣ１〜ＲＣ４における炭素数１〜３０の炭化水素基は、例えば、メチル、エチル、プロピル等のアルキル基、シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、ビニル、アリル、プロペニル等のアルケニル基、フェニル、ビフェニル、ナフチル、アントラセニル等のアリール基等が挙げられる。これらの炭化水素基は置換されていてもよく、置換基としては例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、フェニルスルホニル基等が挙げられる。
また、上記炭化水素基は直接環構造に結合していてもよく、あるいは連結基（ｌｉｎｋａｇｅ）を介して結合していてもよい。連結基としては、例えば、−（ＣＨ２）ｍ−（ｍは１〜１０の整数）で表されるアルキレン基等の炭素数１〜１０の２価の炭化水素基、酸素原子、窒素原子、イオウ原子またはケイ素を含む連結基が挙げられる。酸素原子、窒素原子、イオウ原子またはケイ素を含む連結基の具体例としては、カルボニル基［−Ｃ（＝Ｏ）−］、カルボニルオキシ基［−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−］、オキシカルボニル基［−ＯＣ（＝Ｏ）−］、スルホニル基［−ＳＯ２−］、エーテル結合［−Ｏ−］、チオエーテル結合［−Ｓ−］、イミノ基［−ＮＨ−］、アミド結合［−ＮＨ（＝Ｏ）−，−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−］、シロキサン結合［−ＯＳｉ（ＲＣＡ）２−（式中、ＲＣＡはメチル、エチル等のアルキル基）］、およびこれらの基が２種以上連結されてなる基などが挙げられる。
ＲＣ１とＲＣ２またはＲＣ３とＲＣ４の２つが互いに結合して２価の炭化水素基、炭素環またはヘテロ環を形成してもよいが、形成していない方が好ましい。炭素環またはヘテロ環は、単環構造であっても多環構造であってもよく、炭素環やヘテロ環は芳香環であっても非芳香環であってもよいが、非芳香環の方が好ましい。
シクロオレフィン系樹脂の合成法については、特開２００１−１１４８３６号公報の段落番号００３９〜００６８を参考に合成することができる。
シクロオレフィン系樹脂は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度(Ｔｇ)が、７０℃以上であることが好ましく、より好ましくは９０℃〜１８５℃であり、さらに好ましくは、１００〜１６５℃であり、特に１２０〜１６０℃が好ましい。
シクロオレフィン系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは８，０００〜２００，０００である。
シクロオレフィン系樹脂は、飽和吸水率は１質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．８質量％以下である。
シクロオレフィン系樹脂は、クロロホルム中、３０℃で測定される固有粘度（ηｉｎｈ）が、０．１〜１．５ｄｌ／ｇであることが好ましく、さらに好ましくは０．４〜１．２ｄｌ／ｇである。また、１３５℃のデカリン中で測定される極限粘度［η］が、０．０１〜２０ｄｌ／ｇであることが好ましく、より好ましくは０．０３〜１０ｄｌ／ｇ、さらに好ましくは０．０５〜５ｄｌ／ｇであり、ＡＳＴＭ Ｄ１２３８に準じて２６０℃荷重２．１６ｋｇで測定した溶融流れ指数（ＭＦＲ）は、０．１〜２００ｇ／１０分であることが好ましく、より好ましくは１〜１００ｇ／１０分、さらに好ましく５〜５０ｇ／１０分である。
さらに、シクロオレフィン系樹脂の軟化点は、サーマルメカニカルアナライザー（ＴＭＡ）で測定した軟化点として、３０℃以上であることが好ましく、好ましくは７０℃以上、さらに好ましくは８０〜２６０℃である。
また、シクロオレフィン系樹脂は、水添重合体の水素添加率としては、６０ＭＨｚ、１Ｈ−ＮＭＲで測定した値が５０％以上であることが好ましく、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９８％以上である。水素添加率が高いほど、得られるシクロオレフィン系樹脂フィルムは、熱や光に対する安定性が優れたものとなる。また、水添重合体中に含まれるゲル含有量が５質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下である。
シクロオレフィン系樹脂は、非晶性または低結晶性であることが好ましく、Ｘ線回折法によって測定される結晶化度が、２０％以下であることが好ましく、より好ましくは１０％以下、さらに好ましくは２％以下である。
［ポリエステル系樹脂］
ポリエステル系樹脂は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等を用いることができ、他の共重合成分を含んでいてもよい。
本発明の偏光板保護フィルムは、ポリエステル系樹脂を主成分として含むことが好ましい態様の一つであり、偏光板保護フィルム中のポリエステル系樹脂の含有量は、７０〜１００質量％が好ましく、８０〜１００質量％がより好ましく、９０〜１００質量％がさらに好ましい。
ポリエステル系樹脂は、透明性が高く、熱的、機械的特性に優れ、延伸加工によるレタデーションの制御が可能である。
なかでも、ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなレタデーションが得られる点で好ましい。
ポリエステル系樹脂は、常法により、エステル交換反応やジカルボン酸とジオールの重縮合反応によって合成することができる。
ポリエステルフィルムは、一般的なポリエステルフィルムの製造方法に従って製造することができる。例えば、ポリエステル樹脂を溶融し、シート状に押出し成形された無配向ポリエステルをガラス転移温度以上の温度において、ロールの速度差を利用して縦方向に延伸した後、テンターにより横方向に延伸し、熱処理を施す方法が挙げられる。
ポリエステルフィルムは、一軸延伸フィルムであっても、二軸延伸フィルムであっても構わない。
ポリエステルフィルムの製膜において、縦延伸温度、横延伸温度は８０〜１３０℃が好ましく、特に好ましくは９０〜１２０℃である。縦延伸倍率は１．０〜３．５倍が好ましく、特に好ましくは１．０倍〜３．０倍である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、特に好ましくは３．０〜５．５倍である。レタデーションを上記範囲に制御するためには、縦延伸倍率と横延伸倍率の比率を制御することが好ましい。縦横の延伸倍率の差が小さすぎるとレタデーション高くすることが難しくなり好ましくない。また、延伸温度を低く設定することもレタデーションを高くする上では好ましい対応である。続く熱処理においては、処理温度は１００〜２５０℃が好ましく、特に好ましくは１８０〜２４５℃である。
ポリエステル系樹脂の数平均分子量は５０００以上であることが好ましく、６０００以上であることがより好ましく、１００００以上がさらに好ましい。また、ガラス転移温度は特に限定されないが、２０〜９０℃であることが好ましく、３０〜８０℃であることがより好ましい。なお、ポリエチレンテレフタレート樹脂の固有粘度は０．６２ｄｌ／ｇである。
［セルロースアシレート］
本発明において、セルロースアシレートフィルムの主成分となるセルロースアシレートは、１種を用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。例えば、セルロースアシレートは、アシル置換基としてアセチル基のみからなるセルロースアセテートであっても、複数の異なったアシル置換基を有するセルロースアシレートを用いてもよく、異なったセルロースアシレートの混合物であってもよい。
本発明で使用されるセルロースアシレートの原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。原料セルロースは、例えば、丸澤、宇田著，「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」，日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。
本発明では、セルロースアシレートのアシル基は、１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上のアシル基が同一のセルロース中に置換されていてもよい。本発明で使用されるセルロースアシレートは、炭素数２以上のアシル基を置換基として有することが好ましい。炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族のアシル基でも芳香族のアシル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基あるいは芳香族カルボニル基、芳香族アルキルカルボニル基などであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、イソブタノイル、ｔｅｒｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが挙げられる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔｅｒｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどがより好ましく、さらに好ましくはアセチル、プロピオニル、ブタノイルである。
本発明で使用されるセルロースアシレートは、炭素数２〜４のアシル基を置換基として有することが好ましい。２種類以上のアシル基を用いるときは、そのうち１種類がアセチル基であることが好ましく、その他に用いる炭素数２〜４のアシル基としてはプロピオニル基またはブチリル基が好ましい。これらのセルロースアシレートを用いることにより溶解性の好ましい溶液が作製でき、特に非塩素系有機溶媒において、良好な溶液の作製が可能となる。さらに粘度が低く、濾過性のよい溶液の作製が可能となる。
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離のヒドロキシ基を有している。セルロースアシレートは、これらのヒドロキシ基の一部または全部をアシル基によりアシル化した重合体（ポリマー）である。
アシル置換度は、２位、３位および６位に位置するセルロースのヒドロキシ基のアシル化の度合いを示すものであり、全てのグルコース単位の２位、３位および６位のヒドロキシ基がいずれもアシル化された場合、総アシル置換度は３であり、例えば、全てのグルコース単位で、６位のみが全てアシル化された場合、総アシル置換度は１である。同様に、全グルコースの全ヒドロキシ基において、各々のグルコース単位で、６位か、２位のいずれか一方の全てがアシル化された場合も、総アシル置換度は１である。
すなわち、グルコース分子中の全ヒドロキシ基が全てアシル化された場合を３として、アシル化の度合いを示すものである。
アシル置換度の測定方法の詳細については、手塚他，Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ．Ｒｅｓ．，２７３，８３−９１（１９９５）に記載の方法やＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法に準じて測定することができる。
本発明で使用するセルロースアシレートの総アシル置換度をＡとすると、Ａは、１．５以上３．０以下（１．５≦Ａ≦３．０）であることが好ましく、２．００〜２．９７であることがより好ましく、２．５０以上２．９７未満であることがさらに好ましく、２．７０〜２．９５であることが特に好ましい。
また、セルロースアシレートのアシル基としてアセチル基のみを用いたセルロースアセテートにおいては、総アセチル置換度をＢとすると、Ｂは、２．０以上３以下（２．０≦Ｂ≦３．０）であることが好ましく、２．０〜２．９７であることがより好ましく、２．５以上２．９７未満であることがさらに好ましく、２．５５以上２．９７未満がなかでも好ましく、２，６０〜２．９６が特に好ましく、２．７０〜２．９５であることが最も好ましい。
なお、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、総アシル置換度であるＡが２．００を超えたセルロースアシレートに対して、特に効果が発現される。
本発明の光学フィルムのセルロースアシレートフィルムが積層体（複層構成）である場合、セルロースアシレートフィルムは、各層中におけるセルロースアシレートのアシル基置換度は均一であっても、アシル基置換度やアシル基の異なる複数のセルロースアシレートを一つの層に混在させてもよい。
セルロースのアシル化において、アシル化剤としては、酸無水物や酸クロライドを用いた場合、反応溶媒である有機溶媒としては、メチレンクロライドや有機酸、例えば、酢酸等が使用される。
触媒としては、アシル化剤が酸無水物である場合には、硫酸のようなプロトン性触媒が好ましく用いられ、アシル化剤が酸クロライド（例えば、ＣＨ３ＣＨ２ＣＯＣｌ）である場合には、塩基性化合物が用いられる。
最も一般的なセルロースの混合脂肪酸エステルの工業的合成方法は、セルロースをアセチル基および他のアシル基に対応する脂肪酸（酢酸、プロピオン酸、吉草酸等）またはそれらの酸無水物を含む混合有機酸成分でアシル化する方法である。
セルロースアシレートは、例えば、特開平１０−４５８０４号公報に記載されている方法により合成できる。
本発明の偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムは、全固形分中、セルロースアシレートを５〜９９質量％含むことが透湿度の観点から好ましく、２０〜９９質量％含むことがより好ましく、５０〜９５質量％含むことが特に好ましい。
［添加剤］
本発明の偏光板保護フィルム中、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物とともに、特にセルロースアシレートフィルム中には、レタデーション調整剤（レタデーション発現剤およびレタデーション低減剤）や、可塑剤として、重縮合エステル化合物（ポリマー）、多価アルコールの多価エステル、フタル酸エステル、リン酸エステル、糖エステルなど、さらには、紫外線吸収剤、酸化防止剤、マット剤などの添加剤を加えることもできる。
なお、本願明細書では、化合物群を標記するのに、例えば、リン酸エステル系化合物のように、「系」を組み込んで記載することがあるが、これは、上記の場合、リン酸エステル化合物と同じ意味である。
レタデーション低減剤、レタデーション発現剤、可塑剤、多価アルコールエステル系や重縮合エステル系を含めた疎水化剤、炭水化合物誘導体系可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、マット剤は、特開２０１３−２８７８２号公報の段落番号００６１〜０１２６に記載の化合物や素材が好ましく、その含有量も含めた記載内容全てが、本願明細書の一部として好ましく取り込まれる。
（ラジカル捕捉剤）
偏光板保護フィルムには、ラジカル捕捉剤を含むことが好ましい。ラジカル捕捉剤として、ＨＡＬＳ類、レダクトン類が好ましく用いられる。
ＨＡＬＳ類は、特に、２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン環を有する化合物が好ましく、ピペリジンの１位が、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、オキシラジカル基（−Ｏ・）、アシルオキシ基、アシル基であるものが好ましく、４位は水素原子、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、置換基を有してもよいアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であるものがより好ましい。また分子中に２〜５個の２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン環を有するものも好ましい。
このような化合物としては、例えば、Ｓｕｎｌｉｚｅｒ ＨＡ−６２２（商品名、株式会社ソート製）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ２０２０ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０ＤＦ、ＴＩＮＵＶＩＮ １５２、ＴＩＮＵＶＩＮ １２３、ＦＬＡＭＥＳＴＡＢ ＮＯＲ １１６ ＦＦ〔商品名、いずれもＢＡＳＦ社（旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社）製〕、サイアソーブＵＶ−３３４６、サイアソーブＵＶ−３５２９（商品名、いずれもサンケミカル株式会社製）が挙げられる。
レダクトン類としては、特開平６−２７５９９号公報の段落番号００１４〜００３４に例示の化合物、特開平６−１１０１６３号公報の段落番号００１２〜００２０に例示の化合物、特開平８−１１４８９９号公報の段落番号００２２〜００３１に例示の化合物を挙げることができる。
また、アスコルビン酸、エリソルビン酸の油溶化誘導体は好ましく用いることができ、ステアリン酸Ｌ−アスコルビルエステル、テトライソパルミチン酸Ｌ−アスコルビルエステル、パルミチン酸Ｌ−アスコルビルエステル、パルミチン酸エリソルビルエステル、テトライソパルミチン酸エリソルビルエステルなどが挙げられる。なかでも、アスコルビン酸骨格を有するものが好ましく、Ｌ−アスコルビン酸のミリスチン酸エステル、パルミチン酸エステル、ステアリン酸エステルが特に好ましい。
偏光板保護フィルム中のラジカル捕捉剤の含有量は、偏光板保護フィルムを構成する樹脂１００質量部に対して、０．００１〜２．０質量部であり、さらに好ましくは、０．０１〜１．０質量部である。
（劣化防止剤）
偏光板保護フィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。また、紫外線吸収剤も劣化防止剤の１つである。これらの劣化防止剤などは、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号、特開２００６−２５１７４６号の各公報に記載がある。
上記のラジカル補足剤も劣化防止作用を示すが、アミン類も劣化防止剤として知られており、例えば特開平５−１９４７８９号公報の段落番号０００９〜００８０に記載の化合物や、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリイソオクチルアミン、トリス（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルドデシルアミンなどの脂肪族アミンが挙げられる。
また、２個以上のアミノ基を有する多価アミン類を用いることも好ましく、多価アミンとしては、第一級または第二級のアミノ基を２個以上有しているものが好ましい。２個以上のアミノ基を有する化合物としては、含窒素ヘテロ環化合物（ピラゾリジン環、ピペラジン環などを有する化合物）、ポリアミン系化合物（鎖状もしくは環状のポリアミンで、例えば、ジエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（アミノエチル）−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタキス（２−ヒドロキシプロピル）ジエチレントリアミン、ポリエチレンイミン、変性ポリエチレンイミン、シクラムを基本骨格して含む化合物）等が挙げられる。
偏光板保護フィルム中の劣化防止剤の含有量は、質量ベースで１ｐｐｍ〜１０％が好ましく、１ｐｐｍ〜５．０％がより好ましく、１０ｐｐｍ〜１．０％がさらに好ましい。
（剥離促進剤）
偏光板保護フィルムは公知の剥離促進剤を添加してもよい。
剥離促進剤は、有機酸、多価カルボン酸誘導体、界面活性剤またはキレート剤であることが好ましい。例えば、特開２００６−４５４９７号公報の段落番号００４８〜００８１に記載の化合物、特開２００２−３２２２９４号公報の段落番号００７７〜００８６に記載の化合物、特開２０１２−７２３４８号公報の段落番号００３０〜００５６に記載の化合物等を、好ましく用いることができる。偏光板保護フィルム中の剥離促進剤の含有量は、質量ベースで１ｐｐｍ〜５．０％が好ましく、１ｐｐｍ〜２．０％がより好ましい。
以下、偏光板保護フィルムの好ましい物性を、セルロースアシレートフィルムを代表として説明するが、セルロースアシレートのみに限定されるものではない。
〔弾性率（引張り弾性率）〕
セルロースアシレートフィルムは実用上十分な弾性率（引張り弾性率）を示す。弾性率の範囲は特に限定されないが、製造適性およびハンドリング性という観点から１．０〜７．０ＧＰａであることが好ましく、２．０〜６．５ＧＰａであることがより好ましい。本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、セルロースアシレートフィルム中に添加されることにより、セルロースアシレートフィルムを疎水化することで弾性率を向上させる作用があり、その点も本発明における利点である。
（光弾性係数）
セルロースアシレートフィルムの光弾性係数の絶対値は、好ましくは８．０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下、より好ましくは６×１０−１２ｍ２／Ｎ以下、さらに好ましくは５×１０−１２ｍ２／Ｎ以下である。セルロースアシレートフィルムの光弾性係数を小さくすることにより、セルロースアシレートフィルムを偏光板保護フィルムとして液晶表示装置に組み込んだ際に、高温高湿下におけるムラ発生を抑制できる。光弾性係数は、特に断らない限り、以下の方法により測定し算出するものとする。
光弾性率の下限値は特に限定されないが、０．１×１０−１２ｍ２／Ｎ以上であることが実際的である。
セルロースアシレートフィルムを３．５ｃｍ×１２ｃｍに切り出し、荷重なし、２５０ｇ、５００ｇ、１０００ｇ、１５００ｇのそれぞれの荷重におけるレタデーション（Ｒｅ）をエリプソメーター（Ｍ１５０［商品名］、日本分光（株））で測定し、応力に対するＲｅ変化の直線の傾きから光弾性係数を算出する。
（含水率）
セルロースアシレートフィルムの含水率は一定温湿度における平衡含水率を測定することにより評価することができる。平衡含水率は上記温湿度に２４時間放置した後に、平衡に達した試料の水分量をカールフィッシャー法で測定し、水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出したものである。
セルロースアシレートフィルムの２５℃相対湿度８０％における含水率は５質量％以下が好ましく、４質量％以下がさらに好ましく、３質量％未満がより好ましい。セルロースアシレートフィルムの含水率を小さくすることにより、セルロースアシレートフィルムを含む本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして液晶表示装置に組み込んだ際に、高温高湿下における液晶表示装置の表示ムラの発生を抑制することができる。含水率の下限値は特に限定されないが、０．１質量％以上であることが実際的である。
（透湿度）
セルロースアシレートフィルムの透湿度は、ＪＩＳ Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準じ、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、試料を２４時間に通過する水蒸気の質量を測定し、試料面積１ｍ２あたりの２４時間に通過する水蒸気の質量に換算することにより評価することができる。
セルロースアシレートフィルムの透湿度は、５００〜２０００ｇ／ｍ２・ｄａｙであることが好ましく、９００〜１３００ｇ／ｍ２・ｄａｙであることがより好ましい。
（ヘイズ）
セルロースアシレートフィルムは、ヘイズが１％以下であることが好ましく、０．７％以下であることがより好ましく、０．５％以下であることが特に好ましい。ヘイズを上記上限値以下とすることにより、セルロースアシレートフィルムの透明性がより高くなり、光学フィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。ヘイズは、特に断らない限り、下記方法により測定し算出するものとする。ヘイズの下限値は特に限定されないが、０．００１％以上であることが実際的である。
セルロースアシレートフィルム４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％の環境下で、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１３６に従って測定する。
（膜厚）
セルロースアシレートフィルムの平均膜厚は、１０〜１００μｍが好ましく、１５〜８０μｍがより好ましく、１５〜７０μｍがさらに好ましい。１５μｍ以上とすることにより、ウェブ状のフィルムを作製する際のハンドリング性が向上する点から好ましい。また、７０μｍ以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性を維持しやすい。
また、セルロースアシレートフィルムが３層以上の積層構造を有する場合、コア層の膜厚は３〜７０μｍが好ましく、５〜６０μｍがより好ましく、スキン層Ａおよびスキン層Ｂの膜厚は、ともに０．５〜２０μｍがより好ましく、０．５〜１０μｍが特に好ましく、０．５〜３μｍが最も好ましい。
（幅）
セルロースアシレートフィルムの幅は７００〜３０００ｍｍが好ましく、１０００〜２８００ｍｍがより好ましく、１３００〜２５００ｍｍが特に好ましい。
［偏光板保護フィルムの製造方法］
偏光板保護フィルムの製造方法、特にセルロースアシレートフィルムの製造方法は、特に限定されるものではないが、溶融製膜法または溶液製膜法により製造することが好ましい。溶液製膜法（ソルベントキャスト法）による製造がより好ましい。ソルベントキャスト法を利用したセルロースアシレートフィルムの製造例については、米国特許第２，３３６，３１０号、同第２，３６７，６０３号、同第２，４９２，０７８号、同第２，４９２，９７７号、同第２，４９２，９７８号、同第２，６０７，７０４号、同第２，７３９，０６９号および同第２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号および同第７３６８９２号の各明細書、並びに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号および同６２−１１５０３５号等の各公報を参考にすることができる。また、セルロースアシレートフィルムは、延伸処理を施されていてもよい。延伸処理の方法および条件については、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号等の各公報を参考にすることができる。
（流延方法）
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタイプ等があるが、いずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも、従来知られているセルロースアシレート溶液を流延製膜する種々の方法で実施することができ、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することにより、それぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。
・共流延
偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムの形成においては共流延法、逐次流延法、塗布法などの積層流延法を用いることが好ましく、特に同時共流延法を用いることが、安定製造および生産コスト低減の観点から特に好ましい。
共流延法および逐次流延法により製造する場合には、先ず、各層用の偏光板保護フィルムに使用する樹脂および本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を含む組成物の溶液（ドープ）を調製する。共流延法（重層同時流延）は、流延用支持体（バンドまたはドラム）の上に、各層（３層あるいはそれ以上でも良い）各々の流延用ドープを別のスリットなどから同時に押出す流延用ギーサからドープを押出して、各層同時に流延し、適当な時期に支持体から剥ぎ取って、乾燥しフィルムを成形する流延法である。
逐次流延法は、流延用支持体の上に先ず第１層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して、流延し、乾燥あるいは乾燥することなく、その上に第２層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延する要領で、必要なら第３層以上まで逐次ドープを流延・積層して、適当な時期に支持体から剥ぎ取って乾燥し、偏光板保護フィルムを成形する流延法である。塗布法は、一般的には、コア層を溶液製膜法によりフィルム状に成形し、表層に塗布する塗布液を調製し、適当な塗布機を用いて、コア層の片面ずつまたは両面同時に塗布液を塗布・乾燥して積層構造の偏光板保護フィルムを成形する方法である。
偏光板保護フィルムを製造するのに使用される、エンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト（バンドといってもよい）が用いられる。使用される加圧ダイは、金属支持体の上方に１基または２基以上の設置でもよい。好ましくは１基または２基である。２基以上設置する場合には、流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられるドープ（樹脂溶液）の温度は−１０〜５５℃が好ましく、より好ましくは２５〜５０℃である。その場合、工程のすべての溶液温度が同一でもよく、または工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。
また、上記金属支持体の材質については特に制限はないが、ＳＵＳ製（例えば、ＳＵＳ３１６）であることがより好ましい。
（剥離）
偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムの製造方法では、上記ドープ膜を金属支持体から剥ぎ取る工程を含むことが好ましい。偏光板保護フィルムの製造方法における剥離の方法については特に制限はなく、前述の剥離促進剤の添加など公知の方法を用いた場合に剥離性を改善することができる。
（延伸処理）
偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムの製造方法では、機械物性の調整や位相差の付与などを目的として製膜された延伸する工程を含むことができる。偏光板保護フィルムの延伸方向は偏光板保護フィルム搬送方向（ＭＤ方向）と搬送方向に直交する方向（ＴＤ方向）のいずれでも好ましいが、偏光板保護フィルム搬送方向に直交する方向（ＴＤ方向）であることが、後に続く偏光板保護フィルムを用いた偏光板加工プロセスの観点から特に好ましい。
ＴＤ方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。ＭＤ方向の延伸の場合、例えば、偏光板保護フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、偏光板保護フィルムの剥ぎ取り速度よりも偏光板保護フィルムの巻き取り速度の方を速くすると偏光板保護フィルムは延伸される。ＴＤ方向の延伸の場合、偏光板保護フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによっても偏光板保護フィルムを延伸できる。偏光板保護フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
偏光板保護フィルムを偏光子の保護膜として使用する場合には、偏光板を斜めから見たときの光漏れを抑制するため、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルムの面内の遅相軸を平行に配置する必要がある。連続的に製造されるロールフィルム状の偏光子の透過軸は、一般的に、ロールフィルムの幅方向に平行であるので、上記ロールフィルム状の偏光子とロールフィルム状の偏光板保護フィルムからなる保護膜を連続的に貼り合せるためには、ロールフィルム状の保護膜の面内遅相軸は、偏光板保護フィルムの幅方向に平行であることが必要となる。従ってＴＤ方向により多く延伸することが好ましい。また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。
ＴＤ方向の延伸は５〜１００％の延伸が好ましく、より好ましくは５〜８０％、特に好ましくは５〜４０％延伸を行う。なお、未延伸とは延伸が０％であることを意味する。延伸処理は製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。前者の場合には残留溶剤量を含んだ状態で延伸を行ってもよく、残留溶剤量＝（残存揮発分質量／加熱処理後フィルム質量）×１００％が０．０５〜５０％で好ましく延伸することができる。残留溶剤量が０．０５〜５％の状態で５〜８０％延伸を行うことが特に好ましい。
（乾燥）
偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムの製造方法では、偏光板保護フィルムを乾燥する工程と、乾燥後の偏光板保護フィルムをガラス転移温度（Ｔｇ）−１０℃以上の温度で延伸する工程とを含むことが、レタデーション発現性の観点から好ましい。
金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には、金属支持体（ドラムまたはベルト）の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラムまたはベルトの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をベルトやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラムまたはベルトを加熱し表面温度をコントロールする裏面液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度は、ドープに用いられている溶媒の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も沸点の低い溶媒の沸点より１〜１０℃低い温度に設定することが好ましい。なお流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
偏光板保護フィルムの厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。
以上のようにして得られた、偏光板保護フィルムの長さは、１ロール当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。
大画面用液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いる場合は、例えば、フィルム幅を１４７０ｍｍ以上として成形するのが好ましい。また、本発明の偏光板保護フィルムには、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様のフィルムのみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様のフィルムも含まれる。後者の態様の偏光板保護フィルムは、その状態で保管・搬送等され、実際に液晶表示装置に組み込む際や偏光子等と貼り合わされる際に、所望の大きさに切断されて用いられる。また、同様に長尺状に作製されたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子等と、長尺状のまま貼り合わされた後に、実際に液晶表示装置に組み込む際に、所望の大きさに切断されて用いられる。ロール状に巻き上げられた光学補償フィルムの一態様としては、ロール長が２５００ｍ以上のロール状に巻き上げられた態様が挙げられる。
＜＜機能性層＞＞
本発明の偏光板保護フィルムにおいて、偏光板保護フィルム上に所望により目的に応じた機能性層を設けることができる。機能性層としては、ハードコート層、反射防止層、光散乱層、防汚層、帯電防止層、等が挙げられ、これらは一層で複数の機能を兼ねていていてもよい。
一例として、ハードコート層は、偏光板保護フィルムに硬度や耐傷性を付与するための層である。例えば、塗布組成物を偏光板保護フィルム上に塗布し、硬化させることによって、一般式（Ｉ）で表される化合物と相俟って偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムと密着性の高いハードコート層を形成することができる。ハードコート層にフィラーや添加剤を加えることで、機械的、電気的、光学的などの物理的な性能や撥水・撥油性などの化学的な性能をハードコート層自体に付与することもできる。ハードコート層の厚みは０．１〜６μｍが好ましく、３〜６μｍがさらに好ましい。このような範囲の薄いハードコート層を有することで、脆性やカール抑制などの物性改善、軽量化および製造コスト低減がなされたハードコート層を含む偏光板保護フィルムになる。
ハードコート層は、硬化性組成物を硬化することで形成するのが好ましい。硬化性組成物は液状の塗布組成物として調製されるのが好ましい。塗布組成物の一例は、マトリックス形成バインダー用モノマーまたはオリゴマー、ポリマー類および有機溶媒を含有する。この塗布組成物を塗布後に硬化することでハードコート層を形成することができる。硬化には、架橋反応、または重合反応を利用することができる。
［［偏光子］］
［樹脂］
本発明の偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましく用いられる。本発明における偏光子は、ポリビニルアルコール樹脂を主成分とするものであり、通常は、偏光子の８０質量％以上を占める。ポリビニルアルコールは通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性ポリビニルアルコール系樹脂も用いることができる。
ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は特に限定されないが、溶解性等の観点から８０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％が特に好ましい。また、ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は特に限定されないが、１，０００〜１０，０００が好ましく、１，５００〜５，０００が特に好ましい。
延伸前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムの弾性率は、好ましくは、ヤング率で表すと０．１ＭＰａ以上５００ＭＰａ以下で、更に好ましくは１ＭＰａ以上１００ＭＰａ以下である。
このような範囲とすることで、延伸後のシワ発生抑制効果に優れ、十分な強度を有するポリビニルアルコール系樹脂フィルムを製造することができる。
延伸前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムの厚みは、特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、１μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０〜２００μｍが特に好ましい。また、延伸後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムの膜厚は２〜１００μｍが好ましく、光モレ改良のためには７〜２５μｍが好ましい。この厚さによって、偏光子のフィルムの厚さが定められる。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の、偏光子中の含有量もしくは組成物中への添加量は特に限定されないが、偏光子を構成する樹脂１００質量部に対して、０．０１〜３０質量部であることが好ましく、０．０１〜１０質量部であることがより好ましく、１．０〜１０質量部であることが特に好ましい。
また、一般式（Ｉ）で表される化合物を２種類以上含有させる場合も、また一般式（Ａ）で表される化合物と併用する場合も、その合計量が、上記の範囲内であることが好ましい。
＜＜二色性色素＞＞
本発明の偏光子は、二色性色素を含む。ここで、二色性色素とは、本明細書中、方向により吸光度の異なる色素のことを言い、ヨウ素イオン、ジアゾ系色素、キノン系色素、その他公知の二色性染料などが含まれる。二色性色素としては、Ｉ３ −やＩ５ −などの高次のヨウ素イオンもしくは二色性染料を好ましく使用することができる。
本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編，ＣＭＣ出版や工業材料，第２８巻，第７号，ｐ．３９〜ｐ．４５に記載されているようにヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液および／またはホウ酸水溶液にポリビニルアルコールを浸漬し、ポリビニルアルコールに吸着・配向した状態で生成することができる。
二色性色素の含有量としては、ポリビニルアルコール系樹脂に対して０．１〜５０質量部が好ましく、０．５〜２０質量部がより好ましく、１．０〜５．０質量部がさらに好ましい。
本発明の偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂、二色性色素、および本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の他に、必要に応じて、可塑剤、界面活性剤を添加してもよい。
＜偏光子の製造方法＞
本発明の偏光子の製造方法は、ポリビニルアルコール系樹脂と、ポリビニルアルコール系樹脂に対して１．０〜１０質量部含有する本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物とを有するポリビニルアルコール系樹脂溶液をフィルム状に製膜する工程と、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸する工程と、二色性色素により延伸後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを染色する工程とを含む。
本発明の偏光子の製造方法としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂をフィルム化した後、ヨウ素を導入して偏光子を構成することが好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの製造は、特開２００７−８６７４８号公報の段落番号０２１３〜０２３７に記載の方法、特許第３３４２５１６号公報、特開平０９−３２８５９３号公報、特開２００１−３０２８１７号公報、特開２００２−１４４４０１号公報等を参考にして行うことができる。また、一般式（Ｉ）で表される化合物をポリビニルアルコール系樹脂に添加するタイミングについても特に制限はない。
ポリビニルアルコール系樹脂溶液をフィルム状に製膜する工程では、水に対して攪拌しながらポリビニルアルコール系樹脂を添加し、ポリビニルアルコール系樹脂を水または有機溶媒に溶解した原液を調製することが好ましい。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、好ましくは５〜２０質量％である。また、得られたスリラーを脱水し、含水率４０％程度のポリビニルアルコール系樹脂ウェットケーキを一度調製してもよい。さらにその後添加剤を加える場合は、例えば、ポリビニルアルコールのウェットケーキを溶解槽に入れ、可塑剤、水を加え、槽底から水蒸気を吹き込みながら攪拌する方法が好ましい。内部樹脂温度は５０〜１５０℃に加温することが好ましく、系内を加圧してもよい。
また、偏光子中に本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物をこの工程で加えることが、偏光子中に一般式（Ｉ）で表される化合物を均一に分散する観点から好ましい。また、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の添加はポリビニルアルコールのウェットケーキを溶解槽に入れた後で、槽底から水蒸気を吹き込みながら攪拌する方法が好ましい。
さらに、本発明では、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する接着剤を用いて、偏光子と偏光板保護フィルムを貼り合せること、または本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する接着剤を用いて、偏光子と基板（液晶セル）を貼り合せることで、偏光板を製造することも好ましく、これによって、貼り合せた層にも本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を含ませることが可能となり、本発明の化合物が偏光子（層）と接触することができるため好ましい。
なお、本発明では、以下の工程で、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を含む偏光子を製造することが好ましい。
ポリビニルアルコール系樹脂と、一般式（Ｉ）で表される化合物とを有するポリビニルアルコール系樹脂溶液をフィルム状に製膜する工程と、
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸する工程と、
二色性色素により延伸後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを染色する工程と、
ホウ酸により染色後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを架橋する工程と、
を含む。
本発明では、上記で調製したポリビニルアルコール系樹脂溶液原液を流延して成膜する方法が一般に好ましく用いられる。流延の方法としては、特に制限はないが、加熱したポリビニルアルコール系樹脂溶液原液を２軸押し出し機に供給し、ギアポンプにより排出手段（好ましくはダイ、より好ましくはＴ型スリットダイ）から支持体上に流涎して製膜することが好ましい。また、ダイからの排出される樹脂溶液の温度については特に制限はない。
支持体としては、キャストドラムが好ましく、ドラムの直径、幅、回転速度、表面温度については、特に制限はない。その中でも、キャストドラムの直径は２０００〜５０００ｍｍが好ましく、２５００〜４５００ｍｍがより好ましく、３０００〜３５００ｍｍが特に好ましい。
キャストドラムの幅は２〜６ｍが好ましく、３〜５ｍがより好ましく、４〜５ｍが特に好ましい。
キャストドラムの回転速度は２〜２０ｍ／分が好ましく、４〜１２ｍ／分がより好ましく、５〜１０ｍ／分が特に好ましい。
キャストドラムのキャストドラム表面温度は４０〜１４０℃が好ましく、６０〜１２０℃がより好ましく、８０〜１００℃であることが特に好ましい。
Ｔ型スリットダイ出口の樹脂温度は４０〜１４０℃が好ましく、６０〜１２０℃がより好ましく、８０〜１００℃が特に好ましい。
その後、得られたロールの裏面と表面とを乾燥ロールに交互に通過させながら乾燥を行なうことが好ましい。乾燥ロールの直径、幅、回転速度、表面温度については、特に制限はない。その中でも、キャストドラムの直径は２００〜４５０ｍｍが好ましく、２５０〜４００ｍｍがより好ましく、３００〜３５０ｍｍが特に好ましい。
また、得られたフィルムの長さについても特に制限はなく、２０００ｍ以上、好ましくは４０００ｍ以上の長尺のフィルムとすることができる。フィルムの幅についても、特に制限はないが、２〜６ｍが好ましく、３〜５ｍがより好ましい。
ポリビニルアルコール系樹脂溶液をフィルム状に製膜した後、フィルムを延伸する。延伸は、米国特許第２，４５４，５１５号明細書などに記載されているような、縦一軸延伸方式、もしくは特開２００２−８６５５４号公報に記載されているようなテンター方式を好ましく用いることができる。好ましい延伸倍率は２倍〜１２倍であり、さらに好ましくは３倍〜１０倍である。また、延伸倍率と原反厚さと偏光子厚さの関係は特開２００２−０４０２５６号公報に記載されている（偏光板保護フィルム貼合後の偏光子膜厚／原反膜厚）×（全延伸倍率）＞０．１７としたり、最終浴を出た時の偏光子の幅と偏光板保護フィルム貼合時の偏光子幅の関係は特開２００２−０４０２４７号公報に記載されている０．８０≦（偏光板保護フィルム貼合時の偏光子幅／最終浴を出た時の偏光子の幅）≦０．９５としたりすることも好ましく行うことができる。
延伸後、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素により染色する。染色は、気相または液相吸着により行われる。液相で行う場合の例として、二色性色素としてヨウ素を用いる場合には、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液に偏光子用ポリマーフィルムを浸漬させて行われる。ヨウ素は０．１〜２０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは１〜２００ｇ／ｌ、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は１〜２００が好ましい。染色時間は１０〜５０００秒が好ましく、液温度は５〜６０℃が好ましい。染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。染色工程は、本発明の延伸工程の前後いずれに置いてもよいが、適度に膜が膨潤され延伸が容易になることから、延伸工程前に液相で染色することが特に好ましい。
また、染色は、特開２００２−８６５５４号公報に記載の方法を用いることができる。また、染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素または染料溶液の塗布もしくは噴霧等、任意の手段が可能である。また、特開２００２−２９００２５号公報に記載されているように、ヨウ素の濃度、染色浴温度、浴中の延伸倍率、および浴中の浴液を攪拌させながら染色させる方法を用いてもよい。
なお、特許第３１４５７４７号公報に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加してもよい。
その他の工程として、膨潤工程、硬膜工程、乾燥工程を行ってもよい。これらの工程は、特開２０１１−２３７５８０号公報の段落番号００３９〜００５０に記載されており、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
［［接着剤層］］
本発明の偏光板と偏光板保護フィルム、偏光子等の各構成部材の積層方法としては、接着剤層を使用することが好ましい。接着剤層の特性によって異なるが、接着剤層が粘着性を持つ場合はそのまま貼り合わせて使うことができる。なお、その際に鹸化処理など接着性を向上させる工程を含めてもよい。
［接着剤層に用いられる樹脂］
接着剤層に用いられる樹脂としては、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物との相溶性を有し、貼り合わせるための機能を有する樹脂であれば特に限定されない。接着剤層として接着の形態にも限定されず、粘性を有する粘着剤を用いてもよく、乾燥や反応により接着性を発現する接着剤でもよい。本発明において、接着剤層とは、接着剤の他に粘着剤も併せて意味するものとする。
本発明における接着剤層は、樹脂を主成分とするものであり、通常は、接着剤層の６０質量％以上を占める。好ましくは接着剤層の７０質量％以上を占める。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の、接着剤層中の含有量もしくは組成物中への添加量は特に限定されないが、接着剤層を構成する樹脂１００質量部に対して、０．０１〜３０質量部であることが好ましく、０．０１〜１０質量部であることがより好ましく、１〜１０質量部であることが特に好ましい。
また、一般式（Ｉ）で表される化合物を２種類以上含有させる場合や、一般式（Ａ）で表される化合物と併用する場合も、その合計量が、上記の範囲内であることが好ましい。
接着剤層は例えば、接着剤を所定の割合で含有する塗布液を偏光板保護フィルムおよび偏光子の少なくとも一方の表面に塗布し、乾燥することで形成される。塗布液の調製方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。塗布液としては、例えば、市販の溶液または分散液を用いてもよく、市販の溶液または分散液にさらに溶剤を添加して用いてもよく、固形分を各種溶剤に溶解または分散して用いてもよい。
接着剤としては、目的に応じて任意の適切な性質、形態および接着機構を有する接着剤が用いられ得る。具体的には、接着剤として、例えば、水溶性接着剤、紫外線硬化型接着剤、エマルジョン型接着剤、ラテックス型接着剤、マスチック接着剤、複層接着剤、ペースト状接着剤、発泡型接着剤、およびサポーテッドフィルム接着剤、熱可塑型接着剤、熱溶融型接着剤、熱固化接着剤、ホットメルト接着剤、熱活性接着剤、ヒートシール接着剤、熱硬化型接着剤、コンタクト型接着剤、感圧性接着剤、重合型接着剤、溶剤型接着剤、溶剤活性接着剤等が挙げられ、水溶性接着剤および紫外線硬化型接着剤が好ましい。特に、本発明の偏光板において偏光子隣接層が接着剤から形成された接着剤層の場合、これらの中でも、透明性、接着性、作業性、製品の品質および経済性に優れる水溶性接着剤が好ましく用いられる。
（Ａ）水溶性接着剤
水溶性接着剤は、例えば、水に可溶な天然高分子および合成高分子の少なくとも一方を含有してもよい。天然高分子としては、例えば、たんぱく質や澱粉等が挙げられる。合成高分子としては、例えば、レゾール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレンオキシド、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系樹脂を含有する水溶性接着剤が好ましく用いられる。特に、本発明の偏光板では、偏光子隣接層がポリビニルアルコール系樹脂を含有する水溶性接着剤を含むことが、偏光子との接着性に極めて優れ、かつ、偏光板保護フィルムとの接着性にも優れる観点から好ましい。
また、接着剤としては接着の形態にも限定されず、接着剤が粘性を有する粘着剤を用いてもよく、乾燥や反応により接着性を発現する接着剤でもよい。
粘着剤としては、任意の適切な粘着剤が採用され得る。具体的には、粘着剤として、例えば、溶剤型粘着剤、非水系エマルジョン型粘着剤、水系粘着剤、ホットメルト粘着剤等が挙げられる。特に、接着剤層が粘着剤から形成される場合、これらの中でも、アクリル系ポリマーをベースポリマーとする溶剤型粘着剤が好ましく用いられる。これは、偏光子および偏光板保護フィルムに対して適度な粘着特性（例えば、ぬれ性、凝集性および接着性）を示し、かつ、光学透明性、耐候性および耐熱性に優れるからである。
（金属化合物コロイド）
水溶性接着剤には、金属化合物を含んでいてもよい。特に、ポリビニルアルコール系樹脂等を含有する水溶性接着剤は、さらに、金属化合物コロイドを含んでいることが、高湿下での偏光子耐久性を改善する観点から好ましい。これは、偏光子と偏光板保護フィルムとの界面で生じる局所的な凹凸欠陥である「クニック」の発生を防止可能となり、偏光板を高湿下で耐久性試験を行ったときに偏光子へ環境湿度由来の水分が流入することを防ぐことにつながるためである。
金属化合物コロイドは、例えば、金属化合物微粒子が分散媒中に分散しているものであってもよく、微粒子の同種電荷の相互反発に起因して静電的に安定化し、永続的に安定性を有するものであってもよい。金属化合物を形成する微粒子の平均粒子径は、特に制限されないが、好ましくは、１〜１００ｎｍの範囲であり、より好ましくは、１〜５０ｎｍの範囲であり、２〜４０ｎｍであることが特に好ましい。これは、微粒子を接着剤層中に均一に分散させ、接着性を確保しながら、より好適にクニックの発生を防止でき、偏光子耐久性を改善することができるからである。
金属化合物としては、任意の適切な化合物を採用し得る。金属化合物としては、例えば、アルミナ、シリカ、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、炭酸亜鉛、炭酸バリウム、リン酸カルシウム等の金属塩、セライト、タルク、クレイ、カオリン等の鉱物等が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、アルミナである。
金属化合物（好ましくは、金属化合物コロイド）を配合する場合、その配合量は、接着剤層を構成する樹脂（接着剤）に対し、４０質量％以下であることが好ましく、１〜３０質量％であることがより好ましい。
（その他の添加剤）
本発明における接着剤層には、上記の他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、他の化合物を配合してもよい。
例えば、接着剤層とフィルム層または偏光子層との密着性を向上させるため、ホウ酸などの架橋剤が挙げられる。ホウ酸の場合、接着剤層中に含有させることで、ポリマー中のヒドロキシル基の結合と架橋構造を形成するため、密着性が向上することが知られている。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、さらにこのようなホウ酸とポリマー中のヒドロキシ基の結合を促進する効果を有する。セルロースアシレート系偏光板保護フィルムのように、表面がけん化処理によりヒドロキシ基を多数有する偏光板保護フィルムの場合、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を接着剤層に添加することにより、接着剤層と偏光子層間、および接着剤層と偏光板保護フィルム間のホウ酸架橋が促進され、密着性をより向上させることができる。
なお、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂など、フィルム表面にヒドロキシ基を含有しない様態であっても、同様にけん化処理等によりヒドロキシ基を有するフィルムに変更させることができるため、同様の効果が得られる。
上記のような架橋剤と本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、ヒドロキシ基を多数有するポリマーであるポリビニルアルコールやセルロースアシレート樹脂との組み合わせが特に好ましい。
ホウ酸を配合する場合、その配合量は、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物に対し、１〜１０００質量％が好ましく、１０〜１００質量％がより好ましい。
その他の添加剤としては、例えば、連鎖移動剤、増感剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤などが挙げられる。これらの添加剤を配合する場合、その配合量は、接着剤層を構成する樹脂（接着剤）に対し、４０質量％以下が好ましく、０．１〜３０質量％がより好ましい。
これらの接着剤層に用いる樹脂の材料やそれらの取扱いに関する事項ついては、特開２０１２−０１４１４８号公報の段落番号００６９〜０１３８や、特開２００９−２４４８００号公報の段落番号００１３〜００２０、特開２０１０−２３０８０６号公報の段落番号００３９〜００８６、特開２００９−１３９６５８号公報の段落番号０１１４〜０１１９等の記載を参照することができる。
接着剤層の厚みは、使用目的や接着力等に応じて、適宜、設定され得る。具体的には、接着剤層に粘着剤を用いる場合、接着剤層の厚みは、好ましくは、０．１〜５０μｍの範囲であり、より好ましくは、０．５〜２０μｍの範囲であり、さらに好ましくは、１〜１５μｍの範囲であり、特に好ましくは、５〜１０μｍの範囲である。
接着剤層に接着剤を用いる場合、接着剤層の厚みは、好ましくは、１０〜５００ｎｍの範囲であり、より好ましくは、１０〜４００ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは、２０〜３５０ｎｍの範囲である。
（Ｂ）紫外線硬化型接着剤
本発明の偏光板における接着剤層としては、紫外線硬化型接着剤層も好ましく用いることができる。紫外線硬化型接着剤を用いることにより、偏光板保護フィルムと偏光子とを高い接着強度で接着することができる。本明細書中、紫外線硬化型接着剤層とは、紫外線硬化型接着剤が紫外線により硬化されてなる層のことをいう。
（紫外線硬化型接着剤の組成）
紫外線硬化型接着剤としては、その硬化の様式により分類すると、ラジカル重合型接着剤、カチオン重合型接着剤などが挙げられ、接着剤成分の化学種により分類すると、アクリル樹脂系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤などが挙げられる。本発明においては、これらのいずれを用いてもよく、また、これらの２種以上の混合物を用いてもよいが、取り扱いの容易さ、得られる接着強度などの観点から、カチオン重合型のエポキシ樹脂系接着剤が好適に用いられる。エポキシ樹脂とは、分子内に平均２個以上のエポキシ基を有し、エポキシ基を伴う重合反応により硬化する化合物またはポリマーをいい、この分野での慣例に従い、モノマーであってもエポキシ樹脂と称する。
紫外線硬化型接着剤に含有されるエポキシ樹脂としては、耐候性、屈折率およびカチオン重合性などの観点から、分子内に芳香環を含まないエポキシ樹脂が好適に用いられる。分子内に芳香環を含まないエポキシ樹脂としては、水素化エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。
水素化エポキシ樹脂は、芳香族エポキシ樹脂を触媒の存在下、加圧下で選択的に核水素化反応を行うことにより得ることができる。芳香族エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ビスフェールＦのジグリシジルエーテルおよびビスフェノールＳのジグリシジルエーテルなどのビスフェノール型エポキシ樹脂；フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂およびヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラックエポキシ樹脂などのノボラック型のエポキシ樹脂；テトラヒドロキシフェニルメタンのグリシジルエーテル、テトラヒドロキシベンゾフェノンのグリシジルエーテルおよびエポキシ化ポリビニルフェノールなどの多官能型のエポキシ樹脂などが挙げられる。なかでも、水素化エポキシ樹脂として、水素化されたビスフェノールＡのグリシジルエーテルを用いることが好ましい。
脂肪族エポキシ樹脂としては、脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテルを挙げることができる。より具体的には、１，４−ブタンジオールのジグリシジルエーテル；１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル；グリセリンのトリグリシジルエーテル；トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル；ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル；プロピレングリコールのジグリシジルエーテル；および、エチレングリコール、プロピレングリコールまたはグリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド等）を付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。
エポキシ樹脂としては、水素化エポキシ樹脂がより好ましい。
本発明において、エポキシ樹脂は、１種のみを単独で使用してもよいし、あるいは２種以上を併用してもよい。
本発明で使用するエポキシ樹脂のエポキシ当量は、通常、３０〜３，０００ｇ／当量、好ましくは５０〜１，５００ｇ／当量の範囲内である。エポキシ当量が３０ｇ／当量を上回ると、硬化後の接着剤層の可撓性が良好となり、接着強度が良好となる。一方、３，０００ｇ／当量以下であれば、接着剤に含有される他の成分との相溶性が良好となる。
本発明においては、上記のように、エポキシ樹脂の硬化反応としてカチオン重合が好ましく用いられる。そのためには、紫外線硬化型接着剤は、光カチオン重合開始剤を含むことが好ましい。光カチオン重合開始剤は、紫外線の照射によって、カチオン種またはルイス酸を発生し、エポキシ基の重合反応を開始させる。いずれのタイプのカチオン重合開始剤を用いてもよいが、潜在性が付与されていることが、作業性の観点から好ましい。
光カチオン重合開始剤を用い、紫外線の照射により接着剤の硬化を行なう方法は、常温での硬化が可能となり、偏光子の耐熱性あるいは膨張による歪を考慮する必要が減少し、また、偏光板保護フィルムと偏光子とを良好に接着できる点において有利である。また、光カチオン重合開始剤は、光で触媒的に作用するため、これをエポキシ樹脂に混合しても、接着剤は保存安定性および作業性に優れる。
光カチオン重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩、および鉄−アレン錯体などを挙げることができる。
カチオン重合開始剤は、それぞれ単独で使用してもよいし、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。これらのなかでも、特に芳香族スルホニウム塩は、３００ｎｍ以上の波長領域でも紫外線吸収特性を有することから、硬化性に優れ、良好な機械的強度および接着強度を有する硬化物を与えることができるため、好ましく用いられる。
光カチオン重合開始剤の配合量は、エポキシ樹脂１００質量部に対して、通常０．５〜１００重量部であり、好ましくは１質量部以上、また好ましくは５０質量部以下である。光カチオン重合開始剤の配合量をこの範囲とすることで、十分に硬化し、機械的強度または接着強度が保たれる。また、光カチオン重合開始剤の配合量が、エポキシ樹脂１００質量部に対して、１００質量部以下であれば、硬化物中のイオン性物質が増加し難いため硬化物の吸湿性が高くなり過ぎず、偏光板の耐久性能が低下し難い。
光カチオン重合開始剤を用いる場合、紫外線硬化型接着剤は、必要に応じて、さらに光増感剤を含有することができる。光増感剤を使用することで、カチオン重合の反応性が向上し、硬化物の機械的強度および接着強度を向上させることができる。光増感剤としては、例えば、カルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合物、アゾおよびジアゾ化合物、ハロゲン化合物ならびに光還元性色素などが挙げられる。光増感剤は、それぞれ単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。光増感剤は、紫外線硬化型接着剤１００質量部中、０．１〜２０質量部の範囲内で含有されることが好ましい。
紫外線硬化型接着剤は、オキセタン類やポリオール類など、カチオン重合を促進させる化合物をさらに含有してもよい。
紫外線硬化型接着剤は、本発明の効果を損なわない限り、その他の添加剤、例えば、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、増感剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤などを含有することができる。イオントラップ剤としては、例えば、粉末状のビスマス系、アンチモン系、マグネシウム系、アルミニウム系、カルシウム系、チタン系などの無機化合物およびこれらの混合物が挙げられる。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤などが挙げられる。
接着剤層に、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を使用する場合、偏光板保護フィルムの樹脂が、セルロースアシレートであってかつ水溶性接着剤（なかでもポリビニルアルコール系樹脂）を使用する場合は、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は水溶性の化合物が好ましい。
これは、偏光子（層）に本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物が拡散しやすいためであり、本発明において最も優れた効果が得られる。
一方、偏光板保護フィルムの樹脂が、アクリル系樹脂やシクロオレフィン系樹脂のような天然物を素材としない合成樹脂であって、紫外線硬化型接着剤を使用する場合は、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は準水溶性の化合物が好ましい。
なお、水溶性の化合物は、水への溶解度が、２５℃で水１００ｍｌに０．１ｇ以上溶解することが好ましく、１．０ｇ以上がより好ましく、１．０〜３０．０ｇがさらに好ましい。準水溶性の化合物は、水への溶解度が、２５℃で水１００ｍｌに０．０１〜５．０ｇ溶解することが好ましく、０．０５〜５．０ｇがより好ましく、０．１〜５．０ｇがさらに好ましい。
（偏光子と接着剤層の積層方法）
偏光子と接着剤層の積層方法は、偏光子と接着剤層を積層する工程、即ち本発明の積層体の製造方法を含む。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の添加時期は、製品となった時点で含有されていれば特に限定されない。
偏光子に接着剤層を積層させる方法は特に限定されないが、製造の制御や効率の観点では塗布による積層を好ましく用いることができる。
塗布方法としても、任意の適切な方法が採用され得る。塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、ディップコート法、バーコート法等が挙げられる。
＜＜偏光板＞＞
本発明の偏光板は、偏光子と偏光板保護フィルムとを少なくとも有する。本発明の偏光板は、偏光子と偏光子の片面または両面に本発明の偏光板保護を有することが好ましい。また、本発明において、偏光板は、本発明の偏光板用組成物を含んで形成されるもので、偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層の少なくともいずれかの層中に本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を含有もしくは添加されている。
本発明の偏光板保護フィルムの偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸と本発明の偏光板保護フィルムの遅相軸が実質的に直交、平行または４５°となるように貼り合せることが好ましい。本発明の液晶表示装置において、偏光板の透過軸と本発明の偏光板保護フィルムの遅相軸が実質的に直交であることが好ましい。ここで、実質的に直交であるとは、本発明の偏光板保護フィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とが９０°±１０°の角度で交わっていることを意味し、９０°±５°の角度で交わっていることが好ましく、９０°±１°の角度で交わっていることがより好ましい。上記範囲とすることで、偏光板クロスニコル下での光抜けをより低減することができる。遅相軸の測定は、公知の種々の方法で測定することができ、例えば、複屈折計（ＫＯＢＲＡ ＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて行うことができる。
本発明の偏光板は、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様（例えば、ロール長２５００ｍ以上や３９００ｍ以上の態様）の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、偏光板の幅は１４７０ｍｍ以上とすることが好ましい。本発明の偏光板の具体的な構成については、特に制限はなく公知の構成を採用できるが、例えば、特開２００８−２６２１６１号公報の図６に記載の構成を採用することができる。
＜＜表示装置＞＞
本発明は偏光子を利用する表示装置用途として好ましく用いられる。
この様な表示装置として液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置の反射防止用途等が挙げられる。
液晶表示装置を例として説明すると、本発明の液晶表示装置は、液晶セルと本発明の偏光板とを少なくとも有する。本発明の液晶表示装置において、偏光板、後述する第一偏光板および第二偏光板を有する場合には少なくとも一方が、本発明の偏光板であるＩＰＳ、ＯＣＢまたはＶＡモードの液晶表示装置であることが好ましい。
本発明の液晶表示装置は、好ましくは、液晶セルと、液晶セルの両側に積層され、液晶セル側とは反対側の面に偏光板保護フィルムを具備する偏光板とを有している。すなわち、本発明の液晶表示装置は、第一偏光板、液晶セルおよび第二偏光板を有し、偏光板それぞれと液晶セルとで挟持される偏光板面と反対面に本発明の偏光板保護フィルムを具備しているのが好ましい。このような構成を有する液晶表示装置は、表示ムラの抑制に優れ、高い表示性能を発揮する。
また、本発明の液晶表示装置は、好ましくは、視認側に配置された偏光板が視認側の偏光板保護フィルム表面上にハードコート層を有する偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムを有している。このような構成を有する液晶表示装置は、表示ムラの抑制に優れた高い表示性能に加えて、優れた耐擦傷性と光耐久性を発揮する。
本発明の液晶表示装置として、典型的な液晶表示装置の内部構成を図１および図２に示した。図１には、セルロースアシレートフィルムからなる本発明の偏光板保護フィルム３１ａおよび３１ｂが偏光子３２の両表面に配置された偏光板２１Ａおよび２１Ｂを有する液晶表示装置が図示されている。また、図２には、視認側に配置された偏光板２１Ｂが偏光子３２の視認側表面にセルロースアシレートフィルム３１１ａを介してハードコート層３１１ｂを有する偏光板保護フィルム３１ａ’を具備する液晶表示装置が図示されている。
なお、図１および図２に、本発明の液晶表示装置の一例についての構成を示したが、本発明の液晶表示装置の具体的な構成としては特に制限はなく公知の構成を採用できる。また、特開２００８−２６２１６１号公報の図２に記載の構成も好ましく採用することができる。
以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、これにより本発明が限定して解釈されるものではない。
〔一般式（Ｉ）で表される化合物の合成〕
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を以下のようにして合成した。
代表的な化合物の合成例を以下に示す。
（例示化合物Ａの合成）
下記合成スキームで例示化合物Ａを合成した。
Figure 2015180911
（ｉ）中間体Ａの合成
ベンジルアミン９．０ｇ（８４．０ｍｍｏｌ）とトルエン１００ｍＬをフラスコに入れ、０℃に冷却し、ここにフェニルイソシアネート１０．０ｇ（８４．０ｍｍｏｌ）を１０分間かけて滴下した。滴下後、３０分間攪拌し、４０℃まで昇温し２時間攪拌し、これを溶液（Ａ）とした。一方で、ベンジルマロン酸ジエチル２７．３ｇ（１０９．２ｍｍｏｌ）をフラスコに入れ、ここに２ＭのＮａＯＨ水溶液２００ｍＬを２０分間かけて滴下した。滴下後、７０℃まで昇温し２時間攪拌した。その後、０℃まで冷却し、濃塩酸４０ｍＬを３０分間かけて滴下した。滴下後、ＮａＣｌ８６ｇと酢酸エチル２００ｍＬを加え、４０℃で１時間攪拌した。その後、有機層を濃縮した。これと無水酢酸６１．５ｇ（６０２．２ｍｍｏｌ）を先ほどの溶液（Ａ）に加え、７５℃で２間攪拌した。反応後、減圧下で濃縮し、これにメタノール１００ｍＬと濃硫酸０．１ｍＬを加え、２時間加熱還流を行った。その後、メタノールを留去し、２５℃でトルエン１００ｍＬと１ＭのＮａＯＨ水溶液８４ｍＬを加え、２５℃で１間攪拌した。水層を０℃に冷却し、ここに３Ｍの塩酸８０ ｍＬを３０分間かけて滴下すると生成物の結晶が析出した。さらに１０℃で１時間攪拌して、析出した結晶を吸引ろ過し、冷却したメタノール水（メタノール／水＝１／３)で１回かけ洗いし、結晶を乾燥することにより中間体Ａを３０．９ｇ（８０．４ｍｍｏｌ）得た。収率９６％、純度９７．８９％であった。
（ｉｉ）例示化合物Ａの合成
中間体Ａ ５．０ｇ（１３．０ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン２．４ｍＬ（１６．９１ｍｍｏｌ）とジクロロメタン５０ｍＬをフラスコに入れ、５℃に冷却し、ここにクロロギ酸メチル１．１ｍＬ（１４．３１ｍｍｏｌ）を１０分間かけて滴下した。滴下後、３０分間攪拌し、２５℃まで昇温し２４時間攪拌した。その後、１Ｍの塩酸５０ｍＬを加え有機層を分液し、１０％炭酸ナトリウム水溶液を加え、有機層を抽出した。得られた有機層を濃縮し、そこにヘキサン１００ｍＬを加え、析出した結晶を吸引ろ過し、ヘキサン５０ｍＬで１回かけ洗いし、結晶を乾燥することにより、例示化合物Ａを０．６３ｇ（１．４２ｍｍｏｌ）得た。収率１１％、純度９４．８８％であった。
例示化合物Ａの１Ｈ−ＮＭＲのスペクトルデータ
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ６）:δ＝７．０−７．３（ｍ，１５Ｈ）, ５．１５（ｓ，２Ｈ）,３．７３（ｓ，２Ｈ），３．５１（ｓ，３Ｈ）
（例示化合物Ｂ〜Ｏの合成）
例示化合物Ａと同様にして、例示化合物Ｂ〜Ｏを合成した。
Figure 2015180911
Figure 2015180911
なお、以下の実施例では、比較化合物として、以下の化合物を使用した。
Figure 2015180911
実施例１
〔〔偏光板保護フィルム添加での性能〕〕
〔偏光板の作製〕
１．偏光板Ｎｏ．１０１
１）セルロースアセテート樹脂の調製
触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、酢酸を添加し４０℃でセルロースのアセチル化反応を行った。またアセチル化後に４０℃で熟成を行った。さらにこのセルロースアセテートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。
触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を添加し、酢酸を添加し４０℃でアセチル化反応を行った。またアセチル化後に４０℃で熟成を行った。さらにこのセルロースアセテートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。
得られたセルロースアシレートは、総アセチル置換度（Ｂ）２．８７、重合度３７０であった。
２）偏光板保護フィルムの作製
上記のようにして調製したセルロースアシレートを用いた下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
総アセチル置換度（Ｂ）２．８７、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
例示化合物Ａ ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液を、バンド流延機を用いて流延し、１００℃で残留溶媒含量４０％まで乾燥した後、フィルムを剥ぎ取った。剥ぎ取ったフィルムは、さらに１４０℃の雰囲気温度で２０分乾燥させた。得られた偏光板保護フィルムＮｏ．１０１の膜厚は２５μｍであった。
３）偏光板の作製
（ａ）偏光板保護フィルムの鹸化処理
上記で作製した偏光板保護フィルムＮｏ．１０１を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
（ｂ）偏光板の作製
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
鹸化処理した偏光板保護フィルムＮｏ．１０１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の片側に貼り付けた。市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）も同様の鹸化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、鹸化処理した偏光板保護フィルムＮｏ．１０１が貼り付けてある側とは反対側の偏光子の面に、鹸化処理済みの上記市販のセルローストリアセテートフィルムを貼り付けた。
この際、偏光子の透過軸と、鹸化処理済みの偏光板保護フィルムＮｏ．１０１の遅相軸とが平行になるように配置した。また、偏光子の透過軸と鹸化処理済みの市販のセルローストリアセテートフィルムの遅相軸についても、直交するように配置した。
このようにして、偏光板Ｎｏ．１０１を作製した。
２．偏光板Ｎｏ．１０２〜１２２、ｃ１１〜ｃ１５の作製
偏光板Ｎｏ．１０１の作製において、偏光板保護フィルムＮｏ．１０１を下記表１に示すような添加剤の種類と添加量に変更し、偏光板保護フィルムの厚みを下記表１のように変更した偏光板保護フィルムＮｏ．Ｎｏ．１０２〜１２２、ｃ１１〜ｃ１５を作製し、これらの偏光板保護フィルムを偏光板保護フィルムＮｏ．１０１と置き換えた以外は偏光板Ｎｏ．１０１と同様にして偏光板Ｎｏ．１０２〜１２２、ｃ１１〜ｃ１５を作製した。
３．偏光板Ｎｏ．１２３の作製
１）アクリル樹脂ペレットの作製
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた３０Ｌ反応釜に、７０００ｇのメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、１０００ｇの２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２０００ｇの２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）、１００００ｇのトルエンを仕込み、これに窒素を通じつつ１０５℃まで昇温し、還流したところで、開始剤として１０．０ｇのターシャリーアミルパーオキシイソノナノエート（アルケマ吉富製、商品名：ルパゾール５７０）を添加すると同時に、２０．０ｇの開始剤と１００ｇのトルエンからなる溶液を４時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１１０℃）で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。
得られた重合体溶液に、１０ｇのリン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（堺化学製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−１８）を加え、還流下（約９０〜１１０℃）で５時間、環化縮合反応を行った。次いで、このようにして環化縮合反応で得られた重合体溶液を、バレル温度２６０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出し機（Φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時間の処理速度で導入し、押出し機内で環化縮合反応と脱揮を行い、押出すことにより、透明なラクトン環含有アクリル系樹脂ペレット（Ａ）を得た（Ｍｗ＝２００，０００）。
ラクトン環含有アクリル系樹脂ペレット（Ａ）のラクトン環化率は９７．０％であった。
上記アクリル系樹脂ペレット（Ａ）１００質量部に対して、例示化合物Ａを４質量部、２軸混練機にて２３０℃にて混合し、樹脂ペレットＮｏ．１２３を作製した。
２）偏光板保護フィルムの作製
得られた樹脂ペレットＮｏ．１２３を、８００Ｐａ（６Ｔｏｒｒ）、１００℃で１２時間乾燥させ、単軸の押出機にてダイス温度を２９０℃でＴダイから押出し、厚み２３μｍの偏光板保護フィルムＮｏ．１２３を作製した
３）偏光板の作製
上記で得られた偏光板保護フィルムＮｏ．１２３と偏光板Ｎｏ．１０１で使用した偏光子を、紫外線硬化型樹脂を用いて貼り合わせ、偏光板Ｎｏ．１１４を作製した。
４．偏光板Ｎｏ．１２４の作製
１）シクロオレフィン系樹脂Ｐの合成
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２．５，１７．１０］−３−ドデセン ５０ｇと、１−ヘキセン（分子量調節剤）３．６ｇと、トルエン１００ｇとを窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒としてトリエチルアルミニウム（０．６モル／ｌ）のトルエン溶液０．０９ｍｌと、メタノールで変性した六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５モル／ｌ）０．２９ｍｌとを添加し、この系を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。
次いで、水素添加触媒として、モノマーの仕込量に対して５００ｐｐｍとなる量のＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ６Ｈ５）３］３を添加し、水素ガス圧９．０〜１０．０ＭＰａ、１６０〜１６５℃、３時間の条件で水素添加反応を行った。反応が終了した後、大量のイソプロピルアルコール溶液に加えて沈殿させ、凝固物を分離回収し、これを乾燥して、ノルボルネン系開環重合体水素添加物を得た。以下、これをシクロオレフィン系重合体Ｐとする。
２）偏光板保護フィルムの作製
シクロオレフィン系重合体Ｐを用いた下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、シクロオレフィン系重合体溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
シクロオレフィン系重合体溶液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・シクロオレフィン系重合体Ｐ １００．０質量部
・紫外線吸収剤（Ｃ） ２．４質量部
・例示化合物Ａ ４．０質量部
・メチレンクロライド（溶媒） ３２５．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
Figure 2015180911
バンド流延装置を用い、上記のように調製したドープ（シクロオレフィン系重合体溶液）をステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５〜１０質量％の状態で、１００℃の温度下で幅方向に１．０５倍（５％）延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、偏光板保護フィルムＮｏ．１２４のシクロオレフィン系フィルムを得た。得られたシクロオレフィン系フィルムの厚みは２３μｍであった。
３）偏光板の作製
上記で得られた偏光板保護フィルムＮｏ．１２４と偏光板Ｎｏ．１０１で使用した偏光子を、紫外線硬化型樹脂を用いて貼り合わせ、偏光板Ｎｏ．１１５を作製した。
５．偏光板Ｎｏ．１２５の作製
１）ポリエステルフィルムの製造
（１）ポリエステルＡの製造
エステル化反応缶を昇温し２００℃に到達した時点で、テレフタル酸を８６．４質量部およびエチレングリコール６４．６質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを０．０１７質量部、酢酸マグネシウム４水和物を０．０６４質量部、トリエチルアミン０．１６質量部を仕込んだ。次いで、加圧昇温を行いゲージ圧０．３４ＭＰａ、２４０℃の条件で加圧エステル化反応を行った後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸０.０１４質量部を添加した。さらに、１５分かけて２６０℃に昇温し、リン酸トリメチル０．０１２質量部を添加した。次いで１５分後に、高圧分散機で分散処理を行い、１５分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、２８０℃で減圧下重縮合反応を行った。
重縮合反応終了後、９５％カット径が５μｍのナスロン製フィルターで濾過処理を行い、ノズルからストランド状に押出し、予め濾過処理（孔径：１μｍ以下）を行った冷却水を用いて冷却、固化させ、ペレット状にカットした。得られたポリエチレンテレフタレート樹脂（Ａ）の固有粘度は０．６２ｄｌ／ｇであり、不活性粒子及び内部析出粒子は実質上含有していなかった。（以後、ＰＥＴ（Ａ）と略す。）
（２）ポリエステルＢの製造
乾燥させた紫外線吸収剤（２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジノン−４−オン）１０質量部、例示化合物Ａを４質量部、粒子を含有しないＰＥＴ（Ａ）（固有粘度が０．６２ｄｌ／ｇ）９０質量部を混合し、混練押出機を用い、紫外線吸収剤含有するポリエチレンテレフタレート樹脂（Ｂ）を得た。（以後、ＰＥＴ（Ｂ）と略す。）
（３）接着性改質塗布液の調整
常法によりエステル交換反応および重縮合反応を行って、ジカルボン酸成分として（ジカルボン酸成分全体に対して）テレフタル酸４６モル％、イソフタル酸４６モル％および５−スルホナトイソフタル酸ナトリウム８モル％、グリコール成分として（グリコール成分全体に対して）エチレングリコール５０モル％およびネオペンチルグリコール５０モル％の組成の水分散性スルホン酸金属塩基含有共重合ポリエステル樹脂を調製した。次いで、水５１．４質量部、イソプロピルアルコール３８質量部、ｎ−ブチルセルソルブ５質量部、ノニオン系界面活性剤０．０６質量部を混合した後、加熱撹拌し、７７℃に達したら、上記水分散性スルホン酸金属塩基含有共重合ポリエステル樹脂５質量部を加え、樹脂の固まりが無くなるまで撹拌し続けた後、樹脂水分散液を常温まで冷却して、固形分濃度５．０質量％の均一な水分散性共重合ポリエステル樹脂液を得た。さらに、凝集体シリカ粒子（富士シリシア（株）社製、サイリシア３１０）３質量部を水５０質量部に分散させた後、上記水分散性共重合ポリエステル樹脂液９９．４６質量部にサイリシア３１０の水分散液０．５４質量部を加えて、撹拌しながら水２０質量部を加えて、接着性改質塗布液を得た。
２）偏光板保護フィルムの作製
基材フィルム中間層用原料として粒子を含有しないＰＥＴ（Ａ）樹脂ペレット９０質量部と紫外線吸収剤、例示化合物Ａを含有したＰＥＴ（Ｂ）樹脂ペレット１０質量部を１３５℃で６時間減圧乾燥（１Ｔｏｒｒ）した後、押出機２（中間層ＩＩ層用）に供給し、また、ＰＥＴ（Ａ）を常法により乾燥して押出機１（外層Ｉ層および外層ＩＩＩ用）にそれぞれ供給し、２８５℃で溶解した。この２種のポリマーを、それぞれステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）で濾過し、２種３層合流ブロックにて、積層し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。この時、Ｉ層、ＩＩ層、ＩＩＩ層の厚さの比は１０：８０：１０となるように各押し出し機の吐出量を調整した。
次いで、リバースロール法により、この未延伸ＰＥＴフィルムの両面に乾燥後の塗布量が０．０８ｇ／ｍ２になるように、上記接着性改質塗布液を塗布した後、８０℃で２０秒間乾燥した。
この塗布層を形成した未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１２５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に４．０倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、３０秒間で処理し、さらに幅方向に３％の緩和処理を行い、フィルム厚み約５０μｍの一軸配向ＰＥＴフィルムを得た。
このようにして、偏光板保護フィルムＮｏ．１２５を作製した。
３）偏光板の作製
上記で得られた偏光板保護フィルムＮｏ．１２５と偏光板Ｎｏ．１０１で使用した偏光子を、接着性改質塗布液からなる接着剤を用いて貼り合わせ、偏光板Ｎｏ．１２５を作製した。
（性能評価）
上記のようにして作製した各偏光板保護フィルムの耐光密着性と各偏光板の耐久性を、以下のようにして評価した。
１）耐久性の評価
偏光板耐久性試験は偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた形態で次のように行った。
ガラスの上に偏光板を上記で作製した偏光板保護フィルムが空気界面側になるように貼り付けたサンプル（約５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作製した。単板直交透過率測定ではこのサンプルのフィルムの上記で作製した偏光板保護フィルムの側を光源に向けてセットして測定した。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を偏光板の直交透過率とした。偏光板の直交透過率は、日本分光（株）製、自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ−７０７０を用いて３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で測定し、劣化の度合いが他の波長より顕著に出る波長４１０ｎｍにおける測定値を採用した。
その後、６０℃、相対湿度９５％の環境下で５００時間および１０００時間保存したサンプルと、８０℃、Ｄｒｙの環境下で５００時間および１０００時間保存したサンプルを作製し、波長４１０ｎｍの直交透過率を経時保存前と同様の手法で測定した。経時前後の直交透過率の変化を求め、これを偏光板特性の偏光子耐久性として下記基準で評価した。
なお、調湿なしの環境下での相対湿度は、０〜２０％の範囲であった。
ここで、直交透過率の変化量とは下記式で算出されたものである。
直交透過率の変化量（％）＝［耐久性試験後の直交透過率（％）−耐久性試験前の直交透過率（％）］
−経時条件−
耐久性試験はいずれの場合もＡランク以上であることが実用上望ましい。
ａ）偏光板保護フィルムの厚みが２３〜２５μｍの場合
６０℃、相対湿度９５％の環境下で５００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％以上０．６％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．６％以上０．８％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．８％以上
６０℃、相対湿度９５％の環境下で１０００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が１．０％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が１．０％以上１．４％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が１．４％以上１．６％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が１．６％以上
８０℃、Ｄｒｙの環境下で５００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％以上０．３％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．３％以上０．５％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．５％以上
８０℃、Ｄｒｙの環境下で１０００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．５％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．５％以上０．８％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．８％以上１．０％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が１．０％以上
ｂ）偏光板保護フィルムの厚みが４０μｍの場合
６０℃、相対湿度９５％の環境下で５００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．２％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．２％以上０．４％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％以上０．６％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．６％以上
６０℃、相対湿度９５％の環境下で１０００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．７％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．７％以上１．０％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が１．０％以上１．２％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が１．２％以上
８０℃、Ｄｒｙの環境下で５００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．２％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．２％以上０．４％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％以上０．５％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．５％以上
８０℃、Ｄｒｙの環境下で１０００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．６％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．６％以上０．８％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．８％以上１．０％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が１．０％以上
ｃ）偏光板保護フィルムの厚みが６０μｍの場合
６０℃、相対湿度９５％の環境下で５００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．２％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．２％以上０．３％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．３％以上０．４％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％以上
６０℃、相対湿度９５％の環境下で１０００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％以上０．６％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．６％以上０．８％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．８％以上
８０℃、Ｄｒｙの環境下で５００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％以上０．２％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．２％以上０．３％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．３％以上
８０℃、Ｄｒｙの環境下で１０００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．３％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．３％以上０．５％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．５％以上０．６％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．６％以上
ｄ）偏光板保護フィルムの厚みが８０μｍの場合
６０℃、相対湿度９５％の環境下で５００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％以上０．２％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．２％以上０．２５％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．２５％以上
６０℃、相対湿度９５％の環境下で１０００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．３％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．３％以上０．４％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％以上０．５％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．５％以上
８０℃、Ｄｒｙの環境下で５００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．０７％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．０７％以上０．１％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％以上０．２％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．２％以上
８０℃、Ｄｒｙの環境下で１０００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％以上０．３％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．３％以上０．４％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％以上
（ハードコート層付き光学フィルムの作製）
下記表に記載の各成分を混合した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
ハードコート層溶液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
モノマー ペンタエリスリトールトリアクリレート／
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（混合質量比３／２）
５３．５質量部
光（紫外線）重合開始剤 ＩｒｇａｃｕｒｅＴＭ９０７
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製） １．５質量部
酢酸エチル ４５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記製造した各偏光板保護フィルムの空気側表面上に、上記ハードコート層用塗布液を、マイクログラビア塗工方式で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布した。６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層（厚み６μｍ）を形成した。
この様にして、各偏光板保護フィルムの空気側表面上に、ハードコート層を形成し、ハードコート層付き偏光板保護フィルムをそれぞれ作製した。
２）耐光密着性の評価
以下のようにして、評価した。
まず、上記で作製した各ハードコート層付き偏光板保護フィルムに対して、（株）スガ試験機社製スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５で、６０℃、相対湿度５０％の環境下に９６時間光を照射した。
次にハードコート層付き偏光板保護フィルムのそれぞれを、温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。ハードコート層を有する側の表面に、ハードコート層付き偏光板保護フィルム１ｃｍ角に対してカッターナイフで碁盤目状に各々１ｍｍ間隔で、縦１１本、横１１本の切り込みを入れて、１ｍｍ角の正方形の升目を合計１００個刻み、その面に日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を貼りつけた。３０分経時した後に、垂直方向にテープを素早く引き剥がし、剥がれた升目の数を数えて、下記３段階の基準で評価した。同じ密着評価を３回行って平均をとった。結果を下記表１に示す。
評価基準
Ａ ：１００升において剥がれが１０升以下であった。
Ｂ ：１００升において１１〜２０升の剥がれが認められた。
Ｃ ：１００升において２１〜３０升の剥がれが認められた。
得られた結果をまとめて、下記表１に示す。
Figure 2015180911
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を偏光板保護フィルムに使用すると、偏光板の耐久性（偏光子耐久性）、特に経時変化における性能が改善され、かつ耐光密着性も改善される。このような効果は、従来の化合物では得られないことがわかる。
実施例２
〔偏光子層添加での性能〕
（偏光子の作製）
１．偏光子Ｎｏ．２０１の作製
５００Ｌのタンクに１８℃の水２００ｋｇを入れ、攪拌しながら、重量平均分子量１６５０００、鹸化度９９．８モル％のポリビニルアルコール系樹脂４２ｋｇを加え、１５分間攪拌した。得られたスラリーを脱水し、含水率４０質量％のポリビニルアルコール系樹脂ウェットケーキを得た。
得られたポリビニルアルコール系樹脂ウェットケーキ７０ｋｇ（樹脂分４２ｋｇ）を溶解槽に入れ、可塑剤としてグリセリン４．２ｋｇ、添加剤の例示化合物Ａ ０．４２ｋｇ（ポリビニルアルコール系樹脂に対して１．０質量部）、水１０ｋｇを加え、槽底から水蒸気を吹き込んだ。内部樹脂温度が５０℃になった時点で攪拌（回転数：５ｒｐｍ）を行い、内部樹脂温度が１００℃になった時点で系内を加圧し、１５０℃まで昇温した後、水蒸気の吹き込みを停止した（水蒸気の吹き込み量は計７５ｋｇ）。３０分間攪拌（回転数：２０ｒｐｍ）を行い均一に溶解した後、濃度調整により水に対するポリビニルアルコール系樹脂濃度２３％のポリビニルアルコール系樹脂水溶液を得た。
次にポリビニルアルコール系樹脂水溶液（液温１４７℃）を第一のギアポンプより２軸押し出し機に供給し、脱法した後、第二のギアポンプにより排出した。排出されたポリビニルアルコール系樹脂水溶液を、Ｔ型スリットダイ（ストレートマニホールダイ）よりキャストドラムに流延して製膜した。流延製膜の条件は以下の通りである。
キャストドラム直径：３２００ｍｍ
キャストドラム幅４．３ｍ
キャストドラム回転速度：８ｍ／分
キャストドラム表面温度：９０℃、
Ｔ型スリットダイ出口の樹脂温度：９５℃
得られた膜の表面と裏面とを下記の条件にて複数の乾燥ロールを交互に通過させながら乾燥を行った。
乾燥ロール直径：３２０ｍｍ
乾燥ロール幅：４．３ｍ
乾燥ロール本数（ｎ）：１０本
乾燥ロール回転速度：８ｍ／分
乾燥ロール表面速度：５０℃
上記で作製したポリビニルアルコールフィルム（長さ４０００ｍ、幅４ｍ、厚み５０μｍ）を４０℃の温水に２分間浸漬し、膨潤処理した後、１．３０倍に延伸した。得られたフィルムを、ホウ酸（Ｓｏｃｉｅｔａ Ｃｈｉｍｉｃａ Ｌａｒｄｅｒｅｌｌｏ ｓ．ｐ．ａ社製）１７．２ｇ／Ｌ、ヨウ素（純正化学社製）０．１５ｇ／Ｌ、ヨウ化カリウム（純正化学社製）０．６ｇ／Ｌを含有した水溶液中で３０℃、２分浸漬してヨウ素およびヨウ化物による染色処理を行った。染色処理して得られたフィルムを５．０倍に一軸延伸しながらホウ酸３０．０ｇ／Ｌ含有した５０℃の水溶液中で５分間処理を行った。得られたフィルムを７０℃で９分間乾燥処理を行った。なお、このとき、偏光子はｐＨ４．３程度のホウ酸溶液で架橋処理をしたのみであり、その他に酸性溶液で処理する工程は行わなかった。
２．偏光子Ｎｏ．２０２〜２１４、ｃ２１〜ｃ２５の作製
偏光子Ｎｏ．２０１の作製において、添加剤の種類と添加量を下記表２に示す組み合わせに変更した以外は偏光子Ｎｏ．２０１と同様にして偏光子Ｎｏ．２０２〜２１４、ｃ２１〜ｃ２５を作製した。
（偏光板の作製）
１．偏光板Ｎｏ．２０１の作製
富士フイルム社製セルロースアセテートフィルム（フジタックＴＧ４０、およびＺＲＴ４０）を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥し、偏光板保護フィルムの表面を鹸化処理した。
鹸化処理した偏光板保護フィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記のように製造した偏光子Ｎｏ．２０１の片側に、それぞれ一枚ずつ貼り付けた。この際、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルム（セルローストリアセテートフィルム）の遅相軸とは、直交するように配置した。
このようにして偏光板Ｎｏ．２０１を作製した。
２．偏光板Ｎｏ．２０２〜２１４、ｃ２１〜ｃ２５の作製
偏光板Ｎｏ．２０１の作製において、偏光子Ｎｏ．２０１を偏光子Ｎｏ．２０２〜２１４、ｃ２１〜ｃ２５に変更し、使用する偏光板保護フィルムを下記表２の組み合わせに変更した以外は偏光板Ｎｏ．２０１と同様にして偏光板Ｎｏ．２０２〜２１４、ｃ２１〜ｃ２５を作製した。
（性能評価）
上記のようにして作製した各偏光子でのブリードアウト性と各偏光板の耐久性を、以下のようにして評価した。また、添加剤の水に対する溶解性を比較した。
１）添加剤の水に対する溶解性
２５℃において、純水１００ｍｌに溶解する添加剤の量を測定し、以下の基準で評価した。
評価基準
Ａ ：５ｇ以上
Ｂ ：１ｇ以上５ｇ未満
Ｃ ：１ｇ未満
２）偏光子でのブリードアウト性
以下のようにして、評価した。
〔ヘイズ評価〕
上記で得られた各偏光子フィルム中のヘイズを測定し、下記Ａ〜Ｃの基準で評価した。
ヘイズの測定は、各偏光子フィルムをヘイズメーター“ＨＧＭ−２ＤＰ”（商品名、スガ試験機（株）製）を用い、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に従って測定した。
評価基準
Ａ ：ヘイズが０．３％未満
Ｂ ：ヘイズが０．３％以上０．７％未満
Ｃ ：ヘイズが０．７％以上
３）耐久性の評価
偏光板耐久性試験は偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた形態で次のように行った。
ガラスの上に偏光板を下記表２に示す偏光板保護フィルムが空気界面側になるように貼り付けたサンプル（約５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作製した。単板直交透過率測定ではこのサンプルのフィルムのガラス側の偏光板保護フィルムの側を光源に向けてセットして測定した。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を偏光板の直交透過率とした。
一方、偏光度は、上記で得られた直交透過率に加え、平行透過率の測定により、以下の式により算出した。
偏光度（％）＝［（直交透過率−平行透過率）／（直交透過率＋平行透過率）］１／２×１００
偏光板の直交透過率および偏光度は、日本分光（株）製、自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ−７０７０を用いて３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で測定し、劣化の度合いが他の波長より顕著に出る波長４１０ｎｍにおける測定値を採用した。
その後、６０℃、相対湿度９５％の環境下で５００時間および１０００時間保存したサンプルと、８０℃、Ｄｒｙの環境下で５００時間および１０００時間保存したサンプルを作製し、波長４１０ｎｍの直交透過率を経時保存前と同様の手法で測定した。経時前後の直交透過率の変化量および偏光度の変化量を求め、これを偏光板特性における偏光子耐久性として下記基準で評価した。
なお、調湿なしの環境下での相対湿度は、０〜２０％の範囲であった。
ここで、偏光度の変化量とは下記式で算出されたものである。
偏光度の変化量（％）＝［耐久性試験後の偏光度（％）−耐久性試験前の偏光度（％）］
−経時条件−
耐久性試験はいずれの場合もＡランク以上であることが実用上望ましい。
６０℃、相対湿度９５％の環境下で５００時間
直交透過率変化量（％）
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％以上０．４％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％以上０．８％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．８％以上
偏光度変化量（％）
Ａ＋：経時前後の偏光度変化量が０．０５％未満
Ａ ：経時前後の偏光度変化量が０．０５％以上２．０％未満
Ｂ ：経時前後の偏光度変化量が２．０％以上３．０％未満
Ｃ ：経時前後の偏光度変化量が３．０％以上
６０℃、相対湿度９５％の環境下で１０００時間
直交透過率変化量（％）
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．５％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．５％以上１．０％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が１．０％以上１．６％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が１．６％以上
偏光度変化量（％）
Ａ＋：経時前後の偏光度変化量が１．０％未満
Ａ ：経時前後の偏光度変化量が１．０％以上４．０％未満
Ｂ ：経時前後の偏光度変化量が４．０％以上６．０％未満
Ｃ ：経時前後の偏光度変化量が６．０％以上
８０℃、Ｄｒｙの環境下で５００時間
直交透過率変化量（％）
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．０５％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．０５％以上０．１％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％以上０．２％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．２％以上
偏光度変化量（％）
Ａ＋：経時前後の偏光度変化量が０．０５％未満
Ａ ：経時前後の偏光度変化量が０．０５％以上１．０％未満
Ｂ ：経時前後の偏光度変化量が１．０％以上２．０％未満
Ｃ ：経時前後の偏光度変化量が２．０％以上
８０℃、Ｄｒｙの環境下で１０００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％以上０．３％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．３％以上０．４％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％以上
偏光度変化量（％）
Ａ＋：経時前後の偏光度変化量が０．１％未満
Ａ ：経時前後の偏光度変化量が０．１％以上２．０％未満
Ｂ ：経時前後の偏光度変化量が２．０％以上４．０％未満
Ｃ ：経時前後の偏光度変化量が４．０％以上
得られた結果をまとめて下記表２に示す。
Figure 2015180911
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を偏光子に使用すると、偏光板の耐久性（偏光子耐久性）、特に経時変化における性能、直交透過率変化量および偏光度変化量が少なく、偏光板の耐久性が大幅に改善される。
偏光度変化量は、経時に伴う変化量の影響をより受けやすいが、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を偏光子に使用した偏光板では、比較例の化合物を偏光子に使用した偏光板と比べてより効果的に変化量を低減することができた。以上の結果から、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を偏光子層に含有させることで、効果的に作用したことがわかる。
このような効果は、従来の化合物では得られないことがわかる。
実施例３
〔接着層添加での性能〕
（接着剤層の調製）
１．接着剤層Ｎｏ．３０１の水溶性接着剤の調製
例示化合物Ｂおよび金属化合物コロイドを含むポリビニルアルコール系樹脂を含有する水溶性接着剤を、以下の方法に従って調製した。
アセトアセチル基含有ポリビニルアルコール系樹脂（日本合成化学工業（株）製、商品名「ゴーセファイマーＺ２００」、平均重合度：１２００、鹸化度：９８．５モル％、アセトアセチル化度：５モル％）１００質量部と、メチロールメラミン５０質量部とを３０℃の温度条件下で純粋に溶解し、固形分濃度３．７％に調整した水溶液を得た。この水溶液１００質量部に対して、アルミナコロイド水溶液（平均粒子径１５ｎｍ、固形分濃度１０％、正電荷）１８質量部、添加剤の化合物Ａ ０．１質量部を加えて水溶性接着剤を調製した。
２．接着剤層Ｎｏ．３０２〜３１４、ｃ３１〜ｃ３５の水溶性接着剤の調製
接着剤層Ｎｏ．３０１の水溶性接着剤の調製において、添加剤の種類と添加量を下記表３のように変更した以外は、接着剤層Ｎｏ．３０１と同様にして、接着剤層Ｎｏ．３０２〜３１４、ｃ３１〜ｃ３５の水溶性接着剤を調製した。
（偏光板の作製）
１．偏光板Ｎｏ．３０１の作製
富士フイルム社製セルロースアセテートフィルム（フジタックＴＧ４０、およびＺＲＴ４０）を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、偏光板保護フィルムについて表面の鹸化処理を行った。
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
鹸化処理した偏光板保護フィルムを、上記で調製した接着剤層Ｎｏ．３０１のポリビニルアルコール系接着剤を、接着剤層の厚みが５μｍになるように塗布し、偏光子の片側に、それぞれ一枚ずつ貼り付けた。この際、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルム（セルローストリアセテートフィルム）の遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして得られた偏光板を、６０〜９０℃のオーブンで５分間乾燥させた。乾燥後、偏光板を、８０℃のオーブン内を１０分間かけて通過させることにより、加熱処理（アニール処理）を行うことで、偏光板Ｎｏ．３０１を作製した。
２．偏光板Ｎｏ．３０２〜３１４、ｃ３１〜ｃ３５の作製
偏光板Ｎｏ．３０１において、接着剤層Ｎｏ．３０１の水溶性接着剤をＮｏ．３０２〜３１４、ｃ３１〜ｃ３５の水溶性接着剤に変更し、下記表３に示す膜厚に変更した以外は偏光板Ｎｏ．３０１と同様にして、偏光板Ｎｏ．３０２〜３１４、ｃ３１〜ｃ３５を作製した。
（性能評価）
上記のようにして作製した各接着剤層でのブリードアウト性と各偏光板の耐久性を、以下のようにして評価した。
１）接着層でのブリードアウト性
以下のようにして、評価した。
〔ヘイズ評価〕
上記で得られた各偏光子フィルム中のヘイズを測定し、下記Ａ〜Ｃの基準で評価した。
ヘイズの測定は、各偏光子フィルムをヘイズメーター“ＨＧＭ−２ＤＰ”（商品名、スガ試験機（株）製）を用い、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に従って測定した。
評価基準
Ａ ：ヘイズが０．３％未満
Ｂ ：ヘイズが０．３％以上０．７％未満
Ｃ ：ヘイズが０．７％以上
２）耐久性の評価
偏光板耐久性試験は偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた形態で次のように行った。
ガラスの上に偏光板を上記で作製した偏光板保護フィルムが空気界面側になるように貼り付けたサンプル（約５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作製した。単板直交透過率測定ではこのサンプルのフィルムの上記で作製した偏光板保護フィルムの側を光源に向けてセットして測定した。測定は実施例２と同様にして、偏光板の直交透過率および偏光度を求めた。
その後、６０℃、相対湿度９５％の環境下で５００時間および１０００時間保存したサンプルと、８０℃、Ｄｒｙの環境下で５００時間および１０００時間保存したサンプルを作製し、波長４１０ｎｍの直交透過率および偏光度を経時保存前と同様の手法で測定した。経時前後の直交透過率の変化量および偏光度の変化量を求め、これらを偏光板特性における偏光子耐久性として下記基準で評価した。
なお、調湿なしの環境下での相対湿度は、０〜２０％の範囲であった。
−経時条件−
耐久性試験はいずれの場合もＡランク以上であることが実用上望ましい。
６０℃、相対湿度９５％の環境下で５００時間
直交透過率変化量（％）
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％以上０．４％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％以上０．８％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．８％以上
偏光度変化量（％）
Ａ＋：経時前後の偏光度変化量が０．０５％未満
Ａ ：経時前後の偏光度変化量が０．０５％以上２．０％未満
Ｂ ：経時前後の偏光度変化量が２．０％以上３．０％未満
Ｃ ：経時前後の偏光度変化量が３．０％以上
６０℃、相対湿度９５％の環境下で１０００時間
直交透過率変化量（％）
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．５％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．５％以上１．０％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が１．０％以上１．６％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が１．６％以上
偏光度変化量（％）
Ａ＋：経時前後の偏光度変化量が１．０％未満
Ａ ：経時前後の偏光度変化量が１．０％以上４．０％未満
Ｂ ：経時前後の偏光度変化量が４．０％以上６．０％未満
Ｃ ：経時前後の偏光度変化量が６．０％以上
８０℃、Ｄｒｙの環境下で５００時間
直交透過率変化量（％）
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．０５％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．０５％以上０．１％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％以上０．２％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．２％以上
偏光度変化量（％）
Ａ＋：経時前後の偏光度変化量が０．０５％未満
Ａ ：経時前後の偏光度変化量が０．０５％以上１．０％未満
Ｂ ：経時前後の偏光度変化量が１．０％以上２．０％未満
Ｃ ：経時前後の偏光度変化量が２．０％以上
８０℃、Ｄｒｙの環境下で１０００時間
Ａ＋：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％未満
Ａ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．１％以上０．３％未満
Ｂ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．３％以上０．４％未満
Ｃ ：経時前後の直交透過率の変化量が０．４％以上
偏光度変化量（％）
Ａ＋：経時前後の偏光度変化量が０．１％未満
Ａ ：経時前後の偏光度変化量が０．１％以上２．０％未満
Ｂ ：経時前後の偏光度変化量が２．０％以上４．０％未満
Ｃ ：経時前後の偏光度変化量が４．０％以上
得られた結果をまとめて下記表３に示す。
Figure 2015180911
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を接着剤層に使用すると、偏光板の耐久性（偏光子耐久性）、特に経時変化における性能、直交透過率変化量および偏光度変化量が少なく、偏光板の耐久性が大幅に改善される。
偏光度変化量は、経時に伴う変化量の影響をより受けやすいが、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を偏光子に使用した偏光板では、比較例の化合物を偏光子に使用した偏光板と比べてより効果的に変化量を低減することができた。以上の結果から、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を偏光子層に含有させることで、効果的に作用したことがわかる。
このような効果は、従来の化合物では得られないことがわかる。
実施例１〜３の結果から、本発明の偏光板用組成物を使用することで、以上に示したような優れた性能の液晶表示装置が作製できる。
２１Ａ、２１Ｂ 偏光板
２２ カラーフィルタ基板
２３ 液晶層（液晶セル）
２４ アレイ基板
２５ 導光板
２６ 光源
３１ａ、３１ａ’、３１ｂ 偏光板保護フィルム
３１１ａ 偏光板保護フィルム
３１１ｂ ハードコート層
３２ 偏光子
Ｒ 偏光方向

Claims (22)

  1. 下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含む偏光板用組成物。
    Figure 2015180911
     一般式（Ｉ）において、Ｒ1およびＲ２は各々独立に置換基を表す。Ｘは電子求引性基を表し、Ｙは、−ＯＲ１が置換する炭素原子に対して結合する原子がヘテロ原子または炭素原子である置換基を表す。ＹとＸが互いに結合して、環を形成してもよい。
  2. 前記Ｒ1が、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキルもしくはアリールのスルホニル基である請求項１に記載の偏光板用組成物。
  3. 前記Ｒ２が、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ニトロ基、ヘテロ環基またはハロゲン原子である請求項１または２に記載の偏光板用組成物。
  4. 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩ）で表される請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
    Figure 2015180911
     一般式（ＩＩ）において、Ｒ１およびＲ２は前記一般式（Ｉ）におけるＲ１およびＲ２と同義である。ＹａおよびＹｂは各々独立に、−Ｃ（ＲＸ１）（ＲＸ２）−、−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｏ−または−Ｓ−を表す。ここで、ＲＸ１およびＲＸ２は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒａは水素原子または置換基を表す。ＲＸ１、ＲＸ２およびＲａは、Ｌと結合して環を形成してもよい。Ｘａは、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−または−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲｂ）Ｏ−を表す。ここで、Ｒｂは置換基を表す。Ｌは単結合または２価の連結基を表す。これらの各基はさらに置換基で置換されていてもよい。
  5. 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩＩ）で表される請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
    Figure 2015180911
     一般式（ＩＩＩ）において、Ｌは前記一般式（ＩＩ）におけるＬと同義である。Ｒ１ａは、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキルもしくはアリールのスルホニル基を表し、Ｒ２ａはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ニトロ基、ヘテロ環基またはハロゲン原子を表す。Ｙａ１およびＹｂ１は各々独立に、−Ｃ（ＲＸ１）（ＲＸ２）−、−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｏ−または−Ｓ−を表すが、Ｙａ１およびＹｂ１のうちの少なくとも一方は−Ｎ（Ｒａ）−である。ここで、ＲＸ１およびＲＸ２は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒａは水素原子または置換基を表す。ＲＸ１、ＲＸ２およびＲａは、Ｌと結合して環を形成してもよい。これらの各基はさらに置換基で置換されていてもよい。
  6. 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＶ）で表される請求項１〜５のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
    Figure 2015180911
     一般式（ＩＶ）において、Ｒ１ａおよびＲ２ａは、前記一般式（ＩＩＩ）におけるＲ１ａおよびＲ２ａと同義である。Ｌ１は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、アルキレン基またはアリーレン基を表す。Ｒ３ａおよびＲ４ａは各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基またはアリール基を表す。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａの各基はさらに置換基を有してよい。
  7. 前記一般式（Ｉ）におけるＹ、ＸおよびＲ２のいずれかが、少なくとも１つの環構造を有する基である請求項１〜６のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
  8. 前記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）のいずれかで表される化合物が水溶性官能基を有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
  9. 前記一般式（Ｉ）で表される化合物を添加してなる請求項１〜８のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
  10. さらに樹脂を含有し、該樹脂１００質量部に対し、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の添加量が、０．０１〜３０質量部である請求項１〜９のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
  11. さらに、下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有する請求項１〜１０のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
    Figure 2015180911
     一般式（Ａ）において、Ｙａ１、Ｙｂ１およびＬは前記一般式（ＩＩＩ）におけるＹａ１、Ｙｂ１およびＬと同義である。Ｒ２は前記一般式（Ｉ）におけるＲ２と同義である。
  12. セルロースアシレート、ポリビニルアルコールまたはアシル化もしくはケタール化されたポリビニルアルコールを含有する請求項１〜１１のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
  13. ポリビニルアルコールまたはアシル化もしくはケタール化されたポリビニルアルコール、および金属化合物コロイドを含有する請求項１〜１２のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
  14. ポリビニルアルコールまたはアシル化もしくはケタール化されたポリビニルアルコール、および二色性色素を含有する請求項１〜１３のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
  15. セルロースアシレートを含有する請求項１〜１２のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
  16. 請求項１〜１２および１５のいずれか１項に記載の偏光板用組成物からなる偏光板保護フィルム。
  17. 請求項１〜１２および１４のいずれか１項に記載の偏光板用組成物からなる偏光子。
  18. 請求項１〜１３のいずれか１項に記載の偏光板用組成物からなる接着剤層または粘着剤層を有する偏光板。
  19. 請求項１６に記載の偏光板保護フィルムを有する偏光板。
  20. 請求項１７に記載の偏光子を有する偏光板。
  21. 請求項１８〜２０のいずれか１項に記載の偏光板を具備した液晶表示装置。
  22. 下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物。
    Figure 2015180911
    一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ１ａは、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキルもしくはアリールのスルホニル基を表し、Ｒ２ａはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ニトロ基、ヘテロ環基またはハロゲン原子を表す。Ｙａ１およびＹｂ１は各々独立に、−Ｃ（ＲＸ１）（ＲＸ２）−、−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｏ−または−Ｓ−を表すが、Ｙａ１およびＹｂ１の少なくとも一方は−Ｎ（Ｒａ）−である。ここで、ＲＸ１およびＲＸ２は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒａは水素原子または置換基を表す。ＲＸ１、ＲＸ２およびＲａは、Ｌと結合して環を形成してもよい。Ｌは単結合または２価の連結基を表す。これらの各基はさらに置換基で置換されていてもよい。
JP2014171033A 2014-03-05 2014-08-25 偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、偏光子、偏光板、液晶表示装置およびこれに用いる化合物 Active JP6366426B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014171033A JP6366426B2 (ja) 2014-03-05 2014-08-25 偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、偏光子、偏光板、液晶表示装置およびこれに用いる化合物
CN201580011980.8A CN106133564B (zh) 2014-03-05 2015-03-03 偏振片用组合物、偏振片保护膜、偏振器、偏振片、液晶显示装置及用于此的化合物
PCT/JP2015/056234 WO2015133485A1 (ja) 2014-03-05 2015-03-03 偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、偏光子、偏光板、液晶表示装置およびこれに用いる化合物
US15/254,649 US20160369115A1 (en) 2014-03-05 2016-09-01 Polarizing plate composition, polarizing plate protective film, polarizer, polarizing plate, liquid crystal display device, and compound used in the liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014043363 2014-03-05
JP2014043363 2014-03-05
JP2014171033A JP6366426B2 (ja) 2014-03-05 2014-08-25 偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、偏光子、偏光板、液晶表示装置およびこれに用いる化合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015180911A true JP2015180911A (ja) 2015-10-15
JP6366426B2 JP6366426B2 (ja) 2018-08-01

Family

ID=54055291

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014171033A Active JP6366426B2 (ja) 2014-03-05 2014-08-25 偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、偏光子、偏光板、液晶表示装置およびこれに用いる化合物

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20160369115A1 (ja)
JP (1) JP6366426B2 (ja)
CN (1) CN106133564B (ja)
WO (1) WO2015133485A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022085400A1 (ja) * 2020-10-22 2022-04-28 住友化学株式会社 偏光板及び画像表示装置
WO2022102363A1 (ja) * 2020-11-13 2022-05-19 住友化学株式会社 偏光板及び画像表示装置
WO2022102362A1 (ja) * 2020-11-13 2022-05-19 住友化学株式会社 偏光板及び画像表示装置

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018133054A1 (zh) * 2017-01-21 2018-07-26 深圳纽迪瑞科技开发有限公司 压力感应式结构及电子产品
JP6979078B2 (ja) * 2017-09-29 2021-12-08 富士フイルム株式会社 偏光板保護膜、偏光板、及び液晶表示装置
KR20200115513A (ko) * 2018-01-31 2020-10-07 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 광불안정성 바르비투레이트 화합물
US11327010B2 (en) 2018-01-31 2022-05-10 3M Innovative Properties Company Infrared light transmission inspection for continuous moving web
JP7282790B2 (ja) 2018-01-31 2023-05-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 製造されたウェブを検査するための仮想カメラアレイ
CN110888242B (zh) * 2019-10-21 2021-05-18 湖南波比生物科技有限公司 一种黑色素的应用方法及黑色素镜片的制备方法
CN115073707B (zh) * 2021-03-10 2023-09-26 万华化学集团股份有限公司 一种苯二亚甲基二异氰酸酯组合物及其制备方法和应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05504148A (ja) * 1990-02-22 1993-07-01 フアルミタリア・カルロ・エルバ・エツセ・エルレ・エルレ ウラシル誘導体の製造法
JPH06148841A (ja) * 1992-10-30 1994-05-27 Fuji Photo Film Co Ltd 写真用カラー現像組成物およびそれを用いた処理方法
JPH07333780A (ja) * 1994-06-10 1995-12-22 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料およびその処理方法
JP2011126968A (ja) * 2009-12-16 2011-06-30 Fujifilm Corp セルロースアシレートフィルム、位相差フィルム、偏光板および液晶表示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05504148A (ja) * 1990-02-22 1993-07-01 フアルミタリア・カルロ・エルバ・エツセ・エルレ・エルレ ウラシル誘導体の製造法
JPH06148841A (ja) * 1992-10-30 1994-05-27 Fuji Photo Film Co Ltd 写真用カラー現像組成物およびそれを用いた処理方法
JPH07333780A (ja) * 1994-06-10 1995-12-22 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料およびその処理方法
JP2011126968A (ja) * 2009-12-16 2011-06-30 Fujifilm Corp セルロースアシレートフィルム、位相差フィルム、偏光板および液晶表示装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022085400A1 (ja) * 2020-10-22 2022-04-28 住友化学株式会社 偏光板及び画像表示装置
WO2022102363A1 (ja) * 2020-11-13 2022-05-19 住友化学株式会社 偏光板及び画像表示装置
WO2022102362A1 (ja) * 2020-11-13 2022-05-19 住友化学株式会社 偏光板及び画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN106133564A (zh) 2016-11-16
JP6366426B2 (ja) 2018-08-01
US20160369115A1 (en) 2016-12-22
WO2015133485A1 (ja) 2015-09-11
CN106133564B (zh) 2018-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6274673B2 (ja) 偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、セルロースアシレートフィルム、偏光子、偏光板および表示装置
JP6366426B2 (ja) 偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、偏光子、偏光板、液晶表示装置およびこれに用いる化合物
JP6383608B2 (ja) 偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、偏光子、偏光板および液晶表示装置
KR101852693B1 (ko) 셀룰로오스 아실레이트 필름, 그것을 사용한 편광판 및 액정 표시 장치
JP2012014148A (ja) 偏光板および液晶表示装置
KR101778477B1 (ko) 편광판, 그것을 구비한 액정 표시 장치
JP6238415B2 (ja) 光学フィルム、それを用いた偏光板および液晶表示装置
KR101697402B1 (ko) 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치
JP6059808B2 (ja) 光学フィルム、それを用いた偏光板および液晶表示装置
KR101620188B1 (ko) 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치
JP5948287B2 (ja) 偏光板保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置
JP2017122854A (ja) 液晶表示装置
JP6265559B2 (ja) 光学フィルム、それを用いた偏光板および液晶表示装置
KR101637082B1 (ko) 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치
JP6078490B2 (ja) セルロースアシレートフィルム、偏光板保護フィルム、それを用いた偏光板および液晶表示装置
KR101745232B1 (ko) 광학 필름, 이를 이용한 편광판 및 액정 표시 장치
US10001584B2 (en) Optical film, and polarizing plate and liquid crystal display device that use this optical film
KR102126094B1 (ko) 라디칼 경화형 접착제 조성물 및 이를 포함하는 편광판
JP2004315574A (ja) セルロースアシレートフィルム、その製造方法、該フィルムを用いた光学フィルム、画像表示装置およびハロゲン化銀写真感光材料支持体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160303

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170314

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170515

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20170515

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20170515

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171017

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171218

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20171218

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180605

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180703

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6366426

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250