JP2015168866A - 硫酸系銅電解液、及びこの電解液を用いた粒状銅粉の製造方法 - Google Patents
硫酸系銅電解液、及びこの電解液を用いた粒状銅粉の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015168866A JP2015168866A JP2014046024A JP2014046024A JP2015168866A JP 2015168866 A JP2015168866 A JP 2015168866A JP 2014046024 A JP2014046024 A JP 2014046024A JP 2014046024 A JP2014046024 A JP 2014046024A JP 2015168866 A JP2015168866 A JP 2015168866A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper powder
- electrolyte
- copper
- sulfuric acid
- granular
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
Description
本発明に係る硫酸系銅電解液は、銅イオンと、電解液1Lあたり1mg以上のポリアルキレングリコールと、電解液1Lあたり200mg以上の塩化物イオンとを含有する。
銅イオン源は特に限定されないが、代表的なものとして、硫酸銅五水和物が挙げられる。銅イオンの濃度は、電解液1Lあたり20g以下であることが好ましく、15g以下であることがより好ましく、10g以下であることがさらに好ましい。銅イオン濃度が高すぎると、電気分解の際に陰極に析出される電解銅粉の粒子形状を適切に制御することが難しいとともに、電解銅粉の平均粒子径が5μmを超える可能性があるため、好ましくない。
ポリアルキレングリコールの例として、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びこれらのコポリマー、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリエチレングリコールアルキルエーテル等が挙げられる。これらのポリアルキレングリコールは、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
塩化物イオン源は特に制限されないが、代表的なものとして、塩酸、塩化ナトリウム等が挙げられる。塩化物イオンの濃度は、電解液1Lあたり200mg以上であることが好ましく、250mg以上であることがより好ましい。塩化物イオン濃度が低すぎると、電解銅粉の平均粒子径が5μmを超える可能性があるため、好ましくない。
本発明の電解液は硫酸系である。硫酸の濃度は、電解液1Lあたり20g以上300g以下であることが好ましく、50g以上150g以下であることがより好ましい。硫酸濃度は、銅イオンの溶解度に影響する。硫酸濃度が低すぎる場合、高すぎる場合のいずれであっても、銅イオンの溶解度が低くなり、電解液中に硫酸銅の結晶が析出されることになるため、好ましくない。
本発明に係る粒状銅粉の製造方法は、上記の硫酸系銅電解液を電気分解して負極に粒状銅粉を析出させる工程を含む。
導電ペーストは、上記粒状銅粉の製造方法によって製造された粒状銅粉を樹脂と混合することによって得られる。樹脂の種類は特に限定されるものでなく、フェノール樹脂、ポリアセタール樹脂等、導電ペーストで用いられる樹脂を広く利用できる。また、導電ペーストは、溶剤、可塑剤、潤滑剤、分散剤、帯電防止剤等を含むものであってもよい。
以下の組成からなる硫酸系銅電解液を調製し、実施例及び比較例に係る硫酸系銅電解液を得た。
〔硫酸系銅電解液の組成〕
硫酸銅五水和物:銅イオン濃度が10g/L
ポリアルキレングリコール:下記表1に記載のとおり
塩化物イオン:下記表1に記載のとおり
硫酸:遊離硫酸濃度が100g/L
ポリエチレングリコール:和光純薬工業社製,数平均分子量4,000
ポリプロピレングリコール:和光純薬工業社製,数平均分子量3,000
ポリエチレングリコール脂肪酸エステル:花王社製エマノーン3199V,数平均分子量150
ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールのコポリマー:ADEKA社製アデカプルロニックF−88,数平均分子量10,800
Claims (5)
- 銅イオンと、電解液1Lあたり1mg以上のポリアルキレングリコールと、電解液1Lあたり200mg以上の塩化物イオンとを含有する硫酸系銅電解液。
- 前記銅イオンの濃度が電解液1Lあたり20g以下である、請求項1に記載の硫酸系銅電解液。
- 請求項1又は2に記載の硫酸系銅電解液を電気分解して負極に粒状銅粉を析出させる、粒状銅粉の製造方法。
- 前記電気分解は、前記硫酸系銅電解液の温度が20℃以上60℃以下であり、電流密度が5A/dm2以上30A/dm2以下である条件の下で行われる、請求項3に記載の粒状銅粉の製造方法。
- レーザ回折散乱法粒子径分布測定の体積基準の積算分率における前記銅粉の50%径(D50)が5μm以下である、請求項3又は4に記載の粒状銅粉の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014046024A JP6318718B2 (ja) | 2014-03-10 | 2014-03-10 | 硫酸系銅電解液、及びこの電解液を用いた粒状銅粉の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014046024A JP6318718B2 (ja) | 2014-03-10 | 2014-03-10 | 硫酸系銅電解液、及びこの電解液を用いた粒状銅粉の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015168866A true JP2015168866A (ja) | 2015-09-28 |
JP6318718B2 JP6318718B2 (ja) | 2018-05-09 |
Family
ID=54201882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014046024A Active JP6318718B2 (ja) | 2014-03-10 | 2014-03-10 | 硫酸系銅電解液、及びこの電解液を用いた粒状銅粉の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6318718B2 (ja) |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5716188A (en) * | 1980-07-03 | 1982-01-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Electrolytic refinery of copper |
JPS59200786A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-14 | Okuno Seiyaku Kogyo Kk | 硫酸銅メツキ浴及びこれを使用するメツキ方法 |
JP2000511235A (ja) * | 1996-05-30 | 2000-08-29 | エントン・オーエムアイ・インコーポレイテッド | 銅添加剤としてのアルコキシル化ジメルカプタン類 |
JP2001123289A (ja) * | 1999-10-27 | 2001-05-08 | Dowa Mining Co Ltd | 電解銅箔およびその製造方法 |
JP2003328180A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-19 | Denso Corp | 有底孔のめっき充填方法 |
JP2005307343A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-11-04 | Mitsubishi Materials Corp | 高純度電気銅とその製造方法 |
JP2006283169A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Okuno Chem Ind Co Ltd | 酸性電気銅めっき液、及び含硫黄有機化合物の電解消耗量の少ない電気銅めっき方法 |
JP2009041096A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 銅めっき液組成物 |
JP2013168375A (ja) * | 2013-04-03 | 2013-08-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | デンドライト状銅粉 |
JP2013216934A (ja) * | 2012-04-06 | 2013-10-24 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 電解銅粉の製造方法、酸化第二銅微粉末の製造方法および硫酸銅水溶液の銅イオンの供給方法 |
-
2014
- 2014-03-10 JP JP2014046024A patent/JP6318718B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5716188A (en) * | 1980-07-03 | 1982-01-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Electrolytic refinery of copper |
JPS59200786A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-14 | Okuno Seiyaku Kogyo Kk | 硫酸銅メツキ浴及びこれを使用するメツキ方法 |
JP2000511235A (ja) * | 1996-05-30 | 2000-08-29 | エントン・オーエムアイ・インコーポレイテッド | 銅添加剤としてのアルコキシル化ジメルカプタン類 |
JP2001123289A (ja) * | 1999-10-27 | 2001-05-08 | Dowa Mining Co Ltd | 電解銅箔およびその製造方法 |
JP2003328180A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-19 | Denso Corp | 有底孔のめっき充填方法 |
JP2005307343A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-11-04 | Mitsubishi Materials Corp | 高純度電気銅とその製造方法 |
JP2006283169A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Okuno Chem Ind Co Ltd | 酸性電気銅めっき液、及び含硫黄有機化合物の電解消耗量の少ない電気銅めっき方法 |
JP2009041096A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 銅めっき液組成物 |
JP2013216934A (ja) * | 2012-04-06 | 2013-10-24 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 電解銅粉の製造方法、酸化第二銅微粉末の製造方法および硫酸銅水溶液の銅イオンの供給方法 |
JP2013168375A (ja) * | 2013-04-03 | 2013-08-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | デンドライト状銅粉 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6318718B2 (ja) | 2018-05-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107935026B (zh) | 一种利用电解制备纳米氧化铟的方法和装置 | |
CN103231072A (zh) | 高温电子浆料用二氧化硅/银核壳复合粉的制备方法 | |
CN108672718B (zh) | 一种类球形银粉的制备方法 | |
WO2014192650A1 (ja) | 水酸化インジウム粉の製造方法及び酸化インジウム粉の製造方法、並びにスパッタリングターゲット | |
CN105345023B (zh) | 分散性好的超细银粉的制备方法 | |
CN103273056A (zh) | 一种片状铜粉及其制备方法 | |
JP6225783B2 (ja) | 銅微粒子、導電ペースト組成物及びこれらの製造方法 | |
EP2818583A1 (en) | Electrolytic manganese dioxide, method for producing same, and use of same | |
US10695830B2 (en) | Copper powder, copper paste using same, conductive coating material, conductive sheet, and method for producing copper powder | |
JP4149364B2 (ja) | デンドライト状微粒銀粉及びその製造方法 | |
KR840001661B1 (ko) | 고활성은 음극 | |
CN113737223B (zh) | 一种表面具有片状叠层结构的棒状银粉制备方法 | |
JP6318718B2 (ja) | 硫酸系銅電解液、及びこの電解液を用いた粒状銅粉の製造方法 | |
JP2008223096A (ja) | フレーク状銀粉の製造方法 | |
JP2002544382A (ja) | ニッケル水酸化物の製法 | |
JP2013216934A (ja) | 電解銅粉の製造方法、酸化第二銅微粉末の製造方法および硫酸銅水溶液の銅イオンの供給方法 | |
JP6318719B2 (ja) | 硫酸系銅電解液、及びこの電解液を用いたデンドライト状銅粉の製造方法 | |
JP4940503B2 (ja) | 電解二酸化マンガン粉末およびその製造法 | |
CN108884577B (zh) | 电解二氧化锰和其制造方法以及其用途 | |
US9586822B2 (en) | Size and morphologically controlled nanostructures for energy storage | |
WO1989004736A1 (en) | Process for producing particulate metal powder | |
US9163318B2 (en) | Oxygen-consuming electrode and process for production thereof | |
Avramović et al. | The particle size distribution (PSD) as criteria for comparison of silver powders obtained by different methods of synthesis and by conditions of electrolysis | |
JP7039927B2 (ja) | 電解二酸化マンガン及びその用途 | |
JP3792772B2 (ja) | 易粉砕性電解ニッケル |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160606 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170307 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170501 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170905 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171031 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180306 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180319 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6318718 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |