JP2015171721A - シーム溶接装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シーム溶接を行う前に、電極ホルダ3a,3bと押さえ板ホルダ8とを下降させたときに、ローラ電極1a,1bがワーク20と接触する。ソレノイド9は、ワーク20にローラ電極1a,1bが接触してシーム溶接が行われた後に、アーム7を介して昇降部6と押さえ板5とを下降させ、押さえ板5をワーク20と接触させる。ソレノイド9は、電極ホルダ3a,3bと押さえ板ホルダ8とが上昇してローラ電極1a,1bがワーク20から離れた後に、アーム7を介して昇降部6と押さえ板5とを上昇させ、押さえ板5をワーク20から離す。
【選択図】 図1
Description
気密封止法は、金属又はセラミックスのパッケージの中に素子を収納固定し、乾燥した不活性ガス雰囲気中でリッド(蓋)をかぶせて素子を完全に密封する方法である。この気密封止法によれば、水分などの不純物の侵入がなく、また局所加熱による封止なので、熱応力の影響も少なく樹脂封止に比べて高い封止信頼性を得ることができる。
図6はシーム溶接装置によるシーリング作業を説明する図である。シーム溶接装置は、円板状のローラ電極100a,100bと、ローラ電極100a,100bに給電する導電シャフト101a,101bと、導電シャフト101a,101bに給電する電極ホルダ102a,102bと、電極ホルダ102a,102bを保持する電極保持アーム103a,103bとを備えている。図6における104はICや水晶振動子等のチップ、105はチップ104を収納するパッケージ、106はリッドである。
しかしながら、従来のシーム溶接装置では、溶接終了後にローラ電極100a,100bを上昇させると、ワーク(パッケージ105とリッド106)がローラ電極100a,100bに付着したまま上昇してしまうという問題点があった。
また、本発明のシーム溶接装置の1構成例において、前記吊り下げ機構は、前記押さえ板を前記1対のローラ電極の間に吊り下げる形で支持する支持部材と、前記支持部材を上下動可能に支持する押さえ板ホルダと、前記アクチュエータの動きを前記支持部材に伝達するアームとからなり、前記駆動機構は、前記電極ホルダを上下動可能に支持すると同時に、前記押さえ板ホルダを支持し、シーム溶接を行う前に前記電極ホルダと前記押さえ板ホルダとを前記ワークに近づく方向に下降させ、シーム溶接終了後に前記電極ホルダと前記押さえ板ホルダとを前記ワークから離れる方向に上昇させ、前記アクチュエータは、前記電極ホルダの下降により前記ワークに前記1対のローラ電極が接触してシーム溶接が行われた後に、前記アームを介して前記支持部材と前記押さえ板とを下降させ、前記電極ホルダと前記押さえ板ホルダとが上昇して前記1対のローラ電極がワークから離れた後に、前記アームを介して前記支持部材と前記押さえ板とを上昇させることを特徴とするものである。
ソレノイド9のプッシュロッド(押し出し棒)16は、図1(B)の17の位置でアーム7と接触している。ソレノイド9がオフの状態(プッシュロッド16が最短の状態)では、アーム7がバネ12a,12bによって上方に引き上げられ、ストッパ13に当接する位置で止まる。アーム7は昇降部6に設けられた突起15の位置で昇降部6を下から支えるようになっており、アーム7の動作により昇降部6が上方に押し上げられる。この状態では、押さえ板5の下端は、図1(B)に示すようにローラ電極1a,1bの下端よりも上方に位置するようになっている。
まず、制御部32は、駆動機構30によって電極ホルダ3a,3bと押さえ板ホルダ8とを下降させる。この下降に伴ってローラ電極1a,1bと押さえ板5も下降する。図3のように、ローラ電極1a,1bがワーク20(図6の例ではパッケージ105とリッド106)と接触すると、電極ホルダ3a,3bの下降が抑えられる。制御部32は、電極ホルダ3a,3bを下降させようとしているにも拘わらず、電極ホルダ3a,3bが下降しないので、ローラ電極1a,1bとワーク20とが接触したことを検知し、駆動機構30による電極ホルダ3a,3bと押さえ板ホルダ8の駆動を停止する。この状態では、ソレノイド9がオフなので、上記のとおり押さえ板5の下端は、ローラ電極1a,1bの下端よりも上方に位置するようになっている。
なお、駆動機構30はシーム溶接装置を収納する真空チャンバーの外に配設することができるので、真空中で使用可能なソレノイド9を採用すれば、真空中での溶接に本発明を適用することができる。
また、本実施の形態では、アクチュエータの例としてソレノイド9を例に挙げて説明しているが、これに限るものではなく、例えば油圧アクチュエータを用いてもよい。
Claims (3)
- 1対のローラ電極と、
前記ローラ電極を導電シャフトを介して回動自在に軸支すると同時に前記ローラ電極に給電するための電極ホルダと、
絶縁材料からなる押さえ板と、
前記押さえ板を前記1対のローラ電極の間に吊り下げる形で支持する吊り下げ機構と、
前記電極ホルダと前記吊り下げ機構とをトレイ上に載置された溶接対象のワークと垂直な方向に移動させる駆動機構と、
前記押さえ板を前記ワークと垂直な方向に移動させるアクチュエータとを備え、
前記駆動機構は、シーム溶接を行う前に前記電極ホルダと前記吊り下げ機構とを前記ワークに近づく方向に下降させ、シーム溶接終了後に前記電極ホルダと前記吊り下げ機構とを前記ワークから離れる方向に上昇させ、
前記アクチュエータは、前記電極ホルダの下降により前記ワークに前記1対のローラ電極が接触してシーム溶接が行われた後に、前記押さえ板を下降させて前記ワークと接触させ、前記電極ホルダと前記吊り下げ機構とが上昇して前記1対のローラ電極が前記ワークから離れた後に、前記押さえ板を上昇させて前記ワークから離すことを特徴とするシーム溶接装置。 - 請求項1記載のシーム溶接装置において、
さらに、前記駆動機構と前記アクチュエータとを制御する制御手段と、
動作タイミング情報を予め記憶する記憶手段とを備え、
前記制御手段は、前記動作タイミング情報に基づいて前記駆動機構と前記アクチュエータとを制御することを特徴とするシーム溶接装置。 - 請求項1または2記載のシーム溶接装置において、
前記吊り下げ機構は、
前記押さえ板を前記1対のローラ電極の間に吊り下げる形で支持する支持部材と、
前記支持部材を上下動可能に支持する押さえ板ホルダと、
前記アクチュエータの動きを前記支持部材に伝達するアームとからなり、
前記駆動機構は、前記電極ホルダを上下動可能に支持すると同時に、前記押さえ板ホルダを支持し、シーム溶接を行う前に前記電極ホルダと前記押さえ板ホルダとを前記ワークに近づく方向に下降させ、シーム溶接終了後に前記電極ホルダと前記押さえ板ホルダとを前記ワークから離れる方向に上昇させ、
前記アクチュエータは、前記電極ホルダの下降により前記ワークに前記1対のローラ電極が接触してシーム溶接が行われた後に、前記アームを介して前記支持部材と前記押さえ板とを下降させ、前記電極ホルダと前記押さえ板ホルダとが上昇して前記1対のローラ電極がワークから離れた後に、前記アームを介して前記支持部材と前記押さえ板とを上昇させることを特徴とするシーム溶接装置。
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